JP2009222733A - ノボラック樹脂ブレンドを含むフォトレジスト - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射線感受性成分および少なくとも2種の異なるノボラック樹脂を含む、フォトレジスト組成物が提供される。一態様において、本発明のフォトレジストは、例えば水性現像溶液中で1秒あたり800オングストロームを超えるなど、顕著に高い溶解速度を示す。別の態様において、本発明のフォトレジストは、例えば100mJ/cm2以下などの、良好なフォトスピードを示すことができる。
【選択図】なし
Description
「DeForest、Photoresist、Materials and Processes」、McGraw−Hill Book Company、ニューヨーク、1975年
以下に特定する量で以下の物質を混合することによって、フォトレジスト組成物を調製した。
Claims (10)
- (i)ジアゾ−ナフトキノン物質を含む放射線感受性成分、および
(ii)少なくとも2種の異なるノボラック樹脂、
を含み、
フォトレジストが水性アルカリ性現像液中で1秒あたり800オングストローム以上の溶解速度を示す、フォトレジスト組成物。 - (i)ジアゾ−ナフトキノン物質を含む放射線感受性成分、および
(ii)少なくとも2種の異なるノボラック樹脂、
を含み、
フォトレジストが100mJ/cm2以下のフォトスピードを示す、フォトレジスト組成物。 - フォトレジストが100mJ/cm2以下のフォトスピードを示す、請求項1に記載のフォトレジスト組成物。
- ノボラック樹脂が、1)クレゾール反応生成物並びに2)ベンズアルデヒドおよび/またはサリチルアルデヒドの反応生成物を含む、請求項1から3のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。
- 放射線感受性成分が、ポリマー性ジアゾナフトキノン光活性化合物を含む、請求項1から4のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物。
- 放射線感受性成分が、非ポリマー性ジアゾナフトキノン光活性化合物を含む、請求項5に記載のフォトレジスト組成物。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載のフォトレジスト組成物を基体上に適用すること;並びに、
フォトレジスト層を露光および現像してレジストレリーフ像を提供すること;
を含む、フォトレジストレリーフ像を形成する方法。 - フォトレジスト組成物が、365nm、405nmおよび/または435nmの波長を有する放射線で露光される、請求項7に記載の方法。
- 基体がフラットパネルディスプレイ基体である、請求項7に記載の方法。
- 基体が半導体基体である、請求項7に記載の方法。
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