JP2012502792A - 反応性ガス制御 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (56)
- 内表面を有するチャンバと、
形状及び縁部を有する案内表面と、
前記縁部に隣接する前記内表面の少なくとも一部から形成され、ガス入口を前記チャンバに接続するポートと、
第一流速で前記案内表面に第一液体を供給するよう構成される貯槽とを含み、
前記案内表面の前記形状及び前記案内表面の上を流れる前記供給される第一液体の前記第一流速は、前記第一流速で供給される前記第一液体を前記縁部を越えて前記内表面に流動させ且つ液体膜を形成させ、該液体膜は、前記チャンバ内のガス圧力と前記入口内のガス圧力との間の第一圧力差の下で前記ポートを通じるガスの流れを防止する、
装置。 - 前記貯槽は、前記第一液体を第二流速で送るよう更に構成され、前記形状及び前記第二流速は、前記液体膜に前記第一圧力差の下で前記ポートを通じるガスの流れを許容させる、請求項1に記載の装置。
- 前記液体膜は、前記第一圧力差よりも大きい第二圧力差の下で前記ポートを通じるガスの流れを許容する、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記チャンバと流体連絡する出口を更に含む、請求項1乃至3のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記入口、前記出口、及び、前記チャンバのうちのいずれか1つに反応性噴流を噴射するよう構成される噴射器を更に含む、請求項1乃至4のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記噴射器は、バーナを含む、請求項6に記載の装置。
- 前記噴射器は、酸化化学種、特に、空気及び/又は酸素を噴射するよう構成される、請求項5又は6に記載の装置。
- 前記内表面の少なくとも一部を覆う第二液体を供給するよう構成される貯槽を更に含む、請求項1乃至7のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記供給される第一液体及び/又は第二液体の運動量を制御するよう構成される循環機構を更に含む、請求項1乃至8のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記案内表面の前記形状は、軸について円筒形である、請求項1乃至9のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記軸は、垂直に方向付けられ、前記縁部は、前記案内表面の底縁部である、請求項10に記載の装置。
- 前記内表面の少なくとも一部は、前記軸と同心である、請求項10又は11に記載の装置。
- 前記同心部分は、前記案内表面を特徴付ける直径よりも大きい直径によって特徴付けられる、請求項12に記載の装置。
- 前記液体膜は、前記縁部から前記内表面の前記同心部分に流れる、請求項12又は13に記載の装置。
- 前記ポートは、リング形状である、請求項1乃至14のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記第一液体は、前記案内表面の内側を流れ落ち、前記第一流速は、前記軸についての角運動量を含む、請求項10乃至15のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記液体膜は、ほぼ円錐形である、請求項10乃至16のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記貯槽及び/又は前記貯槽は、循環機構及び/又は循環機構を含む、請求項1乃至17のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 前記第一液体を供給することは、前記第一液体に渦を巻かせることを含む、請求項1乃至18のうちのいずれか1項に記載の装置。
- 流出ガスストリームを受け取り且つスクラビングする第一湿式スクラバと、
請求項1乃至19のうちのいずれか1項に記載の装置とを含み、
前記装置は、前記第一湿式スクラバの下流で前記第一湿式スクラバと流体連絡する、
ガスアベートメントシステム。 - 前記装置の下流で前記装置と流体連絡する第二湿式スクラバを更に含む、請求項20に記載のガスアベートメントシステム。
- 前記第一湿式スクラバは、前記流出ガスストリームから水溶性汚染物の90%よりも多くを除去する、請求項20又は21に記載のガスアベートメントシステム。
- 流出ガスストリーム内の2つ又はそれよりも多くの汚染物の濃度を減少する方法であって、
第一汚染物の濃度を減少するために、湿式スクラバ内で前記流出ガスストリームを湿式スクラビングすること、
前記湿式スクラビング済みガスストリームを請求項1乃至19のうちのいずれか1項に記載の装置に供給すること、
1つ又はそれよりも多くの液体を前記装置の1つ又はそれよりも多くの表面に供給すること、及び、
第二汚染物の濃度を減少するために、前記装置内で前記供給済みガスストリームを反応させることを含む、
方法。 - 前記第一汚染物は、1つ又はそれよりも多くの水溶性汚染物を含む、請求項23に記載の方法。
- 前記湿式スクラビングすることは、前記第一汚染物の濃度を90%を超えて、好ましくは、99%を超えて減少する、請求項23又は24に記載の方法。
- 前記第二汚染物は、水反応性汚染物及び/又は不水溶性汚染物を含む、請求項23乃至25のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記ガス入口は、前記湿式スクラバとガス連絡し、前記供給される液体の少なくとも一部は、前記液体膜を形成する、請求項23乃至26のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記反応させることは、90%を超えて、好ましくは、99%を超えて前記第二汚染物の濃度を減少する、請求項23乃至27のうちのいずれか1項に記載の方法。
- ガスを閉じ込める方法であって、
請求項1乃至19のうちのいずれか1項に記載の装置を提供し、
液体外皮を形成するために、第一液体、選択的に、第二液体を供給し、
前記ガス入口を介して前記ガスを前記液体外皮の内部に供給する、
方法。 - 前記液体外皮内に反応性噴流を形成することを更に含む、請求項29に記載の方法。
- 内表面によって閉じ込められる第一ガス状容積内へのガス流を制御するバルブであって、
形状と縁部とを有する案内表面と、
前記縁部に隣接する前記内表面の少なくとも一部で形成され、第二ガス状容積を前記第一ガス状容積に接続するポートと、
第一液体を第一流速で前記案内表面に供給するよう構成される液体供給機構と、
前記第一液体とを含み、
前記形状及び前記案内表面の上を流れる前記供給される第一液体の前記第一流速は、前記第一流速で供給される前記第一液体を前記縁部を越えて前記内表面まで流動させ且つ液体膜を形成させ、該液体膜は、前記第一ガス状容積と前記第二ガス状容積との間の第一圧力差の下で前記ポートを通じるガスの流れを防止する、
バルブ。 - 前記液体膜は、第二圧力差で前記第一ガス状容積と前記第二ガス状容積との間のガスの流れを可能にする、請求項31に記載のバルブ。
- 前記第一ガス状容積内に反応性噴流を噴射するよう構成される噴射器を更に含む、請求項31又は32に記載のバルブ。
- 前記第二ガス状容積内に反応性噴流を噴射するよう構成される噴射器を更に含む、請求項31乃至33のうちのいずれか1項に記載のバルブ。
- ポートを通じるガスの流れを制御するバルブであって、
前記ポートに流動液体を提供するよう構成される液体源を含み、前記液体に作用する力の第一の組み合わせが、前記液体に前記ポートを通じる前記ガスの流れを遮断する形状を形成させ、且つ、前記液体に作用する力の第二の組み合わせが、前記液体に前記ポートを通じる前記ガスの流れを許容する形状を形成させるよう、前記流動液体は、1つ又はそれよりも多くの力に晒される、
バルブ。 - 前記1つ又はそれよりも多くの力は、重力を含む、請求項35に記載のバルブ。
- 前記1つ又はそれよりも多くの力は、前記流動液体の運動量を含む、請求項35に記載のバルブ。
- 前記1つ又はそれよりも多くの力は、前記流動液体と関連付けられる表面張力を含む、請求項35に記載のバルブ。
- 前記1つ又はそれよりも多くの力は、前記ガスによって前記液体に対して加えられる圧力を含む、請求項35に記載のバルブ。
- ポートを介して流体連絡する第一ガス容積及び第二ガス容積と、
前記ポートを通じるガスの流れを制御するバルブとを含み、
該バルブは、前記ポートに流動液体を提供するよう構成される液体源を含み、前記液体に作用する力の第一の組み合わせが、前記液体に前記ポートを通じる前記ガスの流れを実質的に遮断させ、且つ、前記液体に作用する力の第二の組み合わせが、前記液体に前記ポートを通じる前記ガスの流れを許容させるよう、前記流動液体は、1つ又はそれよりも多くの力に晒される、
反応システム。 - 内表面とポートとを有するチャンバと、
前記ポートに隣接する縁部を有する案内表面とを含み、
該案内表面は、前記案内表面に供給される流動液体を、前記縁部から前記内表面に横方向に移動させ、それによって、前記ポートを通じる第一圧力にあるガスの移動に対して前記ポートを実質的に閉塞する、
装置。 - 前記案内表面に流動液体を供給するよう構成される液体供給機構を更に含む、請求項41に記載の装置。
- 前記液体供給機構によって供給される流動液体を更に含み、該流動液体は、前記ポートを通じるガスの流れを実質的に遮断するよう構成される、請求項42に記載の装置。
- 前記流動液体は、渦巻く液体を含む、請求項43に記載の装置。
- 被覆液体で前記内表面を実質的に覆うよう構成される貯槽を更に含む、請求項41に記載の装置。
- ガスを反応させるための反応システムであって、
内表面とポートとを有するチャンバと、
前記ポートに隣接する縁部を有する案内表面であり、該案内表面に供給される流動液体を、前記縁部から前記内表面に横方向に移動させ、それによって、前記ポートを通じる第一圧力にあるガスの移動に対して前記ポートを実質的に閉塞する案内表面と、
前記ポートを介して前記チャンバにガスを供給するよう構成されるガス入口とを含む装置を含む、
反応システム。 - 前記チャンバ内で反応性噴流を生成するよう構成される噴射器を更に含む、請求項46に記載の反応システム。
- 前記噴射器は、バーナを含む、請求項47に記載の反応システム。
- ガスストリームをアベートメント処理する装置であって、
前記ガスストリームを受け取るよう構成される第一湿式スクラバを含み、
ポートを含む反応システムを含み、前記ポートは、前記反応システムと前記第一湿式スクラバとの間のガス状連絡をもたらし、
前記反応システムは、
内表面を有するチャンバと、
前記ポートに隣接する縁部を有する案内表面とを含み、
該案内表面は、前記案内表面に供給される流動流体を、前記縁部から前記内表面に横方向に移動させ、それによって、前記ポートを通じる第一圧力にあるガスの移動に対して前記ポートを実質的に閉塞し、
前記反応システムと流体連絡する第二湿式スクラバを含む、
装置。 - 前記反応チャンバ内で反応性噴流を生成するよう構成される噴射器を更に含む、請求項49に記載の装置。
- 被覆液体で前記内表面を実質的に覆うよう構成される貯槽を更に含む、請求項49に記載の装置。
- 第一チャンバと第二チャンバとを分離するポートを通じるガスの流れを遮断する方法であって、
前記第一チャンバ及び前記第二チャンバとそれぞれ関連付けられる第一ガス圧力及び第二ガス圧力を評価すること、
流動条件が液体に前記ポートを通じる前記ガスの流れを実質的に遮断する形状を取らせるよう、案内表面の縁部を超えて前記ポートに関連付けられる表面に流れる液体と関連付けられる流動条件を決定すること、及び、
前記流れ条件に従って流動液体を供給することを含む、
方法。 - 水溶性化学種及び他の化学種を含むガスストリームをアベートメント処理する装置であって、
前記ガスストリームを受け取り且つ前記水溶性化学種の90%よりも多くを除去するよう構成される第一湿式スクラバと、
該第一湿式スクラバと流体連絡し、且つ、前記第一湿式スクラバから前記ガスストリームを受け取り且つ前記他の化学種の少なくとも一部を反応させるよう構成される反応システムと、
該反応システムと流体連絡し、且つ、前記反応システムから前記反応済みガスストリームを受け取るよう構成される第二湿式スクラバとを含む、
装置。 - ガスストリームから2つ又はそれよりも多くの化学種を実質的に除去する方法であって、
第一化学種を除去するために、前記ガスストリームを湿式スクラビングすること、
第二化学種を除去するために、反応システム内で前記湿式スクラビング済みガスストリームを反応させること、及び、
前記反応済みガスストリームを湿式スクラビングすることを含む、
方法。 - 前記反応させることは、前記ガスストリームの少なくとも一部を燃焼することを含む、請求項54に記載の方法。
- ポートによって分離される第一チャンバと第二チャンバとの間のガスの流れを制御するよう動作可能なバルブであって、
当該バルブは、流動液体を含み、当該バルブは、第一の組の流動条件の下で前記流動液体に前記ポートを閉塞させることによって製造される、
バルブ。
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