JP5851198B2 - スクラバーのガスインレット部の構造 - Google Patents
スクラバーのガスインレット部の構造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5851198B2 JP5851198B2 JP2011234443A JP2011234443A JP5851198B2 JP 5851198 B2 JP5851198 B2 JP 5851198B2 JP 2011234443 A JP2011234443 A JP 2011234443A JP 2011234443 A JP2011234443 A JP 2011234443A JP 5851198 B2 JP5851198 B2 JP 5851198B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- aqueous solution
- annular wall
- alkaline aqueous
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 62
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 claims description 2
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 12
- 102000010637 Aquaporins Human genes 0.000 description 10
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 108010063290 Aquaporins Proteins 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
12 外円筒管
14 内円筒管
16 インレットデバイス
18 ガス導入本管
20 ガス流路
22 アルカリ水溶液流路
28 アルカリ水溶液供給ノズル
30 水流路
34 水供給ノズル
36 アルカリ水溶液
38 水
40 処理対象ガス
42 混合液
Claims (3)
- エピタキシャルウェハの製造過程において排出される有毒ガスを含む処理対象ガスをスクラバーに導入するためのガス流路を形成する第一の環状壁と、
前記第一の環状壁との間に水流路を形成する第二の環状壁と、
前記第二の環状壁との間にアルカリ水溶液流路を形成する第三の環状壁を備え、
前記水流路が前記第一の環状壁の下端部より下方の位置で前記ガス流路と連通し、
前記アルカリ水溶液流路が前記第二の環状壁の下端部より下方の位置で前記ガス流路と連通していることを特徴とする、スクラバーのガスインレット部の構造。 - 前記水流路に対して円周方向に水を供給する水供給ノズルと、
アルカリ水溶液流路に対して円周方向にアルカリ水溶液を供給するアルカリ水溶液供給ノズルを備えたことを特徴とする、請求項1に記載のスクラバーのガスインレット部の構造。 - 前記第一の環状壁が前記第二の環状壁の内側に挿入可能な筒状体で構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載のスクラバーのガスインレット部の構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011234443A JP5851198B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | スクラバーのガスインレット部の構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011234443A JP5851198B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | スクラバーのガスインレット部の構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013091026A JP2013091026A (ja) | 2013-05-16 |
JP5851198B2 true JP5851198B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=48614596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011234443A Active JP5851198B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | スクラバーのガスインレット部の構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5851198B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7331685B2 (ja) * | 2019-12-23 | 2023-08-23 | 株式会社レゾナック | スクラバー |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3476126B2 (ja) * | 1999-03-24 | 2003-12-10 | セイコー化工機株式会社 | 排ガス洗浄装置 |
JP4350338B2 (ja) * | 2002-03-07 | 2009-10-21 | Sumco Techxiv株式会社 | 排気ガス処理装置 |
US7611684B2 (en) * | 2006-08-09 | 2009-11-03 | Airgard, Inc. | Effluent gas scrubber and method of scrubbing effluent gasses |
US7854792B2 (en) * | 2008-09-17 | 2010-12-21 | Airgard, Inc. | Reactive gas control |
-
2011
- 2011-10-25 JP JP2011234443A patent/JP5851198B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013091026A (ja) | 2013-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4955027B2 (ja) | 排ガス処理装置における磁場によるプラズマの制御方法 | |
KR101631731B1 (ko) | 연마 장치 | |
JP6151980B2 (ja) | 粉体排出システム | |
KR101864756B1 (ko) | 배기가스 내 PM 및 SOx 동시 처리 장치 | |
KR101571093B1 (ko) | 폐가스 처리 장치 | |
JP2017048999A (ja) | 統合型半導体排ガス浄化装置 | |
WO2014109152A1 (ja) | インレットノズル、及び除害装置 | |
JP5851198B2 (ja) | スクラバーのガスインレット部の構造 | |
JP2012508105A (ja) | 流出スクラビング及び湿分制御が向上した除去システム | |
JP4772223B2 (ja) | 排ガス除害装置及び方法 | |
KR20180055343A (ko) | 가스 스크러버 | |
KR20120050703A (ko) | 폐가스 처리 장치 | |
EP2956958B1 (en) | Inlet and reacting system having the same | |
KR101764815B1 (ko) | 폐가스 처리장치용 전처리장치 | |
JP2013236979A (ja) | 湿式集塵機 | |
TW202033261A (zh) | 排氣淨化裝置以及使用此裝置之排氣除害裝置 | |
JP6120288B2 (ja) | ガス流処理装置 | |
KR20230096964A (ko) | 배기 가스 처리 설비 | |
KR101758108B1 (ko) | 촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법 | |
JP4350338B2 (ja) | 排気ガス処理装置 | |
JP5918974B2 (ja) | 有害ガスの無害化処理方法およびその方法を実施するためのスクラバー | |
JP2018171584A (ja) | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 | |
JP2010014322A (ja) | 排ガスの燃焼式除害装置 | |
KR101635065B1 (ko) | 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버 | |
CN113015573A (zh) | 废气导入喷嘴、水处理装置以及废气处理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140703 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150320 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150324 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151021 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5851198 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |