JP2017124345A - 排ガス除害装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】より少ない燃料消費で排ガス中のPFCsなどの難分解成分を効率よく加熱分解できる蓄熱式の排ガス除害装置を提供する。【解決手段】複数の蓄熱室(18)と、上記蓄熱室(18)の上端を連通すると共にその内部を加熱する加熱手段(24)が設けられた燃焼室(22)とで構成された熱分解炉(12)、及び、排ガス供給ダクト(30)を通じて供給される排ガス(E)を上記蓄熱室(18)に対して一定時間間隔をおいて順次供給すると共に、上記排ガス(E)が供給されていない蓄熱室(18)を通過して熱分解炉(12)から排出される処理済みの排ガス(E)を処理ガス排気ダクト(32)へと送給する排ガス給排機構14を具備する。上記の蓄熱室(18)には、その上部に配設された上記の蓄熱体(16)とその下部に設けられた排ガス給排口(19)との間に、上記排ガス(E)に対して洗浄水(W)を噴射するスプレーノズル(20)が取り付けられる。【選択図】図1

Description

本発明は、主としてPFCs(パーフルオロコンパウンド)などの難分解性排ガスの除害処理に好適な排ガス除害装置に関する。
より少ない燃料消費で排ガス中の有害物質を効率よく加熱分解処理(除害)することができる装置として、例えば下記の特許文献1に記載のような蓄熱式の排ガス除害装置が知られている。この蓄熱式の排ガス除害装置は、ハニカム状セラミックス製蓄熱体を有する蓄熱室を複数設け、その蓄熱室の一端を加熱手段を有する燃焼室に連通すると共に、他端を排ガス供給ダクトおよび処理ガス排気ダクトに開閉弁を介して連通し、排ガスの蓄熱室への供給と、前記燃焼室で有害成分を加熱分解した処理済みの排ガスの排気とを、前記開閉弁の駆動により前記各蓄熱室で順次切り換えながら実施する。
特開2006−250384号公報
しかしながら、上記従来の蓄熱式排ガス除害装置には次のような問題がある。
すなわち、従来のこの種の除害装置は、主に、揮発性有機化合物(VOC)のような比較的低温で処理ができ、副成物も酸化珪素の粉塵程度と言った排ガスの除害に用いられているが、PFCsを主体とする半導体製造工程より排出される排ガスの除害処理には殆ど適用されていなかった。なぜなら、PFCsを加熱分解した際に副成するフッ化水素(HF)は腐食性が非常に強いため、多量の排ガスを除害処理することで副成したフッ化水素ガスにより、処理済みの排ガスが通流する蓄熱室内部や配管系を腐食する虞があるからである。また、PFCs主体とした半導体排ガスは、除害装置に持ち込まれる粉塵の量が多い場合も有り、そのような場合には蓄熱体が目詰まりを起こし易くなるという問題も有った。
それゆえに、本発明の主たる課題は、より少ない燃料消費で排ガス中の有害成分、とりわけPFCsなどの難分解成分を効率よく加熱分解できる蓄熱式の排ガス除害装置を提供することである。
上記の目的を達成するため、本発明は、例えば、図1及び図2に示すように、排ガス除害装置10を次のように構成した。
蓄熱体16を有する複数の蓄熱室18と、上記蓄熱室18の上端を連通すると共にその内部を加熱する加熱手段24が設けられた燃焼室22とで構成された熱分解炉12、及び、排ガス供給ダクト30を通じて供給される排ガスEを上記蓄熱室18に対して一定時間間隔をおいて順次供給すると共に、上記燃焼室22で加熱分解された後、上記排ガスEが供給されていない蓄熱室18を通過して熱分解炉12から排出される処理済みの排ガスEを処理ガス排気ダクト32へと送給する排ガス給排機構14を具備する。
上記の蓄熱室18には、その上部に配設された上記の蓄熱体16とその下部に設けられた排ガス給排口19との間に、上記排ガスEに対して洗浄水Wを噴射するスプレーノズル20が取り付けられる。
本発明は、例えば、次の作用を奏する。
蓄熱室18の蓄熱体16と排ガス給排口19との間に、洗浄水Wを噴射するスプレーノズル20が設けられているので、排ガス給排口19を介して蓄熱室18内へと供給される排ガスE及び燃焼室22で加熱分解され排ガス給排口19を介して蓄熱室18から排出される排ガスEは、共にスプレーノズル20から噴射される洗浄水Wによって洗浄される。このため、粉塵を含んだ排ガスEが蓄熱室18へ導入された際には、洗浄水Wによって排ガスE中の粉塵が洗い流され、蓄熱体16が目詰まりするのを著しく遅延させることができる。また、排ガスEに含まれるPFCsの加熱分解によりフッ化水素が副成した場合には、排ガス給排口19を通って蓄熱室18から排出される前に、フッ化水素は洗浄水Wに吸着されフッ酸として洗浄水W中に回収されるので、(配管系である)排ガス給排機構14の腐食を抑えることができる。
本発明には、上記各構成に加えて、例えば、図1及び2に示すように、前記蓄熱室18の下端に前記スプレーノズル20から噴射された洗浄水Wを集めて貯留する貯留槽34を設けるのが好ましい。
この場合、貯留槽34に蓄えられた洗浄水Wをスプレーノズル20に戻して繰り返し再利用することができるようになる。
さらに、本発明は、後述する各実施形態に記載された特有の構成を付加することが好ましい。
本発明によれば、より少ない燃料消費で排ガス中の有害成分、とりわけPFCsなどの難分解成分を効率よく加熱分解できる蓄熱式の排ガス除害装置を提供することができる。
本発明における一実施形態の排ガス除害装置の概略を示す説明図である。 図1の状態から排ガス給排機構を作動させて熱分解炉内での排ガスの通流方向を切り換えた状態を示す説明図である。
以下、本発明の一実施形態を図1及び図2によって説明する。
図1は、本発明の排ガス除害装置10の概略を示すものである。この排ガス除害装置10は、図示しない排出源より排出される排ガスEを除害処理する装置であり、熱分解炉12,排ガス給排機構14で大略構成されている。
なお、この排ガス除害装置10は、処理対象となる排ガスEの種類を限定するものではないが、半導体製造装置から排出されたPFCs(パーフルオロコンパウンド),モノシラン(SiH),塩素系ガスなどのようにその排出基準が定められている難分解性の排ガスEを除害処理するのに特に好適である。したがって、以下では、この排ガス除害装置10について、半導体製造装置から排出された排ガスEの除害処理に用いるものを念頭に置いて説明する。
また、本明細書及び図面における各符号に関し、各部位を上位概念で示す場合にはアルファベットの枝番をつけずアラビア数字のみで示し、各部位を区別する必要がある場合(すなわち下位概念で示す場合)にはアルファベット小文字の枝番をアラビア数字に付して区別する。
熱分解炉12は、排ガスEを加熱分解するための装置であり、具体的には、例えばステンレスやハステロイ(ヘインズ社登録商標)と言った金属等の高耐熱材料を角筒形状或いは円筒形状に形成した本体ケーシング26を有する。この本体ケーシング26は、その軸が鉛直方向を向くように立設されており、その内部には、底面から高さ方向(鉛直方向)上部近傍まで隔壁28が設けられている。つまり、熱分解炉12は、その内部空間の下側が隔壁28によって水平方向に二分されており、この隔壁28によって水平方向に二分された空間が2つの蓄熱室18a,18bとなっている。なお、隔壁28も上述した本体ケーシング26と同様に、例えばステンレスやハステロイ(ヘインズ社登録商標)と言った金属等の高耐熱材料で形成されている。
また、隔壁28よりも上側に形成される空間が、蓄熱室18a,18bの上端を連通する燃焼室22となる。
さらに、隔壁28よりも下側に形成される空間が、後述する貯留槽34となる。
上記蓄熱室18における内部空間の上部において排ガスEの通流方向を横切るように配設される蓄熱体16は、アルミナやコーディライト等と言ったセラミックからなるハニカム構造の固体蓄熱材である。図示実施形態のものでは、蓄熱室18における排ガスEの通流方向に蓄熱体16が二段にて取り付けられている。
また、蓄熱室18a,18bの下部には、排ガス給排機構14を介して蓄熱室18a,18bのそれぞれに排ガスEを供給・排出するための排ガス給排口19a,19bが設けられる。
そして、蓄熱室18a,18b内における蓄熱体16と排ガス給排口19a,19bとの間の空間には、排ガスEに対して洗浄水Wを下向きに噴射するスプレーノズル20a,20bが取り付けられる。なお、スプレーノズル20から噴射される洗浄水Wは一般的な水道水や工業用水に限られるものではなく、必要に応じて、アルカリ液や酸性液などを噴射させるようにしてもよい。また、このスプレーノズル20から噴射する洗浄水Wは常時新しいものを供給するようにしてもよいし、後述する貯留槽34に蓄えられた洗浄水Wををリサイクル使用するものであってもよい。後者の場合、排ガス除害装置10のランニングコストを低減させることができる。
上記の燃焼室22には、その内部空間を加熱する熱源である加熱手段24が取り付けられる。ここで、この加熱手段24としては、燃焼室22内を最大で1500℃前後位まで昇温させることができるものが好ましく、例えば、電熱式ヒーター,火炎式バーナー,非移行型或いは移行型のプラズマトーチなどを好適に用いることができる。
なお、燃焼室22の内壁面には、必要に応じて、耐火材で形成された内貼部材が貼設される。
貯留槽34は、スプレーノズル20から噴射された洗浄水Wが貯留する水槽である。図示実施形態では、この貯留槽34の底と隔壁28との間に空間が形成されると共に、貯留槽34に貯留する洗浄水Wの液面が、隔壁28の下端よりも高く、排ガス給排口19よりも低い位置となるように制御されている。このため、各蓄熱室18に貯留される洗浄水Wは互いに通流できるようになっている。
また、この貯留槽34の底部には、貯留槽34内部に溜まった洗浄水Wを排出する際に使用する移送配管36の上流端が接続されており、この移送配管36の途中には、液面調整などの際、必要に応じて開閉される常閉バルブ38が取り付けられている。なお、貯留槽34に貯留する洗浄水Wの液面調整は、このような常閉バルブ38の開閉制御に限定されるものではなく、例えば、オーバーフロー管(図示せず)を用いたもの等であってもよい。
さらに、図示実施形態では、貯留槽34の底面が上記の移送配管36連結部分に向けて傾斜するように形成されている。こうすることで洗浄水Wと共に回収された粉塵などを効率よく貯留槽34から排出することができるようになる。
排ガス給排機構14は、排ガス供給ダクト30を通じて供給される排ガスEを複数の蓄熱室18に対して一定時間間隔をおいて順次供給すると共に、上記燃焼室22で加熱分解された後、上記排ガスEが供給されていない蓄熱室18を通過して熱分解炉12から排出される処理済みの排ガスEを処理ガス排気ダクト32へと送給する配管系であり、第1〜第4の流体通路40A〜40Dと、第1〜第4の開閉弁42A〜42Dとで形成されている。
すなわち、上記排ガス給排機構14は、一端が排ガス供給ダクト30の下流端へ、また他端が熱分解炉12の一方の蓄熱室18下端の出入口側へ接続された第1流体通路40Aと,一端が熱分解炉12の他方の蓄熱室18下端の出入口側へ、また他端が処理ガス排気ダクト32の上流端へ接続された第2流体通路40Bと,第1流体通路40Aに介設された第1開閉弁42Aと,第2流体通路40Bに介設された第2開閉弁42Bと,一端が第1流体通路40Aの第1開閉弁42Aよりも上流部分に分岐状に接続されると共に他端が第2流体通路40Bの第2開閉弁42Bよりも上流部分に分岐状に接続された第3流体通路40Cと,一端が第1流体通路40Aの第1開閉弁42Aよりも下流部分に分岐状に接続されると共に他端が第2流体通路40Bの第2開閉弁42Bよりも下流部分に分岐状に接続された第4流体通路40Dと,第3流体通路40Cに介設された第3開閉弁42Cと,第4流体通路40Dに介設された第4開閉弁42Dとで大略構成されている。
上記の処理ガス排気ダクト32には、排気ファン48が接続されており、この排気ファン48が稼働することによって排ガス除害装置10の内部が常に大気圧よりも低い圧力(=負圧)に保たれる。このため、熱分解処理前の排ガスEや処理済みで排ガスEなどが誤って排ガス除害装置10から外部へ漏れ出すことがない。
なお、本実施形態の排ガス除害装置10における熱分解炉12の燃焼室22内を除く他の部分には、排ガスEに含まれる、或いは排ガスEを分解することによって生じるフッ酸などの腐食性成分による腐食から各部を確実に守るため、塩化ビニル樹脂,ポリエチレン樹脂,不飽和ポリエステル樹脂及びフッ素樹脂などによる耐腐食性のライニングやコーティングを施すのが好ましい。
次に、以上のように構成された排ガス除害装置10を用いて排ガスEの除害処理を行う際には、まず始めに、排ガス除害装置10の運転スイッチ(図示せず)をオンにして熱分解炉12内の加熱手段24を作動させ、熱分解炉12内の加熱を開始する。続いて、燃焼室22内の温度が当該排ガスEに含まれる除害対象成分の熱分解温度に達すると、排気ファン48を作動させ、排ガス除害装置10への排ガスEの導入を開始させる。また、同時にスプレーノズル20からの洗浄水Wの噴射も開始させる。
ここで、排ガス除害装置10への排ガスE導入開始時に、排ガス給排機構14を図1の状態、すなわち、第1開閉弁42A及び第2開閉弁42Bを開操作し、第3開閉弁42C及び第4開閉弁42Dを閉操作した状態にすると、排ガス供給ダクト30を通じて供給される排ガスEは、先ず第1流体通路40Aを通って蓄熱室18aへと導入され、ここで蓄熱体16より熱を与えられて予熱された後、燃焼室22へと送られる。そして、燃焼室22で所定の処理対象成分が加熱分解されて処理済みと成った排ガスEは、蓄熱室18bを通り、蓄熱体16と間で熱交換して冷却された後、第2流体通路40Bを通過して処理ガス排気ダクト32へと与えられる。その後、排気ファン48を通過して大気中へと放出される。
続いて、上記排ガス除害装置10の稼働開始から所定時間が経過すると、排ガス給排機構14が図2の状態へと切り換わる。すなわち、第3開閉弁42C及び第4開閉弁42Dを開操作し、第1開閉弁42A及び第2開閉弁42Bを閉操作した状態へと切り換わる。そうすると、排ガス供給ダクト30を通じて供給される排ガスEは、先ず第3流体通路40Cを通って蓄熱室18bへと導入され、そこで蓄熱体16より熱を与えられて予熱された後、燃焼室22へと送られる。そして、燃焼室22で所定の処理対象成分が加熱分解されて処理済みと成った排ガスEは、蓄熱室18aを通り、蓄熱体16と間で熱交換して冷却された後、第4流体通路40Dを通過して処理ガス排気ダクト32へと与えられる。
以下、所定時間が経過すると、再び排ガス給排機構14が作動して、図1の状態へと切り換わり、これ以降の排ガス除害装置10稼働中は、所定時間間隔をおいて上述の動作が繰り返される。
本実施形態の排ガス除害装置10によれば、蓄熱室18の蓄熱体16と排ガス給排口19との間に、洗浄水Wを噴射するスプレーノズル20が設けられているので、排ガス給排口19を介して蓄熱室18内へと供給される排ガスE及び燃焼室18で加熱分解され排ガス給排口19を介して蓄熱室18から排出される排ガスEは、共にスプレーノズル20から噴射される洗浄水Wによって洗浄される。このため、粉塵を含んだ排ガスEが蓄熱室18へ導入された際には、洗浄水Wによって排ガスE中の粉塵が洗い流され、蓄熱体16が目詰まりするのを著しく遅延させることができる。また、排ガスEに含まれるPFCsの加熱分解により副成したフッ化水素は、排ガス給排口19を通って蓄熱室18から排出される前に、洗浄水Wに吸着されフッ酸として洗浄水W中に回収されるので、(配管系である)排ガス給排機構14の腐食を抑えることができる。
また、上述のようなスプレーノズル20を設けることにより、熱分解炉12へ導入する前の排ガスEを液洗する湿式の入口スクラバーや熱分解炉12での熱分解後の排ガスEを液洗する湿式の出口スクラバーが不要となり、排ガス除害装置10をコンパクトにすることができる。
なお、上述の実施形態では、熱分解炉12が2つの蓄熱室18a,18bで構成される場合を示したが、この蓄熱室18は、本体ケーシング26の軸回りに複数設けられるものであれば良く、3室以上設けるようにしてもよい。
ここで、熱分解炉12に蓄熱室18を3室以上設ける場合には、排ガス給排機構14に設けられる開閉弁をロータリーバルブで構成して一本化するのが好ましい。このようにロータリーバルブを用いることで、排ガス除害装置10をコンパクトで且つ弁トラブルの少ないものにすることができる。
10…排ガス除害装置
12…熱分解炉
14…排ガス給排機構
16…蓄熱体
18…蓄熱室
19…排ガス給排口
20…スプレーノズル
22…燃焼室
24…加熱手段
30…排ガス供給ダクト
32…処理ガス排気ダクト
34…貯留槽
E…排ガス
W…洗浄水

Claims (2)

  1. 蓄熱体(16)を有する複数の蓄熱室(18)と、上記蓄熱室(18)の上端を連通すると共にその内部を加熱する加熱手段(24)が設けられた燃焼室(22)とで構成された熱分解炉(12)、及び、
    排ガス供給ダクト(30)を通じて供給される排ガス(E)を上記蓄熱室(18)に対して一定時間間隔をおいて順次供給すると共に、上記燃焼室(22)で加熱分解された後、上記排ガス(E)が供給されていない蓄熱室(18)を通過して熱分解炉(12)から排出される処理済みの排ガス(E)を処理ガス排気ダクト(32)へと送給する排ガス給排機構(14)を具備する排ガス除害装置であって、
    上記の蓄熱室(18)には、その上部に配設された上記の蓄熱体(16)とその下部に設けられた排ガス給排口(19)との間に、上記排ガス(E)に対して洗浄水(W)を噴射するスプレーノズル(20)が取り付けられる、
    ことを特徴とする排ガス除害装置。
  2. 請求項1の排ガス除害装置において、
    前記蓄熱室(18)の下端に前記スプレーノズル(20)から噴射された洗浄水(W)を集めて貯留する貯留槽(34)が設けられる、ことを特徴とする排ガス除害装置。


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