JP5726794B2 - 平面モータおよび平面モータを備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射(すなわち単一静的露光)で目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」及び基板テーブルWTまたは「基板支持部」は実質的に静止状態とされる。そして基板テーブルWTまたは「基板支持部」がx方向及び/またはy方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写される目標部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間(すなわち単一動的露光の間)、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」及び基板テーブルWTまたは「基板支持部」は同期して走査される。マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」に対する基板テーブルWTまたは「基板支持部」の速度及び方向は、投影系PSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離が目標部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.別のモードにおいては、マスクテーブルMTまたは「マスク支持部」がプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板テーブルWTまたは「基板支持部」が移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板支持部」の毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のプログラマブルミラーアレイ等のプログラム可能パターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (13)
- 平面モータが設けられたリソグラフィ装置であって、
第1ピッチで繰り返し配列された複数の固定子極を有し、該複数の固定子極が移動面の第1側に対向する、固定子と、
第2ピッチで繰り返し配列された複数の移動体極を有し、該複数の移動体極が前記移動面の第2の反対側に対向する、移動体と、を備え、
前記固定子および前記移動体のうち少なくとも一方の極に、各巻線を流れる電流に応じて前記固定子極と前記移動体極のそれぞれにおける磁界を変更するための巻線が設けられており、
前記固定子および前記移動体の少なくとも一方が永久磁石を有しており、該永久磁石から前記固定子および前記移動体の少なくとも一方の極を通って前記固定子および前記移動体の他方に延びる磁界を発生させ、
前記第1ピッチと前記第2ピッチが互いに異なり、前記移動体極の一つが前記固定子極の一つと整列するとき、他の前記移動体極が前記固定子極と整列しないようにされており、
前記平面モータは、それぞれが四つの前記移動体を有する四つの四個体で構成されており、各四個体は、前記移動面と実質的に平行である実質的に同一の第1方向で力を発生するように構成された移動体の第1ペアおよび第2ペアを備え、
前記第1ペアおよび第2ペアの各移動体の位置の関数として、フォースリップルの観点から移動面内で互いに実質的に180度位相がずれるように、前記第1ペアおよび第2ペアの移動体がオフセットされており、
前記第1および第2ペアの移動体は互いに機械的に接続され、実質的に四台の構成で前記移動面に沿って配置されており、
移動体の位置の関数として、移動体の動作のモータ力点によるトルクリップルの観点から、前記第1方向において互いに実質的に180度位相がずれるように、前記第1ペアの移動体と前記第2ペアの移動体がオフセットされており、
前記四つの四個体のうち、対角方向に位置する二つの四個体はx方向に力を発生し、残りの二つの四個体は前記二つの四個体に対して90度回転されてy方向に力を発生するように配置されている
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記固定子極と前記移動体極が前記移動面に向けてテーパー状にされていることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記移動面に対面する側に、前記固定子極と前記移動体極にテーパー状端部が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記固定子極と前記移動体極が少なくとも二重スロット型であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1ピッチが一定ピッチであり、前記移動体極が360度/Nの位相差に位置するように前記第2ピッチが設定され、Nは前記移動体の極数に等しいことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記移動体が少なくとも3つの移動体極を有することを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記移動体が四つの移動体極を有することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の平面モータ。
- 前記第1ピッチが一定ピッチであり、前記第2ピッチがペアで一定であることを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記移動体が前記永久磁石と前記巻線とを備えることを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記固定子極間の空間が非磁性材料で埋められることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- コイルを駆動する駆動装置を備え、該駆動装置は、前記固定子に対する前記移動体の位置の関数として前記コイルを整流するように構成されることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記固定子極と前記移動体極がフェロ磁性材料またはフェリ磁性材料からなることを特徴とする請求項1ないし11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整するように構成された照明系と、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持部と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付与された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、を備え、
前記平面モータが、前記支持部および前記基板テーブルの一方の駆動モータであることを特徴とする請求項1ないし12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
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