KR100997893B1 - 폐가스 처리장치 - Google Patents

폐가스 처리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100997893B1
KR100997893B1 KR1020080062959A KR20080062959A KR100997893B1 KR 100997893 B1 KR100997893 B1 KR 100997893B1 KR 1020080062959 A KR1020080062959 A KR 1020080062959A KR 20080062959 A KR20080062959 A KR 20080062959A KR 100997893 B1 KR100997893 B1 KR 100997893B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
waste gas
heat treatment
powder
chamber
wet
Prior art date
Application number
KR1020080062959A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100002904A (ko
Inventor
김제호
김승환
이규만
Original Assignee
유니셈(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 유니셈(주) filed Critical 유니셈(주)
Priority to KR1020080062959A priority Critical patent/KR100997893B1/ko
Publication of KR20100002904A publication Critical patent/KR20100002904A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100997893B1 publication Critical patent/KR100997893B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/005—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by heat treatment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Incineration Of Waste (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

본 발명은 폐가스 처리장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 폐가스의 폭발에 의해 발생한 양압을 흡수함으로써, 폐가스 처리장치의 균열 또는 파손을 막기 위한 폐가스 처리장치에 관한 것이다.
본 발명의 폐기가스 처리장치는 가스 유입구로부터 유입되는 폐가스를 연소 또는 열분해시켜 파우더로 생성하는 열처리 챔버; 상기 열처리 챔버와 연결되어 상기 폐가스의 폭발에 의한 압력을 흡수하기 위한 압력 완충기; 상기 열처리 챔버와 연결되어 상기 파우더 및 폐가스를 습식으로 처리하기 위하여 분사장치를 구비한 습식챔버; 및 상기 분사장치에서 분사되는 물에 의하여 용해된 상기 파우더 및 폐가스를 처리하기 위한 드레인 탱크를 포함함에 기술적 특징이 있다.
폐가스, 스크러버, 폭발, 압력, 완충장치

Description

폐가스 처리장치{The waste gas scrubber}
본 발명은 폐가스 처리장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 폐가스의 폭발에 의해 발생한 양압을 흡수함으로써, 폐가스 처리장치의 균열 또는 파손을 막기 위한 폐가스 처리장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스는 산화, 식각, 증착 및 포토 공정 등 다양한 제조 공정을 거쳐서 제조된다. 이들 반도체 제조 공정에는 반응가스로 다양한 종류의 유독성 화공 약품 및 화학 가스 등이 사용되며, 반응가스들은 산화성분, 인화성분 및 유독성분 등을 갖고 있다.
따라서 반도체 제조 공정의 여러 단계에서 아르신, 포스핀, 디보란, 모노실란, 암모니아, 산화질소, 보론 트리 클로라이드 등으로 대표되는 가스상의 독성물질을 포함하는 폐가스가 발생하게 된다.
이러한 유독성 폐가스들은 독성이 강해서 공정에 이용된 후 그대로 대기중에 방출할 경우, 인체에 유해할 뿐만 아니라 환경 오염을 유발시키게 된다. 또한, 자 연발화에 따른 화재가 발생할 가능성도 있다. 따라서, 이러한 폐가스는 대기중으로 방출하기에 앞서 폐가스에 포함된 독성물질들의 완벽한 제거가 반드시 이루어져야 한다.
이에 따라, 반도체 설비의 배기 라인에는 유해한 폐가스의 독성물질을 제거한 후 대기중으로 배출시키기 위한 다양한 형태의 가스 스크러버가 설치되고 있으며, 가스 스크러버는 크게 습식(wetting)방식과 건식(burning)방식으로 분류된다.
습식방식의 스크러버는 물을 이용하여 폐가스를 포집한 후, 세정 및 냉각하는 구조로써, 비교적 간단한 구성을 가지므로 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 불수용성의 가스는 처리가 불가능하고, 특히 발화성이 강한 수소기를 포함하는 폐가스의 처리에는 부적절하다.
건식방식의 스크러버는 버너 속을 폐가스가 통과되도록 하여 직접 연소시키거나, 열원을 이용하여 고온의 챔버를 형성하고 그 속으로 폐가스가 통과되도록 하여 간접적으로 연소시키는 구조를 갖는다. 이러한 건식방식의 스크러버는 발화성(가연성) 가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 수용성 가스와 같이 잘 연소되지 않는 가스의 처리에는 부적절하다.
이에 따라, 습식방식과 건식방식의 스크러버를 결합한 혼합형 가스 스크러버를 사용 중에 있다.
혼합형 가스 스크러버는 먼저, 폐가스를 연소실에서 1차로 연소시켜 발화성 가스 및 폭발성 가스를 제거한 후에, 2차적으로 수조에 수용시켜 수용성의 유독성 폐가스를 물에 용해시키는 구조를 갖는다.
본 발명은 폐가스의 폭발로 인하여 발생한 양압을 흡수함으로써, 폐가스 장치의 균열 및 파손을 막아 유독 폐가스가 작업장 내로 유출되는 것을 막기 위한 폐가스 처리장치를 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명의 상기 목적은 가스 유입구로부터 유입되는 폐가스를 연소 또는 열분해시켜 파우더로 생성하는 열처리 챔버; 상기 열처리 챔버와 연결되어 상기 폐가스의 폭발에 의한 압력을 흡수하기 위한 압력 완충기; 상기 열처리 챔버와 연결되어 상기 파우더 및 폐가스를 습식으로 처리하기 위하여 분사장치를 구비한 습식챔버; 및 상기 분사장치에서 분사되는 물에 의하여 용해된 상기 파우더 및 폐가스를 처리하기 위한 드레인 탱크를 포함하는 폐가스 처리장치에 의해 달성된다.
또한, 본 발명의 상기 압력 완충기는 벨로우즈, 실린더 및 바이패스 라인 중 어느 하나를 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 상기 열처리 챔버, 습식챔버 및 드레인 탱크를 PVC, 백금 PVC 및 HT PVC 소재의 하우징을 이용하여 일체형으로 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 상기 폐가스 및 파우더의 이동 경로를 증가시키기 위한 복수의 칸막이와 배플보드; 및 상기 배플보드 상부에 수평 방향으로 분리가 가능한 박스내에 구비된 충진제를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 상기 배플보드는 용매제를 통과시키기 위한 다수 개의 구멍이 형성하는 것이 바람직하다.
따라서, 본 발명의 폐가스 처리장치는 폐가스의 폭발로 인하여 발생한 양압을 흡수함으로써, 폐가스 장치의 균열 및 파손을 막아 유독 폐가스가 작업장 내로 유출되는 것을 막을 수 있는 현저하고도 유리한 효과가 있다.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 일체형의 폐가스 처리장치를 나타낸 단면도 이다.
본 발명에 따른 폐가스 처리장치(100)는 열처리 챔버(110), 습식챔버(120), 드레인 탱크(130)를 포함한다.
열처리 챔버(110), 습식챔버(120) 및 드레인 탱크(130)는 동일 소재의 하우징(140)에 의하여 일체형으로 형성된다.
본 발명에 따른 하우징(140) 재질은 PVC, 백금 PVC 및 HT PVC 중 선택된 어느 하나를 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 열처리 챔버(110)는 가스유입구(111), 폐가스를 연소시키기 위한 버너(112) 및 가스가 연소되는 버닝존을 형성하기 위한 원형의 실린더(113)를 포함한다. 열처리 챔버(110)의 벽면과 실린더(113) 사이에는 공기를 주입하기 위한 공기 주입구(114)가 형성되어 있으며, 주입된 공기가 버닝존에 유입하기 위하여 다수의 홀이 실린더(113)에 형성되어 있다.
가스유입구(111)로부터 유입되는 폐가스는 열처리 챔버(110)로 들어가 버너(112)에 의하여 연소 및 열분해되어 파우더로 형성된다.
본 발명에 따른 열처리 챔버(110)는 버너, 히터 및 플라즈마 타입 중 어느 하나를 사용할 수 있다. 그리고 열처리 챔버(110)의 외측에는 냉각수가 흐르고 있어, 내부의 높은 열이 외부로 누출되는 것을 막을 수 있다.
또한, 열처리 챔버(110)의 벽면에 공기 유입구와 유체채널(115)을 형성함으로써, 공기의 흐름에 의하여 버너(112)에서 발산된 열이 외부로 발산되는 것을 막을 수 있어 단열효과를 기대할 수 있다. 나아가, 부식성 폐가스가 열처리 챔 버(110)의 내벽에 접촉하여 챔버 내벽이 부식되는 것을 방지할 수 있다.
열처리 챔버(110)에서 형성된 파우더와 미처리된 폐가스는 습식챔버(120)로 유입된다.
파우더 또는 폐가스가 습식챔버(120)로 유입되기전, 과량으로 유입된 폐가스는 폭발할 경우가 있으며, 이러한 폭발은 하우징(140)에 균열을 발생시키거나 파손을 유발하여 유독한 폐가스가 외부로 누출될 수 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 열처리 챔버(110)와 인접한 영역의 하우징(140)에 압력 완충장치(150)를 더 구비한다.
본 발명의 실시예에 따르면 압력 완충장치(150)로 벨로우즈, 실린더 및 바이패스 라인 중 어느 하나 이상을 사용할 수 있다. 벨로우즈는 주름이 형성된 고분자 소재로 형성되며, 내부에는 용수철을 더 포함할 수 있다. 그리고 실린더는 공압 또는 유압 실린더를 사용할 수 있다. 또한, 바이패스는 페가스 처리장치의 구성 중 어느 한 곳과 연결할 수 있다.
하우징(114)에 구비된 압력 완충장치(150), 일예로서 벨로우즈는 평소에 수축된 상태로 있다. 그러나 폐가스의 폭발로 인하여 양압이 발생할 경우, 길이 방향으로 늘어나 양압을 흡수한다. 폭발이 끝나면 다시 음압이 발생하므로, 늘어났던 벨로우즈는 다시 수축한다. 따라서, 폐가스의 폭발로 인하여 발생한 양압과 음압은 하우징(150)에 구비된 압력 완충장치에 의하여 흡수되어 하우징에 손상을 예방할 수 있다.
본 발명에 따른 습식챔버(120)는 소정 크기의 칸막이(121)에 의하여 다수의 영역으로 구분되고, 각 영역 상부에는 물을 분사하여 수용성 폐가스를 용해시키기 위한 복수의 분사노즐(122)이 구비되어 있다. 분사노즐(122)에서 분사된 물을 포함하는 용매제에 의하여 포집된 파우더 또는 용해된 폐가스는 아래 드레인 탱크(130)로 떨어진다.
계속해서, 파우더와 폐가스는 복수의 칸막이(121)와 배플보드(123)에 의하여 구획된 영역을 통과한다. 배플보드(123)는 다수의 구멍이 형성되어 있고 상부에는 PVC 또는 테프론 소재의 충진재(124)가 구비되어 있어, 파우더와 폐가스의 이동경로를 증가시키고 유동속도를 저하시켜, 분사노즐(122)에서 분사되는 물에 의한 수처리 효율을 향상시킨다.
배플보드(123) 상부에 구비된 충진제(124)는 그물망(미도시)에 복수개가 패키징된 후, 수평으로 분리가 가능한 서랍식 박스(125)에 구비되어 있어, 장비를 분해할 필요 없이 박스만(125)을 분리하여 충진제를 세척할 수 있다.
습식챔버(120)에서 처리된 가스와 수분은 습식챔버(120)와 연결된 배기구(126)를 통하여 빠져나간다. 배기구(126)에는 외기를 주입하기 위하여 외기 유입구(127)가 형성되어 있다. 외기는 고온 다습한 폐가스가 배기구(126) 표면에 응결되는 것을 막아 배기구(126)가 부식되는 것을 막을 수 있다.
외기 유입구(127)는 배기압력이 강하될 경우를 대비하여 안전 설정 제한치를 감지하여 자동적으로 클로징이 가능한 액츄에이터(actuator)밸브(미도시)를 장착하여 만일의 위험에 대비하도록 한다.
본 발명의 드레인 탱크(130)는 열처리 챔버(110) 및 습식챔버(120)의 하부에 위치하며 순환펌프(131)와 외부로 배출하기 위한 드레인 펌프(132)를 포함한다.
본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.
도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 폐가스 처리장치의 구성도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
110 : 열처리 챔버 112: 버너
113: 실린더 114: 공기 유입구
115: 유체채널 120 : 습식챔버
121: 칸막이 122: 분사노즐
123: 배플보드 124: 충진제
125: 박스 126: 배기구
127: 외기 유입구 130: 드레인 탱크
131: 순환펌프 132: 드레인 펌프
140: 하우징 150: 압력 완충장치

Claims (5)

  1. 가스 유입구로부터 유입되는 폐가스를 연소 또는 열분해시켜 파우더로 생성하는 열처리 챔버;
    상기 열처리 챔버와 연결되어 상기 폐가스의 폭발에 의한 압력을 흡수하기 위한 압력 완충기;
    상기 열처리 챔버와 연결되어 상기 파우더 및 폐가스를 습식으로 처리하기 위하여 분사장치를 구비한 습십챔버; 및
    상기 분사장치에서 분사되는 물에 의하여 용해된 상기 파우더 및 폐가스를 처리하기 위한 드레인 탱크;를 포함하고,
    상기 습십챔버는,
    상기 폐가스 및 파우더의 이동 경로를 증가시키기 위한 복수의 칸막이와 베플보드; 및
    상기 베플보드 상부에 수평 방향으로 분리가 가능한 박스내에 구비된 충진제를 포함하는 폐가스 처리장치.
  2. 제1항에 있어
    상기 압력 완충기는 벨로우즈, 실린더 및 바이패스 라인 중 어느 하나인 폐가스 처리장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 열처리 챔버, 습식챔버 및 드레인 탱크를 PVC, 백금 PVC 및 HT PVC 소 재의 하우징을 이용하여 일체형으로 형성한 폐가스 처리장치.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 배플보드는 용매제를 통과시키기 위한 다수의 구멍이 형성된 폐가스 처리장치.
KR1020080062959A 2008-06-30 2008-06-30 폐가스 처리장치 KR100997893B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080062959A KR100997893B1 (ko) 2008-06-30 2008-06-30 폐가스 처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080062959A KR100997893B1 (ko) 2008-06-30 2008-06-30 폐가스 처리장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100002904A KR20100002904A (ko) 2010-01-07
KR100997893B1 true KR100997893B1 (ko) 2010-12-02

Family

ID=41812881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080062959A KR100997893B1 (ko) 2008-06-30 2008-06-30 폐가스 처리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100997893B1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101219307B1 (ko) * 2010-10-08 2013-01-21 유니셈(주) 폐가스 처리장치용 에어밸브
KR102019954B1 (ko) * 2018-12-26 2019-09-11 청해이엔브이 주식회사 복합 가스 제거 및 탈취를 위한 처리시스템
CN113359891B (zh) * 2021-06-23 2022-08-02 库卡机器人制造（上海）有限公司 正压防爆系统及其控制方法、装置和喷涂装置、存储介质

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100634173B1 (ko) * 2006-06-23 2006-10-16 주식회사 이즈컨텍 폐가스 처리장치
KR100647997B1 (ko) * 2004-12-13 2006-11-23 유니셈 주식회사 폐가스 처리 장치
KR100833549B1 (ko) * 2007-01-12 2008-05-29 유니셈(주) 폐가스 처리장치용 전처리 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100647997B1 (ko) * 2004-12-13 2006-11-23 유니셈 주식회사 폐가스 처리 장치
KR100634173B1 (ko) * 2006-06-23 2006-10-16 주식회사 이즈컨텍 폐가스 처리장치
KR100833549B1 (ko) * 2007-01-12 2008-05-29 유니셈(주) 폐가스 처리장치용 전처리 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100002904A (ko) 2010-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6964699B1 (en) Rocket motor exhaust scrubber
EP2396598B1 (en) Method of treating an exhaust gas stream
JP2006170603A (ja) 廃ガス処理装置
KR20090075037A (ko) 플라즈마 스크러버 및 유해가스 처리 방법
KR100997893B1 (ko) 폐가스 처리장치
KR100612534B1 (ko) 배기가스 처리장치와 그 운용방법
KR20240016226A (ko) No 제거기 및 반도체 배기 가스 처리 기기
KR100717730B1 (ko) 다중 폐가스 처리장치
KR20060114984A (ko) 폐가스 연소용 버너 및 이를 이용한 가스 스크러버
KR100998853B1 (ko) 폐가스 처리장치
KR100997207B1 (ko) 할로겐히터를 이용하여 열과 빛으로 유해가스를 이중산화시키는 처리장치
KR100944146B1 (ko) 가스 스크러버
KR200448987Y1 (ko) 폐가스 습식 처리장치
KR20190136522A (ko) 백연저감 습식 스크러버
KR20090075091A (ko) 폐가스 습식 처리장치
KR200465435Y1 (ko) 가스 스크러버의 냉각장치
KR100967839B1 (ko) 일체형 폐가스 처리장치
KR101005529B1 (ko) 단열구조의 폐가스 처리장치
KR101635065B1 (ko) 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버
KR101580231B1 (ko) 톨루엔 연소분해 및 대용량 처리를 위한 톨루엔 연소분해 장치
KR101200977B1 (ko) 폐 가스 연소장치
JP4070698B2 (ja) 排ガス供給方法とその逆火防止装置
WO2017115844A1 (ja) ボイラ及び腐食抑制方法
CN210197311U (zh) 一种废气处理装置
KR102147013B1 (ko) 스크러버 시스템 및 이에 사용되는 리액터 구조체

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131127

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140923

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150730

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160713

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170720

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190821

Year of fee payment: 10