JP2006136154A - 位置決め装置およびそれを用いた露光装置、デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数の磁石を有する移動体と、前記移動体をXY方向に移動するために各方向に複数並べられたコイルを有する位置決め装置において、前記複数の磁石はXY方向に力を発生するための第1磁石ユニットと、Z軸回りの回転方向に力を発生するための第2磁石ユニットを形成し、X方向に力を発生するコイルの少なくとも一部がZ軸回りの回転方向に力を発生し、Y方向に力を発生するコイルからはZ軸回りの回転方向に力が発生しないように、前記第2磁石ユニットが設けられていることを特徴としている。
【選択図】 図2
Description
複数の磁石はXY方向に力を発生するための第1磁石ユニットと、Z軸回りの回転方向に力を発生するための第2磁石ユニットを形成し、X方向に力を発生するコイルの少なくとも一部がZ軸回りの回転方向に力を発生し、Y方向に力を発生するコイルからはZ軸回りの回転方向に力が発生しないように、第2磁石ユニットが設けられていることを特徴としている。ここで、「X方向」と「Y方向」は同一平面内で直交する2つの方向を定義するために用いられており、「第1の方向」と「第1の方向と直交する第2の方向」と同義である。
図8は、実施例1におけるステージ装置を上から見た図であり、図8(b)は横から見た断面図である。位置決め対象物を搭載したステージ1(移動体)は、ベース部材3上でXY方向に移動可能である。ステージ1は下面に磁石ユニット2を有し、これについては後述する。ベース部材3は磁石ユニット2と対向する面にコイルユニット4を有し、全体としてプラテン8を形成する。コイルユニット4はY方向に直線部を有し、Y方向を長手方向とするコイルをX方向に複数並べた第1コイル層を有する。第1コイル層の下(Z方向下方)には、X方向に直線部を有し、X方向を長手方向とするコイルをY方向に複数並べた第2コイル層を有する。さらに、所定方向に直線部を有するコイルを並べたコイル層を複数有している。これらのコイルはベース部材3に固定されており、コイルユニット4は不図示のジャケットによって覆われている。このような構成で、ジャケット内に冷媒を流すか、コイル間に冷却管を配置することにより、コイルに電流を流した際に生じる熱を冷却している。
MP=4/3*CP (1)
を満たす。ステージの磁石ユニット24の各磁石が発生する磁束は、コイルユニットの位置において、所定の周期を有する磁束密度分布を形成する。各磁石はハルバッハ配列となっているため、コイルユニットの位置におけるZ方向の磁束密度分布の平均値はX軸に対してほぼ周期MPの正弦波として近似することができる。
f2,f6,f10,f14=−Ii*K*cos(2*π/MP*x) (2)
f4.f8,f12=Ii*K*cos(2*π/MP*x) (3)
f3,f7,f11,f15=Ii*K*sin(2*π/MP*x) (4)
f5,f9,f13=−Ii*K*sin(2*π/MP*x) (5)
ここでKは定数である。なお、正確には磁石ユニット25の影響によりf4,f5,f12,f13は他のコイルが発生する推力と比べて若干Kの値が異なるが、制御上は問題にはならない大きさであるものとする。
I2,I6,I10,I14=−I*cos(2*π/MP*x) (6)
I4,I8,I12=I*cos(2*π/MP*x) (7)
I3,I7,I11,I15=I*sin(2*π/MP*x) (8)
I5,I9,I13=−I*sin(2*π/MP*x) (9)
とすると、力の和(f2+f3)は
(f2+f3)=I*K*cos^2(2*π/MP*x)+I*K*sin^2(2*π/MP*x)=I*K (10)
となる。(f4+f5)、(f6+f7)、(f8+f9)、(f10+f11)、(f12+f13)、(f14+f15)についても同様にI*Kとなり、全ての推力の総和は7*I*Kとなる。すなわち力Fを発生させたい場合には
I=F/K/7 (11)
とすればよい。ステージの位置xの計測には不図示のレーザ干渉計を用いる。ここで、電流Iiはその位相を磁束密度分布の位相と合わせている点に注意すべきである。つまり、レーザ干渉計によって得られた計測値はステージの位置制御のためのフィードバック信号として用いるほか、上述の電流の位相を計算する際にも用いる。
MP=4/3*CP (1)
を満たす。ステージの磁石ユニット24の各磁石が発生する磁束は、コイルユニットの位置において、所定の周期を有する磁束密度分布を形成する。各磁石はハルバッハ配列となっているため、コイルユニットの位置におけるZ方向の磁束密度分布の平均値はY軸に対してほぼ周期MPの正弦波として近似することができる。ここで、ハルバッハ配列が2次元に構成されており、コイル部分によって磁束密度分布に差が生じるため「磁束密度分布の平均値」としている。
f’4,f’12=I’i*K’*cos(2*π/MP*x) (12)
f’5,f’13=−I’i*K’*sin(2*π/MP*x) (13)
ここで、K’は定数である。また、各コイル(c4,c5,c12,c13)に流す電流値I’4,I’5,I’(12,I’13を、
I’4=I’*cos(2*π/MP*x) (14)
I’5=−I’*sin(2*π/MP*x) (15)
I’12=−I’*cos(2*π/MP*x) (16)
I’13=I’*sin(2*π/MP*x) (17)
とすると、すなわち、コイル12,13に流す電流値をコイル4,5に流す電流値に−1を乗じた値とすると、力の和(f’4+f’5),(f’12+f’13)は、
f’4+f’5=I’*K’*cos^2(2*π/MP*x)+I’*K’*sin^2(2*π/MP*x)=I’*K’ (18)
f’12+f’13=−I’*(K’*cos^2(2*π/MP*x)+K’*sin^2(2*π/MP*x))=−I’*K’ (19)
となる。
θzm=I’*L*K’ (20)
となる。つまり、Mzなる大きさのモーメントを発生させるには、式(14)〜(17)において
I’=θzm/L/K’ (21)
となるように電流値を与えればよい。
θzm=0.5*I’*L*K’ (22)
となる。ただし(22)式はステージの重心位置がステージ中央にあるものとしている。ステージの重心位置がステージ中央からずれている時は、モーメント計算においてずれ量を補正値として加えればよい。また、磁石ユニットを片側のみに配置した場合には(18),(19)式のうち一方のみが推力として働くため、偶力として作用せずにθz方向推力を働かせるための電流によってX方向に推力が発生する。このような推力はX方向推力を働かせるための電流値を補正することによって対処することができる。
図5は、上記と同様のステージ装置をウエハステージとする半導体デバイス製造用の露光装置を示す。
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図6は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
2,24,25a,25b 磁石ユニット
3 ベース部材
4 コイルユニット
5 コイル
6 欠損部分
7 追加部分
8 プラテン
21,22 主極磁石
23 補極磁石
c1〜c17,c101〜c118 コイル
101 照明系ユニット
102 レチクルステージ
103 投影系ユニット
104 ウエハステージ
105 本体構造体
Claims (12)
- 複数の磁石を有する移動体と、前記移動体をXY方向に移動するために各方向に複数並べられたコイルを有する位置決め装置において、
前記複数の磁石はXY方向に力を発生するための第1磁石ユニットと、Z軸回りの回転方向に力を発生するための第2磁石ユニットを形成し、
X方向に力を発生するコイルの少なくとも一部がZ軸回りの回転方向に力を発生し、Y方向に力を発生するコイルからはZ軸回りの回転方向に力が発生しないように、前記第2磁石ユニットが設けられていることを特徴とする位置決め装置。 - 前記第2磁石ユニットは、前記第1磁石ユニットをY方向で挟むように少なくとも一対設けられ、対を構成する各々はX方向に力を発生するコイルのうち、異なるコイルによって駆動されることを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。
- 前記第2磁石ユニットは、X方向にN極とS極を交互に並べた複数の磁石からなることを特徴とする請求項1または2に記載の位置決め装置。
- 前記第1磁石ユニットは、二次元的にN極とS極を交互に並べた複数の磁石からなることを特徴とする請求項1〜3に記載の位置決め装置。
- 前記移動体は、X方向に所定の間隔で並べられた第1コイル層と、Y方向に所定の間隔で並べられた第2コイル層とを有することを特徴とする位置決め装置。
- 複数の磁石を有する移動体と、前記移動体をXY方向に移動するために各方向に複数並べられたコイルを有する位置決め装置において、
前記複数の磁石はXY方向に力を発生するための第1磁石ユニットと、Z軸回りの回転方向に力を発生するための第2磁石ユニットを形成し、
X方向に力を発生するコイルの少なくとも一部がZ軸回りの回転方向に力を発生し、前記第2磁石ユニットは、X方向に一列でN極とS極を交互に並べた複数の磁石からなることを特徴とする位置決め装置。 - 前記第1磁石ユニットは二次元的にN極とS極を交互に並べた複数の磁石からなることを特徴とする請求項7に記載の位置決め装置。
- 前記第2磁石ユニットは前記第1磁石ユニットをY方向で挟むように一対設けられることを特徴とする請求項7または8に記載の位置決め装置。
- 移動体をプラテン上で移動する位置決め装置であって、
前記移動体は第1及び第2磁石ユニットとを有し、
前記プラテンは、Y方向を長手方向とし、X方向に並べられた複数のコイルからなる第1コイル層と、X方向を長手方向とし、Y方向に並べられた複数のコイルからなる第2コイル層とを有し、
前記第1または第2コイル層の少なくとも一部のコイルに電流を流すことによってZ軸周りの回転方向に力を発生し、他方のコイル層のコイルからはZ軸周りの回転方向に力を発生しないように前記第2磁石ユニットが設けられることを特徴とする位置決め装置。 - 複数の磁石を有する移動体と、前記移動体をXY方向に移動するために各方向に複数並べられたコイルを有する位置決め装置において、
前記複数の磁石はXY方向に力を発生するための第1磁石ユニットと、Z軸回りの回転方向に力を発生するための第2磁石ユニットを形成し、
前記第1磁石ユニットは二次元的にN極とS極を交互に並べた複数の磁石からなり、
前記第2磁石ユニットは一次元的にN極とS極を交互に並べた複数の磁石からなることを特徴とする位置決め装置。 - パターンを基板に露光する露光装置であって、請求項1〜10のいずれかに記載の位置決め装置を用いて、基板を位置決めすることを特徴とする露光装置。
- デバイス製造方法であって、請求項11に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、前記ウエハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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