JP2013091026A - スクラバーのガスインレット部の構造 - Google Patents
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- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 55
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 12
- 102000010637 Aquaporins Human genes 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 108010063290 Aquaporins Proteins 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
【解決手段】スクラバーのガスインレット部10は、環状の外円筒管12と、その内側に同心円状に配され内円筒管14と、さらにその内側に同心円状に配されたインレットデバイス16と、ガス導入本管18で構成されている。インレットデバイス16は上下が開口された筒状体であり、上部開口から処理対象ガスを下方のガス導入本管18に導入するガス流路20を形成している。インレットデバイス16と内円筒管14の間に形成された水流路30はインレットデバイス16の下端部32より下方の位置でガス流路20と連通し、内円筒管14と外円筒管12の間に形成されたアルカリ水溶液流路22は内円筒管14の下端部24より下方の位置でガス流路20と連通している。
【選択図】図1
Description
12 外円筒管
14 内円筒管
16 インレットデバイス
18 ガス導入本管
20 ガス流路
22 アルカリ水溶液流路
28 アルカリ水溶液供給ノズル
30 水流路
34 水供給ノズル
36 アルカリ水溶液
38 水
40 処理対象ガス
42 混合液
Claims (3)
- 水素化物系ガスを含む処理対象ガスをスクラバーに導入するためのガス流路を形成する第一の環状壁と、
前記第一の環状壁との間に水流路を形成する第二の環状壁と、
前記第二の環状壁との間にアルカリ水溶液流路を形成する第三の環状壁を備え、
前記水流路が前記第一の環状壁の下端部より下方の位置で前記ガス流路と連通し、
前記アルカリ水溶液流路が前記第二の環状壁の下端部より下方の位置で前記ガス流路と連通していることを特徴とする、スクラバーのガスインレット部の構造。 - 前記水流路に対して円周方向に水を供給する水供給ノズルと、
アルカリ水溶液流路に対して円周方向にアルカリ水溶液を供給するアルカリ水溶液供給ノズルを備えたことを特徴とする、請求項1に記載のスクラバーのガスインレット部の構造。 - 前記第一の環状壁が前記第二の環状壁の内側に挿入可能な筒状体で構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載のスクラバーのガスインレット部の構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011234443A JP5851198B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | スクラバーのガスインレット部の構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011234443A JP5851198B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | スクラバーのガスインレット部の構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013091026A true JP2013091026A (ja) | 2013-05-16 |
JP5851198B2 JP5851198B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=48614596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011234443A Active JP5851198B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | スクラバーのガスインレット部の構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5851198B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021098168A (ja) * | 2019-12-23 | 2021-07-01 | 昭和電工株式会社 | スクラバーの排ガス導入管およびスクラバー |
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- 2011-10-25 JP JP2011234443A patent/JP5851198B2/ja active Active
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JP7331685B2 (ja) | 2019-12-23 | 2023-08-23 | 株式会社レゾナック | スクラバー |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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R250 | Receipt of annual fees |
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