JP2006170603A - 廃ガス処理装置 - Google Patents
廃ガス処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006170603A JP2006170603A JP2005307244A JP2005307244A JP2006170603A JP 2006170603 A JP2006170603 A JP 2006170603A JP 2005307244 A JP2005307244 A JP 2005307244A JP 2005307244 A JP2005307244 A JP 2005307244A JP 2006170603 A JP2006170603 A JP 2006170603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste gas
- water
- dry
- burning chamber
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/06—Spray cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E20/00—Combustion technologies with mitigation potential
- Y02E20/30—Technologies for a more efficient combustion or heat usage
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
- Chimneys And Flues (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Abstract
【解決手段】廃ガス処理装置を、バーナー110、マニホールド120及びバーニングチャンバ130で構成される乾式ユニット100と、精製/冷却ユニット210、凝縮ユニット220及び水処理塔230からなる湿式ユニット200で構成する。そしてマニホールド120に導入された排ガスをブリーシング壁132を設けたバーニングチャンバ130に導入し、バーナー110で熱分解した後、湿式ユニット200を通して冷却・排出する。
【選択図】図1
Description
これらの化学ガスは、毒性が比較的強いとされているため、工程に利用された後にそのまま廃ガスとして大気中に放出されると、人体に致命的な影響を及ぼしたり、自然発火による火事が発生したり、又は環境問題を発生させる等の可能性がある。
すなわち、乾湿式廃ガス処理装置における乾式ユニットでは、廃ガスによる装置内の腐食と、廃ガスの燃焼によって生じるパウダーが装置内に蒸着するという問題がある。これらの問題は装置の構成劣化を招くので、効率良く廃ガスを処理することの妨げとなり、優先的に解決すべき課題である。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、効率的に廃ガスを処理し、廃ガスによる装置内ユニットの腐食とパウダーの蒸着を最小化した廃ガス処理装置を提供することを目的とする。
また、前記ブリーシング壁は多孔性セラミックスを含む材料からなる構成とすることもできる。
さらに前記精製/冷却ユニットは、前記バーニングチャンバと連通され、廃ガスと面する側壁に水膜が形成されるものであって、前記側壁において、微細な水粒子を噴霧する複数のノズルの少なくともいずれかが互いに異なる高さに設けられた構成とすることもできる。
さらに、前記廃水処理槽の内部には熱交換器を設けることも可能である。
また、前記水処理モジュールを通過させた廃ガスに乾燥外気を供給し、これにより乾燥させた当該ガスを排気ダクトから排出させる構成とすることもできる。
また、廃ガスを予め水分除去してから排気ダクトより排出する構成とすれば、当該排気ダクトにガスが付着しにくくなり、その腐食を防止することができるようになるため望ましい。
図1は本発明による廃ガス処理装置を示す構成図である。
当図に示されるように、本廃ガス処理装置は乾湿式のものであって、大別してバーナー110、マニホールド120及びバーニングチャンバ130で構成される乾式ユニット100と、精製/冷却ユニット210、凝縮ユニット220及び水処理塔230で構成される湿式ユニット200で構成される。
熱分解可能なガスとしては、H2、SiH4、O3、TEOS[(C2H5O)4Si]、TEB[B(C2H5)3]、TEPO[P(OC2H5)3]、TiCl4、TDMAT(Ti[N(CH3)2]4)、TCE(C2HCl3)、DCS(SiH2Cl2)、NH3、NF3、NO、N2O、PH3、WF6、AsH3、As、VOCs等が挙げられる。
さらに水溶性ガスとしては、HCl、DCS(SiH2Cl2)、NH3、ClF3、SiF4、F2、HF、SiCl4、WF6、TiCl4、NH4Cl、TDMAT(Ti[N(CH3)2]4)、AlCl3、Cl2、TCA(C10H4Cl6O4)、BCl3、HBr、SO2、B、BF3、TEOS((C2H5O)4Si)、TiF4 等が挙げられる。
マニホールド120は、外部より供給される廃ガスをバーニングチャンバ130に流通させるための流入口122を備えている。ここで図1のように、流入口122をマニホールド120の上部側面に配設すると、供給される廃ガスがサイクロン運動し、バーナー120から放出される火炎に集中させることができるので望ましい。
図2は本発明に適用されるバーナーの構成を詳細に示す断面図である。
このようにシールド116を設けることで、バーナー110内部からマニホールド120の内部空間に伝達される高熱を断熱でき、廃ガスに含まれるパウダーが装置内部に蒸着するのを最小化することができる。これにより、廃ガスの化学的影響によるバーナー110の腐食を防止することができるようになる。
バーニングチャンバ130の内部には、微細多孔が側壁に形成された円筒状のブリーシング壁132が配設されている。このブリーシング壁132を設けることで、バーナー110の火炎による1300℃程度の高熱がバーニングチャンバ130の側壁まで伝達されるのを断熱することができる。
以下、湿式ユニット200に対して詳細に説明する。湿式ユニット200は、前記加熱処理したガスを水溶性ガスとして処理するものである。
図3は図1のAにおける精製/冷却ユニット210の構成を示す拡大断面図である。
この動作をなすため、精製/冷却ユニット210の側壁には複数の微細ノズル213が設けられ、流入口212に窒素と水とを同時に供給受けてこれを噴射することで、水が霧粒子の如く微細粒子として噴射される。これにより廃ガス処理時に発生するパウダーが装置内壁に蒸着する前に水とともに落下するので、廃ガスにより精製/冷却ユニット210の側壁が化学的に腐食してしまうのを回避できるようになっている。
さらに、精製/冷却ユニット210の側壁では図3に示すように水膜214を形成することで、前記パウダーの付着をより一層防止されるようになっている。具体的に水膜214を形成するためには、例えば、バーニングチャンバ130と精製/冷却ユニット210の結合部分に間隙を形成し、当該間隙から水を供給する方法が採れる。
これにより駆動時には、前記二重管の内側管を通じて高温の前記廃ガスを水処理塔230に移動させるとともに、前記二重管の外側管を通じて冷却水を水処理塔230へと流通させることで、前記内側管を通る廃ガスが効果的に冷却される構成となっている。
水処理モジュールは、図1に示すように、廃ガスの流通通路であるパッキングスタック232、232aと、当該パッキングスタック232、232aに対して水を噴射するスプレーノズル234、234aで構成される。パッキングスタック232、232aは、数百個のパッキングが堆積された構成を有し、各パッキングの間に形成されるガスの流通経路が長く、且つ、ガスとの接触面積が大きくなるよう構成されている。これにより、廃ガスが前記パッキングスタック232、232a中の流通経路を流通する間において、パッキングスタック232、232aの表面上でスプレーノズル234、234aによって噴射された水と良好な接触面積及び接触時間で接触され、短時間で急速に冷却されることとなり、優れた冷却効率が確保される。
一方、廃水処理槽300には、凝縮ユニット220から凝縮された廃水や粉塵と結合された廃水、水処理塔230から処理された廃水を流入して貯蔵し、望ましくは、リサイクリングのために適正な温度を維持するように内部に熱交換器を設けることができる。
スクラバーインレット側のNF3の濃度とスクラバーアウトレット側のNF3の濃度を見ると、NF3がほとんど検出されないことが分かる。即ち、NF3ガスは熱分解が可能であり水溶性ガスとして水処理によって除去されて、微量のHFガスのみが検出され、処理効率はほとんど99.9%に至ることが分かる。
続いて、図5は本発明の廃ガス処理装置によるNH3の水処理効率を示すグラフである。
当図から、それぞれの流量比に対して除去効率はほとんど99.95%以上であることが分かる。これにより、本発明の有効な効果が確認できる。
110 バーナー
116 シールド
120 マニホールド
130 バーニングチャンバ(burning chamber)
132 ブリーシング壁(breathing wall)
200 湿式ユニット
210 精製/冷却ユニット
213 微細ノズル
214 水膜
220 凝縮ユニット
230 水処理塔
232、232a パッキングスタック
Claims (7)
- 廃ガスをバーニングチャンバに流入させるマニホールドと、
前記マニホールド内部に設けられ、燃焼ガスと空気を流入させて点火させるバーナーと、
前記バーナーの火炎を利用して、前記マニホールドから流入される廃ガスを燃焼処理又は熱分解するバーニングチャンバと、
当該バーニングチャンバ内において、当該バーニングチャンバの外部より導入される不活性ガスの流通経路となる微細多孔が側壁に形成され、前記廃ガスの燃焼に伴い発生するパウダーの蒸着を防止する目的で、前記火炎の高熱を断熱するように設けられたブリーシング壁と、
ダウンストリームに沿って、前記バーニングチャンバからの廃ガスに水を噴射して、精製及び冷却する精製/冷却ユニットと、
前記精製された廃ガスを凝縮する凝縮ユニットと、
前記廃ガスの進行通路となるパッキングスタックと、前記パッキングスタックに水を噴射するスプレーノズルを有する水処理モジュールが少なくとも一つ以上設けられ、アップストリームに沿って前記凝縮ユニットから流入される廃ガスを処理する水処理塔と、
前記凝縮ユニットで凝縮された廃水及び前記水処理塔で処理された廃水を貯蔵する廃水処理槽と
を含む構成であることを特徴とする乾湿式廃ガス処理装置。 - さらに、前記バーナーを一定間隔を置いて取り囲むシールドを有し、前記間隙にダウンストリームに沿って不活性ガスが供給される構成である
ことを特徴とする請求項1に記載の乾湿式廃ガス処理装置。 - 前記ブリーシング壁は多孔性セラミックスを含む材料からなる構成である
こと特徴とする請求項1に記載の乾湿式廃ガス処理装置。 - 前記精製/冷却ユニットは、前記バーニングチャンバと連通され、廃ガスと面する側壁に水膜が形成されるものであって、
前記側壁において、微細な水粒子を噴霧する複数のノズルの少なくともいずれかが互いに異なる高さに設けられた構成である
ことを特徴とする請求項1に記載の乾湿式廃ガス処理装置。 - 前記精製/冷却ユニットと水処理塔の間の凝縮ユニット部分は同心上の二重管で構成され、前記二重管の内側管を通じて前記処理されたガスを前記水処理塔に移動させ、前記二重管の外側管を通じて冷却水を通過させる構成である
ことを特徴とする請求項1に記載の乾湿式廃ガス処理装置。 - 前記廃水処理槽の内部に熱交換器が設けられた構成である
ことを特徴とする請求項1に記載の乾湿式廃ガス処理装置。 - 前記水処理モジュールを通過させた廃ガスに乾燥外気を供給し、これにより乾燥させた当該ガスを排気ダクトから排出させる構成である
ことを特徴とする請求項1に記載の乾湿式廃ガス処理装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040104854A KR100647997B1 (ko) | 2004-12-13 | 2004-12-13 | 폐가스 처리 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006170603A true JP2006170603A (ja) | 2006-06-29 |
JP4153942B2 JP4153942B2 (ja) | 2008-09-24 |
Family
ID=36671545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005307244A Active JP4153942B2 (ja) | 2004-12-13 | 2005-10-21 | 廃ガス処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4153942B2 (ja) |
KR (1) | KR100647997B1 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100784448B1 (ko) | 2006-12-29 | 2007-12-11 | 주식회사 삼양제넥스 | 배기가스 냄새제거장치 및 이를 구비한 곡물 가공처리시스템 |
JP2008292077A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Japan Pionics Co Ltd | 排ガスの浄化装置 |
JP2010099571A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Edwards Kk | 除害装置 |
JP2012502792A (ja) * | 2008-09-17 | 2012-02-02 | エアガード,インコーポレイテッド | 反応性ガス制御 |
JP2013063384A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 排ガス処理方法および排ガス処理装置 |
JP2013193069A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Kanken Techno Co Ltd | ガス処理装置 |
JP2016520788A (ja) * | 2013-04-15 | 2016-07-14 | エアガード,インコーポレイテッド | 洗浄装置内の延長又は多数反応部 |
JP2017018855A (ja) * | 2015-07-07 | 2017-01-26 | オルガノ株式会社 | 空気浄化装置 |
CN112739444A (zh) * | 2019-09-03 | 2021-04-30 | 茶山有限公司 | 废气分拣分离处理装置及其控制方法 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100884286B1 (ko) * | 2007-05-30 | 2009-02-18 | 크린시스템스코리아(주) | 습식 스크러버 시스템 |
KR100921702B1 (ko) * | 2007-12-12 | 2009-10-15 | 주식회사 케이피씨 | 보조 열처리부가 구비된 폐가스 처리장치 |
KR100919619B1 (ko) * | 2008-01-03 | 2009-09-30 | 유니셈(주) | 플라즈마 스크러버 및 유해가스 처리 방법 |
KR100944146B1 (ko) * | 2008-01-03 | 2010-02-24 | 유니셈(주) | 가스 스크러버 |
WO2009117693A2 (en) * | 2008-03-21 | 2009-09-24 | Brooks Automation, Inc. | Method of reclaiming and storing a valuable process gas |
KR100997893B1 (ko) * | 2008-06-30 | 2010-12-02 | 유니셈(주) | 폐가스 처리장치 |
KR100992752B1 (ko) | 2008-11-14 | 2010-11-05 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 제조 공정의 폐가스 처리장치 |
KR101096111B1 (ko) | 2010-10-14 | 2011-12-19 | 유니셈(주) | Led 제조공정용 폐가스 처리장치 |
KR101431452B1 (ko) * | 2013-02-21 | 2014-08-21 | 씨에스케이(주) | 가열 방식의 스크러버 시스템 |
KR101936458B1 (ko) * | 2016-02-22 | 2019-01-08 | 한밭대학교 산학협력단 | 폐냉매 파괴가 가능한 폐수슬러지 용융장치 |
CN107754509A (zh) * | 2017-12-05 | 2018-03-06 | 安徽理工大学 | 一种用于钢铁铸造车间的废气吸集处理装置 |
KR102019954B1 (ko) * | 2018-12-26 | 2019-09-11 | 청해이엔브이 주식회사 | 복합 가스 제거 및 탈취를 위한 처리시스템 |
KR102089599B1 (ko) * | 2019-07-12 | 2020-03-16 | 성진엔지니어링(주) | 반도체 폐가스 처리장치 |
CN110898596A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-03-24 | 四川德胜集团钒钛有限公司 | 一种生石灰水雾除尘装置 |
GB2593722A (en) * | 2020-03-31 | 2021-10-06 | Edwards Ltd | Apparatus |
KR102458498B1 (ko) * | 2020-06-17 | 2022-10-27 | 한국에너지기술연구원 | 상향류 방식 2단 직간접식 정전분무장치 |
CN111991821B (zh) * | 2020-09-02 | 2022-04-15 | 清华大学 | 撬装式浸没燃烧蒸发装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100300020B1 (ko) * | 1999-01-19 | 2001-09-22 | 김재용 | 가스 세정장치 |
KR100336164B1 (ko) * | 2000-03-23 | 2002-05-17 | 김정태 | 폐기가스 세정방법 및 세정장치 |
KR100407108B1 (ko) * | 2001-04-24 | 2003-12-31 | 한국반도체산업 주식회사 | 가스 세정장치 |
-
2004
- 2004-12-13 KR KR1020040104854A patent/KR100647997B1/ko active IP Right Grant
-
2005
- 2005-10-21 JP JP2005307244A patent/JP4153942B2/ja active Active
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100784448B1 (ko) | 2006-12-29 | 2007-12-11 | 주식회사 삼양제넥스 | 배기가스 냄새제거장치 및 이를 구비한 곡물 가공처리시스템 |
JP2008292077A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Japan Pionics Co Ltd | 排ガスの浄化装置 |
JP2012502792A (ja) * | 2008-09-17 | 2012-02-02 | エアガード,インコーポレイテッド | 反応性ガス制御 |
JP2010099571A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Edwards Kk | 除害装置 |
JP2013063384A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 排ガス処理方法および排ガス処理装置 |
JP2013193069A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Kanken Techno Co Ltd | ガス処理装置 |
JP2016520788A (ja) * | 2013-04-15 | 2016-07-14 | エアガード,インコーポレイテッド | 洗浄装置内の延長又は多数反応部 |
JP2017018855A (ja) * | 2015-07-07 | 2017-01-26 | オルガノ株式会社 | 空気浄化装置 |
CN112739444A (zh) * | 2019-09-03 | 2021-04-30 | 茶山有限公司 | 废气分拣分离处理装置及其控制方法 |
CN112739444B (zh) * | 2019-09-03 | 2023-02-17 | 茶山有限公司 | 废气分拣分离处理装置及其控制方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100647997B1 (ko) | 2006-11-23 |
KR20060066299A (ko) | 2006-06-16 |
JP4153942B2 (ja) | 2008-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4153942B2 (ja) | 廃ガス処理装置 | |
EP1828680B1 (en) | Reactor design to reduce particle deposition during effluent abatement process | |
EP1143197B1 (en) | Exhaust gas treating device | |
TWI451900B (zh) | Gas handling device | |
TWI434729B (zh) | 用於自氣體流移除氟之方法及裝置 | |
US20120090338A1 (en) | Method of treating an exhaust gas stream | |
JP6153754B2 (ja) | 除害機能付真空ポンプ | |
KR100717730B1 (ko) | 다중 폐가스 처리장치 | |
JP2017124345A (ja) | 排ガス除害装置 | |
JP2001355825A (ja) | 排ガスの処理方法および処理装置 | |
JP2010023000A (ja) | 排ガス除害装置 | |
KR100998853B1 (ko) | 폐가스 처리장치 | |
JP4174396B2 (ja) | 排ガス導入構造および該構造を用いた排ガス処理装置 | |
KR100328632B1 (ko) | 복합 가스 스크러버 시스템 | |
KR100944146B1 (ko) | 가스 스크러버 | |
KR101006384B1 (ko) | 폐가스 처리장치 | |
KR100664805B1 (ko) | 가스 스크러버의 폐가스 처리장치 및 방법 | |
KR100658953B1 (ko) | 폐가스 수처리장치 | |
TWI803538B (zh) | 氣體處理裝置 | |
KR101005529B1 (ko) | 단열구조의 폐가스 처리장치 | |
KR100545696B1 (ko) | 진공펌프 일체형 폐기가스 처리장치 | |
JPH1061934A (ja) | 燃焼式排ガス処理装置 | |
KR101635065B1 (ko) | 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버 | |
KR20080033608A (ko) | 고온 플라즈마 분해층과 흡착 분해층을 구비한 PFCs가스 처리용 스크러버 | |
JP2013044479A (ja) | 塩化珪素化合物を含む排ガスの浄化方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080617 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080704 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4153942 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |