KR20100009228A - 폐가스 처리장치 - Google Patents

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KR20100009228A
KR20100009228A KR1020080070023A KR20080070023A KR20100009228A KR 20100009228 A KR20100009228 A KR 20100009228A KR 1020080070023 A KR1020080070023 A KR 1020080070023A KR 20080070023 A KR20080070023 A KR 20080070023A KR 20100009228 A KR20100009228 A KR 20100009228A
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김선환
한용기
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주식회사 케이피씨
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Abstract

반도체, 평판 디스플레이 등의 제조에 사용된 인체 유해물질, 공해유발물질 등을 포함하는 폐가스의 처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 폐가스를 연소시키는 열처리부, 상기 열처리부에 의해 폐가스가 연소되는 공간을 제공하는 챔버 및 상기 챔버의 측면에서 상기 챔버 내주면의 접선방향을 향하여 구비되는 적어도 하나 이상의 폐가스 유입부를 포함하여 구성된다.
반도체, 디스플레이, 폐가스 처리, 챔버, 플라즈마, 나선기류

Description

폐가스 처리장치{Waste Gas Processing}
본 발명은 폐가스 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 작동시간을 연장시킬 수 있는 폐가스 처리장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 산업은 그 유용성만큼이나 복잡하면서도 매우 정교한 정밀도를 요구하는 많은 종류의 제조설비 및 제조공정을 필요로 한다. 이러한 반도체 제조공정이나 LCD 제조공정 등은 그 공정 특성상, 인체에 치명적인 각종 유독성, 부식성, 인화성 가스를 다량으로 사용하는 것이 일반적이다.
예를 들어 대표적인 반도체 제조 공정 중 하나인 CVD(Chemical Vapor Deposition)공정에서는 다량의 실란, 디클로실란, 암모니아, 산화질소, 아르신, 포스핀, 디보론, 보론, 트리클로라이드 등의 유독성 가스를 사용한다.
이러한, CVD공정 이외에도 플라즈마에칭, 에피택시증착, 스퍼터링 등과 같은 여러 종류의 반도체 공정들에서도 상술한 각종 유독성가스를 다량으로 사용하고 있다.
그런데, 상술한 바와 같은 반도체 제조공정이나 LCD 제조공정에 사용되는 가스는 그 독성이 매우 심각하여 제조공정 후에 이 유독성가스를 아무런 순화과정 없 이 대기 중으로 무단 방출할 경우, 인체 및 생태계에 심각한 영향을 미칠 수 있다.
따라서, 종래의 생산라인에서는 라인 내부의 일정 영역에 폐가스를 전담 처리할 수 있는 폐가스처리장치를 배치하고, 이 폐가스처리장치를 이용하여 반도체 제조 공정 중 발생하는 유독성가스의 유해성분의 함량을 허용농도 이하로 낮추는 무해화 처리과정을 필수적으로 거쳐서 대기 중으로 배출시켜야 한다.
이러한 무해화 처리과정은 가열 분해 후 다른 가스와의 혼합을 통해 고체 분말 형태로 석출하거나, 수용성 가스의 경우 물에 용해시켜서 배출하는 방법을 사용하고 있다.
최근에는 상기의 폐가스를 가열하여 열 분해하는 방법으로 플라즈마 아크 토치를 사용하는 방식을 주로 사용하고 있다.
폐가스는 열 분해 되는 동안에 파우더가 발생한다. 이러한 상기 파우더는 열 분해된 가스와 함께 일부는 배출되고, 나머지는 연소공간의 벽면 등에 적층되어 잔재하게 된다.
이에 따라, 상기 폐가스가 연소공간에 잔재하는 파우더로 인하여 상기 폐가스가 연소되는 효율이 저하되는 문제점이 있다.
또한, 상기 파우더를 제거하기 위하여 작업을 중단하고 상기 연소공간을 청소해야 하기 때문에 작업의 효율성이 저하되는 문제점도 있다.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적 은 연소공간 내에 파우더가 적층되지 않도록 하는 폐가스 처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 향상된 폐가스의 정화 처리 효율을 제공하는 폐가스 처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 챔버 내의 열이 외부로 유출되는 것을 방지하는 폐가스 처리장치를 제공하는 것에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 폐가스를 연소시키는 열처리부, 상기 열처리부에 의해 폐가스가 연소되는 공간을 제공하는 챔버 및 상기 챔버의 측면에서 상기 챔버 내주면의 접선방향을 향하여 구비되는 적어도 하나 이상의 폐가스 유입부를 포함하는 폐가스 처리장치를 제공한다.
본 발명에 따른 폐가스 처리장치에서, 상기 열처리부는 상기 챔버의 상부에 위치하고, 플라즈마 토치를 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에서, 상기 폐가스 유입부는 상기 챔버 내부로 유입된 폐가스가 챔버 내부에서 나선기류를 형성하도록 상기 폐가스를 안내할 수 있다.
이에 따라, 상기 가스가 나선기류를 형성하여 상기 챔버의 내부로 유입되어 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 불어 떨어뜨릴 수 있다.
또한, 상기 폐가스 유입부는 상기 챔버의 가장자리를 따라 소정 간격을 두고 배치될 수 있다.
상기 챔버는 하부로 갈수록 직경이 작아지는 형태를 갖도록 구성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에서, 상기 챔버 내부로 유동유체가 공급되어 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 제거할 수 있다.
상기 유동유체는 상기 챔버 외측에 구비된 유체공급부를 통하여 상기 챔버 내부에 공급될 수 있다.
상기 유체공급부는 상기 유동유체가 수용되며, 수용된 유동유체가 챔버 내부로 공급되도록 형성되는 유체수용부재 및 상기 유체수용부재로 상기 유동유체를 공급하는 유체공급관을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 유체공급관은 상기 유동유체가 상기 유체수용부재 내부의 공간에서 회전 될 수 있도록 상기 챔버 내주면의 접선방향을 따라 구비될 수 있다.
상기 유동유체는 상기 유체수용부재의 공간에서 넘치는(overflow) 상기 유동유체가 상기 챔버 내부로 유입될 수 있다.
이와 같이, 유입된 상기 유동유체는 상기 폐가스 유입부로 유입된 폐가스와 함께 상기 챔버 내주면을 따라 회전하면서 내려가면서 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 제거할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에서, 상기 챔버 내부에는 상기 연소공간의 열이 외부로 유출되는 것을 차단하기 위한 단열재를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
여기에서, 단열재는 세라믹 재질로 고온에서의 내열성이 매우 높은 재질이 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에서, 상기 챔버의 하부에는 열 분해된 폐가스가 재결합하는 것을 방지하기 위한 재결합 방지 가스 유입구를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에서, 상기 챔버를 통하여 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부를 더 포함할 수 있다.
상기의 구성을 가지는 본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 폐가스 유입부를 챔버 내주면의 접선방향을 향하도록 구비하여 폐가스가 챔버의 내벽을 따라 흐르기 때문에 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 제거할 수 있는 효과가 있다.
따라서, 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 제거하기 위하여 공정을 중단하는 일없이 계속적인 가동이 가능하여 공정 중단에 따른 비용을 절감할 수 있는 장점이 있다.
둘째, 복수 개로 이루어진 폐가스 유입부가 챔버 내주면의 접선방향을 향하여 구비되어 폐가스가 나선기류를 형성하여 상기 챔버 내로 유입되기 때문에 챔버내부에 머무는 시간이 증대되는 효과가 있다.
따라서, 상기 폐가스가 챔버내부에 오랫동안 머물러 있게 됨으로써, 열처리부에 노출되는 시간이 증가하여 상기 폐가스의 더욱 효과적으로 열 분해될 수 있다.
셋째, 폐가스 유입부로 유입되는 상기 폐가스의 기류를 따라 상기 챔버 내주면을 회전하면서 내려가는 유동유체를 공급함으로써, 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 효과적으로 제거하여 상기 폐가스 처리장치의 수명을 연장시킬 수 있는 효과가 있다.
넷째, 유동유체가 챔버의 내벽과 외벽 사이의 공간에 공급되어 추가적으로 상기 챔버 외벽을 냉각시키기 위한 장치의 역할을 겸할 수 있는 장점이 있다.
따라서, 폐가스 처리장치가 작동 중에도 사용자가 접촉하였을 경우에 발생할 수 있는 화상의 위험을 방지할 수 있게 된다.
다섯째, 상기 챔버 내부에 상기 연소공간의 고온이 외부로 유출되는 것을 방지하기 위하여 단열보강재를 더 구비함으로써, 챔버 내부의 연소공간을 고온의 분위기를 지속적으로 유지할 수 있어 상기 폐가스를 효율적으로 처리할 수 있다.
이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.
우선, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 구성을 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 폐가스 처리장치는, 크게, 폐가 스를 연소시키는 열처리부(100), 폐가스가 연소되는 공간을 제공하는 챔버(200), 폐가스 유입부(300) 및 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부(400)를 포함하여 이루어진다.
상기 열처리부(100)는 상기 챔버(200)의 상부에 위치하고, 아크 방전을 이용한 플라즈마 토치를 사용할 수 있다.
이러한 상기 열처리부(100)는 플라즈마 토치를 이용한 화염(F)으로 상기 챔버(202) 내부의 연소공간(210)에 고온의 열을 공급하여 상기 폐가스를 열 분해 시키는 역할을 담당한다.
상기 챔버(200)는 상기 유입구(300)를 통하여 유입된 상기 폐가스가 상기 열처리부(100)의 플라즈마 토치에서 발생하는 화염(F)에 의하여 열 분해되는 연소공간(210)을 제공한다.
본 실시예에서 상기 챔버(200)의 내부의 연소공간(210)은 도 2또는 도 4에 도시된 바와 같이, 하부로 갈수록 단면적이 좁아지는 형태로 구비될 수 있다.
또한, 상기 챔버(200)의 내부에는 상기 열처리부(100)의 플라즈마 토치에서 발생하는 화염(F)에 의한 열이 외부로 빠져나가는 것을 방지하기 위하여 단열재(242)가 구비될 수 있다.
여기에서, 상기 단열재(242)는 고온에서 내열성을 가지는 세라믹 재질로 구비되는 것이 바람직하다. 하지만, 이에 한정하지 않고 고온에서도 내열성이 높은 다양한 재질을 사용할 수도 있다.
이에 더해, 상기 챔버(200)의 하부와 상기 냉각부(400)의 상부 사이에 구비 되어 상기 챔버(200) 내부의 연소공간(210)에서 열 분해된 상기 폐가스가 상기 냉각부(400)로 유입되기 전에 재결합하는 것을 방지하기 위한 재결합 방지 가스 유입구(220)를 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 재결합 방지 가스 유입구(220)를 통하여 유입된 재결합 방지 가스는 상기 챔버의 하부에 구비된 재결합 방지 가스 분사구(222)를 통하여 상기 챔버(200) 내부의 연소공간(210)에서 열 분해된 상기 폐가스가 상기 냉각부(400)로 유입되기 전에 분사된다.
여기에서, 상기 재결합 방지 가스로는 질소가스, 산소가스 등을 들 수 있으며, 이밖에 고온분위기에서 활성을 나타내는 가스를 모두 사용할 수 있다.
상기 폐가스를 상기 챔버(200) 내부로 안내하는 상기 폐가스 유입부(300)는 상기 챔버(200)의 가장자리 즉, 상기 챔버(200) 내주면의 접선방향을 따라, 상기 챔버(200)의 측면에 복수 개로 구비될 수 있다.
본 실시예에서는 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 폐가스 유입부(300)는 상기 챔버(200)의 가장자리를 따라서 4개가 구비되어 있는 것을 나타내고 있다. 하지만, 이에 한정하지 않고 그 개수는 설계 조건에 맞게 다양하게 변화될 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버(200)의 가장자리에 배치된 상기 폐가스 유입부(300)를 통하여 유입된 상기 폐가스는 상기 챔버(200) 내주면을 따라 흐르며 이는 상기 챔버(200)의 연소공간(210) 내에 나선기류를 형성하게 된다.
이처럼, 나선기류를 형성하는 상기 폐가스는 상기 챔버(200) 내의 연소공간(210)에 머무는 시간이 증대되어 상기 열처리부(100)의 플라즈마 토치에서 발생 하는 화염(F)과 접촉하는 시간이 길어져 상기 폐가스가 열 분해 되는 효율이 증가 할 수 있다.
상기 폐가스는 상기 챔버(200)의 연소공간(210)에서 열 분해되는 과정에서 파우더가 발생하게 된다.
이러한 상기 파우더는 열 분해된 상기 폐가스와 함께 일부가 상기 냉각부(400)로 배출된다. 하지만, 상기 냉각부(400)로 배출되지 않고 일부가 상기 챔버(200) 내벽에 적층되게 된다.
이에, 상기 열처리부(100)의 플라즈마 토치에서 발생하는 화염(F)에 의하여 상기 폐가스가 열 분해 되는 과정에서 상기 챔버(200)의 내벽에 적층된 파우더는 상기 챔버(200) 내주면을 따라 흐르며 나선기류를 형성하는 상기 폐가스에 의해 날리게 되어 상기 정화 처리된 가스와 함께 상기 냉각부(400)로 배출되게 된다.
한편, 본 실시예에서 상기 폐가스 처리장치는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 폐가스가 상기 연소공간(210)에서 상기 열처리부(100)의 플라즈마 토치에서 발생하는 화염(F)에 의해 열 분해 되는 동안에 발생하는 파우더가 쓸려 내려가도록 유동유체가 상기 챔버(200) 내부에 공급될 수 있다.
여기에서, 상기 유동유체는 상기 챔버(200) 외측에 유동유체를 공급하는 유체공급부(300)가 구비될 수 있다.
상기 유체공급부(300)는 챔버(200) 내주면을 둘러싸고 내부에 상기 유동유체가 수용되는 유체수용부재(340) 및 상기 유체수용부재(340)로 상기 유동유체를 공급하는 유체공급관(320)을 포함하여 이루어 질 수 있다.
상기 유체공급관(320)은 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 유동유체가 상기 유체수용부재(340) 내부의 공간에서 회전 될 수 있도록 상기 챔버(200) 내주면의 접선방향을 향하도록 구비될 수 있다.
또한, 상기 유체수용부재(340)은 수용된 유동유체가 넘칠 때, 넘치는 유동유체가 챔버(200) 내로 유입될 수 있도록 상측에 적어도 일부가 개구되게 형성될 수 있다.
따라서, 상기 유동유체는 상기 유체공급관(320)을 통하여 상기 유체수용부재(340)로 공급되고, 상기 유체수용부재(340)에서 넘치는 상기 유동유체가 상기 챔버(200) 내부로 유입될 수 있다.
이와 같이, 본 실시예에서는 도 4에 도시된 바와 같이 상기 챔버(200) 내부로 공급된 상기 유동유체는 상기 챔버(200)의 내에 구비된 단열재(242)를 따라서 회전하면서 상기 파우더와 함께 상기 냉각부(400)로 배출되는 것을 예시하고 있다.
이처럼, 상기 유동유체는 상기 폐가스 유입부(260)로 유입된 폐가스의 기류를 따라 회전하면서 상기 챔버 내벽(240)에 적층되는 파우더를 제거할 수 있게 된다.
한편, 상기 유체수용부재(340)에는 항시 유동유체가 수용되어 있기 때문에 상기 챔버 외벽(250)을 냉각시키는 역할까지 담당할 수 있다.
따라서, 상기 유동유체는 상기 챔버 내벽(240)에 적층되는 파우더를 쓸어 내리는 역할 뿐만 아니라 상기 챔버 외벽(250)을 냉각시키는 효과를 보일 수 있다.
상기 유체공급관(320)은 상기 유체수용부재(340) 내주면의 접선방향으로 구 비되어 상기 유동유체가 상기 유체수용부재(340) 내에서 회전하도록 토출될 수 있다.
이처럼, 상기 유동유체는 상기 유체수용부재(340) 내에서 회전하면서 수용되고 상기 유체수용부재(340)로부터 상기 챔버(200) 내로 넘치게 되는 상기 유동유체는 상기 챔버(200) 내로 회전력을 가지는 상태에서 유입될 수 있다.
따라서, 상기 유동유체가 상기 챔버 내벽(240)을 따라 회전하면서 상기 챔버 내벽(240)에 적층되는 파우더를 제거하면서 상기 냉각부(400)로 함께 쓸려 내려갈 수 있게 된다.
또한, 상기 유동유체가 상기 챔버 내벽(240)을 따라 회전하면서 돌아 내려가게 됨으로 인하여 상기 폐가스 유입부(260)를 통하여 유입된 폐가스의 나선기류를 따르게 되어 상기 챔버 내벽(240)에 적층된 파우더를 보다 균일하게 제거할 수 있다.
본 실시예에서 상기 유동유체는 물로 구성되어 있고, 상기 유동유체가 상기 챔버(200) 내부의 연소공간(210)에서 열처리부(100)의 플라즈마 토치에서 발생하는 화염(F)에 의한 고온에서 기화되는 양보다 더 많은 양을 공급함으로써 상기 유동유체가 상기 챔버 내벽(240)을 따라 흐르며 상기 파우더를 제거하는 역할을 담당하게 할 수 있는 것이다.
상기 냉각부(400)는 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 챔버(200)의 하단에서 하부로 갈수록 단면적이 줄어들도록 경사지게 형성된 경사부(420) 및 상기 경사부(420)의 하단에서 수직 방향 하부로 연장 형성된 연장부(440)를 포함하여 구성된 다.
여기에서, 상기 냉각부(400)는 상기 챔버(200)의 연소공간(210)에서 열 분해되어 유입된 고온의 폐가스를 상온으로 냉각하는 역할을 담당한다.
상기 경사부(420)는 상기 챔버(200)와 연통하는 플렌지(410), 상기 경사부(420)의 상부 측면에 구비되는 퍼지가스 유입구(426), 상기 경사부(420)의 하부 측면에 구비되는 냉각수 주입관(422), 상기 경사부(420) 내부에 구비되어 상기 냉각수 주입관(422)으로부터 주입된 냉각수의 흐름을 안내하는 가이드(424)로 구성되어 있다.
또한, 경사부(420)의 내부에는 상기 챔버(200)의 연소공간(210)에서 상기 폐가스가 열 분해되는 과정에서 발생하는 파우더의 적층을 방지하는 차단판(412), 상기 차단판(412) 상에 구비되고, 상기 퍼지가스 유입구(426)와 연통되어 퍼지가스를 분사하는 퍼지가스 분사구(428)를 더 포함하여 구성되어 있다.
상기 차단판(412)은 퍼지가스 분사구(428)를 통하여 분사되는 고압의 퍼지가스에 의하여 적층되는 파우더를 제거하고, 상기 파우더는 상기 냉각수와 함께 연장부(440)로 배출된다.
이처럼, 상기 차단판(412)은 경사부(420)의 상부에 위치하여 상기 열처리부(100)에 의해 상기 챔버(200) 내의 연소공간(210)에서 상기 폐가스가 열 분해되는 과정에서 발생되는 파우더가 적층됨으로써 발생되는 부식을 미연에 방지하는 역할을 담당한다.
또한, 상기 차단판(412)은 상기 냉각부(400) 상부의 경사면에 파우더 적층을 차단하고 상기 냉각수 주입관(422)으로부터 주입된 냉각수가 오버플로우(over-flow)되어 상기 챔버(200) 내부의 연소공간(210)으로 튀는 것을 방지하도록 경사지게 구비될 수 있다.
상기 연장부(440) 내부에는 상기 경사부(420)를 거쳐서 일정부분 냉각된 가스를 상온까지 냉각할 수 있도록 냉각수를 분무하는 복수 개의 냉각수 분사노즐(442)이 수직방향으로 일정 간격을 두고 배치된다.
본 실시예에서는 제1분사노즐(442a) 및 제2분사노즐(442b)이 수직방향으로 2개가 배치되어 있는 것을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고 설계 조건에 맞게 다양하게 변화될 수 있다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 첨부된 청구범위에서 알 수 있는 바와 같이 본 발명이 속한 분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 정신을 벗어나지 않고 변형이 가능하고 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 구성도;
도 2는 도 1의 챔버와 유입구의 결합 상태도;
도 3은 도 2의 평면도;
도 4는 도 1의 챔버 내의 유동유체의 흐름을 나타내는 상태도;
도 5는 도 2의 평면도; 및
도 6은 도 1의 냉각부의 구성도이다.
< 도면의 주요부분에 대한 부호 설명 >
100: 열처리부 200: 챔버
210: 연소공간 220: 재결합 방지 가스 유입구
222: 재결합 방지 가스 분사구 240: 내벽
242: 단열재 250: 외벽
300: 폐가스 유입부 320: 유체공급관
340: 유체수용부재 400: 냉각부
410: 플렌지 412: 차단판
420: 경사부 422: 냉각수 주입관
424: 냉각수 가이드 426: 퍼지가스 유입구
428: 퍼지가스 분사구 440: 연장부
442: 분사노즐

Claims (20)

  1. 폐가스를 연소시키는 열처리부;
    상기 열처리부에 의해 폐가스가 연소되는 연소공간을 제공하는 챔버; 및
    상기 챔버의 측면에서 상기 챔버 내주면의 접선방향을 향하여 구비되는 적어도 하나 이상의 폐가스 유입부;
    를 포함하는 폐가스 처리장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 폐가스 유입부는,
    상기 챔버 내부로 유입된 폐가스가 챔버 내부에서 나선기류를 형성하도록 상기 폐가스를 안내하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 폐가스 유입부는,
    상기 챔버의 가장자리를 따라 소정 간격을 두고 배치되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버는,
    하부로 갈수록 직경이 작아지는 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버 내부로 공급되어 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더가 쓸려 내려가도록 하는 유동유체를 공급하는 유체공급부를 더 포함하는 폐가스 처리장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 유체공급부는,
    상기 유동유체가 수용되며, 수용된 유동유체가 챔버 내부로 공급되도록 형성되는 유체수용부재; 및
    상기 유체수용부재로 상기 유동유체를 공급하는 유체공급관;
    을 포함하여 이루어지는 폐가스 처리장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 유체공급관은,
    상기 유동유체가 상기 유체수용부재 내부의 공간에서 회전 될 수 있도록 상기 챔버 내주면의 접선방향을 따라 구비되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 유동유체는,
    상기 유체수용부재에서 넘치면서 상기 챔버 내부로 유입되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  9. 제 5항에 있어서,
    상기 유동유체는,
    상기 폐가스 유입부로 유입된 폐가스와 함께 상기 챔버 내주면을 따라 회전하면서 내려가는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버 내부에는 상기 연소공간의 열이 외부로 유출되는 것을 차단하기 위한 단열재를 더 포함하는 폐가스 처리장치.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 단열재는,
    세라믹재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 열처리부는,
    상기 챔버의 상부에 위치하고, 플라즈마 토치를 이용하는 것을 특징으로 하 는 폐가스 처리장치.
  13. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버의 하부에 구비되어 열 분해된 상기 폐가스가 재결합하는 것을 방지하기 위한 재결합 방지 가스 유입구를 더 포함하는 폐가스 처리장치.
  14. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버를 통하여 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부를 더 포함하여 이루어지는 폐가스 처리장치.
  15. 열처리부;
    내부에 소정의 공간을 형성하는 챔버; 및
    상기 챔버의 내주면을 따라 흐르며, 상기 열처리부에 의해 연소되는 폐가스;
    를 포함하는 폐가스 처리장치.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 챔버는,
    상기 가스가 상기 챔버 내부로 유입되는 복수 개의 유입부를 더 포함하여 이루어지는 폐가스 처리장치.
  17. 제 15항에 있어서,
    상기 폐가스는,
    상기 챔버내의 공간에서 나선기류를 형성하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  18. 제 15항에 있어서,
    상기 가스는,
    상기 챔버의 내벽에 적층되는 파우더를 불어 떨어뜨리는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
  19. 제 15항에 있어서,
    상기 챔버 내부로 공급되어, 상기 챔버 내벽에 적층되는 파우더를 제거하기 위한 유동유체를 더 포함하는 폐가스 처리장치.
  20. 제 19항에 있어서,
    상기 유동유체는,
    상기 가스가 형성하는 기류를 따라 상기 챔버 내주면 둘레를 회전하면서 내려가는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20160073007A (ko) * 2014-12-16 2016-06-24 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 반응기 내부에 수막이 형성되는 플라즈마 버너용 스크러버
TWI667061B (zh) * 2018-08-15 2019-08-01 東服企業股份有限公司 Exhaust gas introduction device

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