TWI490664B - 平面馬達及包含該平面馬達的微影裝置 - Google Patents

Description

平面馬達及包含該平面馬達的微影裝置

本發明係關於一種平面馬達，及一種包含該平面馬達的微影裝置。

微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)製造中。在此狀況下，圖案化器件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。習知微影裝置包括：所謂步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。

在微影中，需要高功率電動馬達(諸如，平面馬達)以(例如)使能夠移動固持基板之基板台或固持圖案化器件之支撐件。一方面，高加速度需要大功率馬達。另一方面，大功率馬達涉及高重量之移動部件，此情形歸因於待移動之 結構之較高質量而不利地影響待達成之最大加速度。此外，柔順性發揮作用。在應用複數個馬達單元(例如，用於在x方向上推進之馬達單元及用於在y方向上推進之馬達單元)之狀況下，使該等馬達單元互連之結構之柔順性可限制待達成之移動之最大頻寬及動態效能。

需要提供一種使能夠提供高加速度及高頻寬之平面馬達。

根據本發明之一實施例，提供一種微影裝置，該微影裝置具備一平面馬達，該平面馬達包含：一定子，其包含以具有一第一間距之一重複配置而配置之複數個定子磁極，該複數個定子磁極面對一移動平面之一第一側，一原動機，其包含以具有一第二間距之一重複配置而配置之複數個原動機磁極，該複數個原動機磁極面對該移動平面之一第二相對側，其中該定子及該原動機中至少一者之該等磁極具備一繞組，以便回應於通過該各別繞組之一電流而變更該等定子磁極及該等原動機磁極中之該等各別磁極中之一磁場，其中該定子及該原動機中至少一者包含用於產生一磁場之一永久磁鐵，該磁場自該永久磁鐵經由該定子及該原動機之至少一各別磁極而延伸至該定子及該原動機中之另一者且返回延伸，其中該第一間距及該第二間距彼此相異，使得當該原動 機之該等原動機磁極中之一者與該定子之該等定子磁極中之一者對準時，該原動機之該等其他原動機磁極與該定子之該等定子磁極不對準。

在本發明之另一實施例中，提供：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該微影裝置包含根據本發明之一平面馬達，該平面馬達為該支撐件及該基板台中之一者之一驅動馬達。

現在將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應元件符號指示對應部件。

圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。該裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他合適輻射)；光罩支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化器件之第一定位器件PM。該裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或「基板支撐件」，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以根 據某些參數來準確地定位該基板之第二定位器件PW。該裝置進一步包括投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將藉由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。

照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。

光罩支撐結構支撐(亦即，承載)圖案化器件。光罩支撐結構以取決於圖案化器件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化器件是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化器件。光罩支撐結構可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件。光罩支撐結構可為(例如)框架或台，其可根據需要而固定或可移動。光罩支撐結構可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統處於所要位置。可認為本文對術語「比例光罩」或「光罩」之任何使用皆與更通用之術語「圖案化器件」同義。

本文所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何器件。應注意，舉例而言，若被賦予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂輔助特徵，則圖案可能不會確切地對應於基板之目標部分中之所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標部分中所創製之器件(諸如，積體電路)中之特定功能層。

圖案化器件可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面在藉由鏡面矩陣反射之輻射光束中賦予圖案。

本文所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解釋為涵蓋適於所使用之曝光輻射或適於諸如浸潤液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。可認為本文對術語「投影透鏡」之任何使用皆與更通用之術語「投影系統」同義。

如此處所描繪，裝置為透射類型(例如，使用透射光罩)。或者，裝置可為反射類型(例如，使用上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。

微影裝置可為具有兩個(雙載物台)或兩個以上基板台或「基板支撐件」(及/或兩個或兩個以上光罩台或「光罩支撐件」)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上進行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。

微影裝置亦可為如下類型：其中基板之至少一部分可藉由具有相對高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充在 投影系統與基板之間的空間。亦可將浸潤液體施加至微影裝置中之其他空間，例如，在光罩與投影系統之間的空間。浸潤技術可用以增加投影系統之數值孔徑。本文所使用之術語「浸潤」不意謂諸如基板之結構必須浸沒於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。

參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源為準分子雷射時，輻射源及微影裝置可為分離實體。在此等狀況下，不認為輻射源形成微影裝置之部件，且輻射光束係憑藉包括(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況下，舉例而言，當輻射源為水銀燈時，輻射源可為微影裝置之整體部件。輻射源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。

照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分佈之調整器AD。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。另外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。

輻射光束B入射於被固持於光罩支撐結構(例如，光罩台MT)上之圖案化器件(例如，光罩MA)上，且係藉由圖案化器件而圖案化。在已橫穿光罩MA的情況下，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之 目標部分C上。憑藉第二定位器件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位器件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑來準確地定位光罩MA。一般而言，可憑藉形成第一定位器件PM之部件之長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現光罩台MT之移動。相似地，可使用形成第二定位器PW之部件之長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT或「基板支撐件」之移動。在步進器(相對於掃描器)之狀況下，光罩台MT可僅連接至短衝程致動器，或可固定。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準光罩MA及基板W。儘管所說明之基板對準標記佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分之間的空間中(此等標記被稱為切割道對準標記)。相似地，在一個以上晶粒提供於光罩MA上之情形中，光罩對準標記可位於該等晶粒之間。

所描繪裝置可用於以下模式中至少一者中：

1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使光罩台MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT或「基板支撐件」在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分 C。在步進模式中，曝光場之最大大小限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C之大小。

2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描光罩台MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或「基板支撐件」相對於光罩台MT或「光罩支撐件」之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動態曝光中之目標部分之寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。

3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使光罩台MT或「光罩支撐件」保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT或「基板支撐件」。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或「基板支撐件」之每一移動之後或在一掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。

亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。

圖2描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性側視圖。平面馬達包含定子ST，定子ST具有以第一間距的 定子磁極STP之重複配置。定子磁極STP沿著移動平面POM而延伸，且可由鐵磁性材料(或亞鐵磁性材料)(諸如，鐵)製成，或由含有此鐵磁性或亞鐵磁性材料之組合物(諸如，含有鐵粉末之組合物)製成。平面馬達進一步包含原動機MV，原動機MV係沿著移動平面POM相對於定子ST而可移動。定子磁極STP延伸朝向移動平面之第一側。原動機磁極延伸朝向移動平面之相對側。提供永久磁鐵PMT(在此實例中，在原動機中提供永久磁鐵，但亦可在定子中應用永久磁鐵)。在此實例中，永久磁鐵(其中提供4個原動機磁極)配置於原動機基座MBS中，原動機基座MBS在中心部位處連接至原動機磁極MPS中每一者，使得在永久磁鐵PMT之任一側上，兩個原動機磁極MPS連接至原動機基座MBS。因此，原動機之原動機磁極全部連接至原動機基座MBS，該原動機基座係由能夠傳導磁通量之材料(諸如，鐵及/或永久磁鐵(諸如(在此實例中)，永久磁鐵PMT))形成。圍繞原動機磁極中每一者而提供繞組WD(例如，線圈)。或者，可圍繞定子磁極而提供繞組。在圖2中可看出，在所描繪位置中，在自左側進行查看的情況下，原動機磁極之第二原動機磁極面對定子磁極中之一者，換言之，與彼定子磁極同相。在自左側進行查看的情況下，第一原動機磁極相對於定子磁極之重複圖案在某種程度上非同相：在所描繪位置中，在自左側進行查看的情況下，第一原動機磁極非同相180度，而第三原動機磁極及第四原動機磁極分別非同相270度及90度。在此位置中，來自 永久磁鐵PMT之磁場經由原動機磁極之第二原動機磁極而延伸至定子ST，且自定子經由第三原動機磁極及第四原動機磁極以及對應定子磁極而返回延伸至原動機之永久磁鐵。假如第三原動機磁極及第四原動機磁極與對應定子磁極之重疊實質上相同，則實質上相等磁場流動(只要繞組未被供電)通過第三原動機磁極及第四原動機磁極。當繞組WD中之一或多者係藉由各別電流供電時，可產生力：對第三原動機磁極及第四原動機磁極之繞組供電(例如，用經相對引導之電流)將會增加第三原動機磁極及第四原動機磁極中之一者中之磁場且減低另一者中之磁場，藉以，朝向左側或朝向右側產生力(取決於電流之方向)。隨著原動機MV移動，原動機磁極與定子磁極之重疊改變：作為一實例，當向左側移動時，第一原動機磁極之重疊增加，第二原動機磁極之重疊減低，第三原動機磁極之重疊減低，且第四原動機磁極之重疊增加。結果，磁場「重新分佈」其自身，藉以，重疊減低之原動機磁極傾向於得到縮減場強度，且反之亦然。隨著原動機移動，繞組之供電改變。在此實施例中，依據原動機相對於定子之位置而使繞組換向，更精確言之，依據原動機相對於定子磁極之重複圖案之相位而使繞組換向。結果，可提供有效率的平面馬達，其允許結合低重量之原動機而產生高馬達力，使得可產生高加速度。

為了遍及定子提供平面馬達之相似行為，可以恆定間距提供定子磁極。在所描繪實例中，提供4個原動機磁極， 從而允許有效率的組態，其提供低力漣波、高力及低原動機質量。相同原理可適用於其他數目個原動機磁極，但可能需要最小3個原動機磁極。原動機磁極之間距不同於定子磁極之間距，使得在原動機沿著移動平面之移動後，原動機磁極隨即輪流地面對對應定子磁極，從而允許在原動機沿著移動平面相對於定子之每一位置處產生力。因此，當移動原動機時，原動機磁極係與定子磁極輪流地對準(亦即，面對定子磁極)。當原動機磁極經配置為位於360度除以原動機之極之數目的相位差處時，可提供允許相對無漣波(因此允許相對恆定力)之有效配置。因此，在4個原動機磁極之狀況下，提供原動機磁極之間的90度相位差。在圖2所描繪之實施例中可看到此90度相位差：在原動機之所描繪位置中，原動機磁極相對於定子磁極成180度、0度、90度及270度(或取決於定義，成180度、0度、270度及90度)之相位關係。可提供原動機磁極之其他間距，例如，以便提供0度、180度、90度及270度之相位關係。在此等實例中，滿足以下關係：將原動機之左側極對之間距設定為定子磁極之間距的N+½倍(N為整數：0、1、2、...)，將原動機之右側極對之間距同樣地設定為定子磁極之間距的N+½倍(N為整數：0、1、2、...)，且將左側對相對於右側對之間距設定為定子磁極之間距的N+¼倍或N+¾倍(N為整數：0、1、2、...)。

在此文件中，定子磁極之間距可被稱作第一間距，且原動機磁極之間距可被稱作第二間距。術語「磁極之間距」 應被理解為兩個鄰近磁極之中心之間的距離(或兩個鄰近磁極之各別左側邊緣之間的距離，或兩個鄰近磁極之各別右側邊緣之間的距離，等等)。

此外，在圖2中可看出，在此實施例中，原動機磁極之間距成對地恆定：左側磁極對之間距係與右側磁極對之間距相同。將左側對與右側對之間距設定成提供相對於定子磁極圖案之180度相互相位差，而在左側對與右側對之間提供90度(或270度)相移。

在圖2所描繪之實施例中，原動機包含永久磁鐵及繞組，使得需要最小數目個永久磁鐵(1個)及最小數目個繞組(4個)。

可使定子磁極之間的間隔填充有非磁性材料，以便獲得平坦表面，原動機用以(例如)藉由空氣軸承遍及此平坦表面而移動。非磁性材料可為搪瓷。

為了驅動繞組，可提供驅動配置以依據原動機相對於定子之位置而使線圈換向。可提供位置感測器以量測原動機之位置，驅動配置藉此經配置以回應於來自位置感測器之經量測位置而驅動繞組。可應用繞組之閉塞信號類型換向。當驅動配置用實質上正弦狀電流使線圈換向時，可獲得低力漣波及低振動。

圖3描繪相似於圖2之實施例的實施例，然而，定子之磁極中每一者及原動機之磁極中每一者為雙槽形。此意謂每一磁極(例如，圖2所示之磁極中每一者)劃分成兩個較小磁極。圖4中描繪相似三槽形配置，藉以，定子之磁極中每 一者及原動機之磁極中每一者為三槽形。因此，每一磁極劃分成三個較小磁極。藉此，可產生較高d(Φ)/dx或△(Φ)/△(x)，且因此產生較高力，然而，另一方面，可縮減總通量。

圖5中描繪另外實施例，其展示相似於圖3之配置的配置，藉以，定子磁極及原動機磁極具備楔形邊緣。結果，可達成磁通量之改良型「循環(circulation)」，且因此達成較高力密度。應注意，儘管圖5以具有雙槽形磁極之組態描繪楔形邊緣，但可同樣地以具有諸如圖2所描繪之單槽形磁極或具有如圖4所描繪之三槽形磁極之組態提供楔形邊緣。

圖6展示又一實施例，藉以，原動機磁極朝向移動平面成楔形。應注意，定子磁極亦可成楔形。因為遠離移動平面之磁場線密度可稍微更密集，所以輕微較寬磁極允許在不飽和的情況下攜載此較高密度。因此，楔形磁極在材料之最佳使用下(因此，在最佳重量下)允許高磁場，且因此允許高力。

應注意，圖2至圖6所描繪之定子圖案為一維。然而，可提供沿著移動平面而延伸之二維圖案，從而允許提供二維平面馬達，此將在下文予以更詳細地解釋。

當使用諸如圖2至圖6所描繪及上文所描述之單一原動機時，可在原動機沿著定子而移動時發生力漣波，力漣波具有與定子及/或原動機之間距有關之週期性。可至少部分地補償此力漣波，此將參看圖7予以解釋。圖7描繪平面馬 達之複數個原動機MV1、MV2、MV3及MV4的高度示意性俯視圖。原動機MV1至MV4機械地互連，以便作為單一單元而移動。原動機MV1及MV2在x方向上相對於彼此而位移，且經建構以在x方向上產生力。

原動機MV1至MV4可相對於彼此受到水平地約束。原動機MV1至MV4可受到定子ST垂直地約束。每一原動機M1至M4可用一空氣軸承予以支撐，針對空氣軸承，定子ST提供軸承表面。原動機M1至M4可各自分離地藉由一空氣軸承支撐，使得每一原動機M1至M4可與定子ST最佳地對準。以此方式最小化原動機M1至M4與定子ST之間的氣隙，從而引起改良型馬達效能。在一實施例中，原動機M1至M4可藉由可撓性鉸鏈而彼此連接，可撓性鉸鏈在垂直方向上具可撓性且在水平方向上具剛性。

將原動機MV1與原動機MV2之間的偏移設定成使得該等原動機之力漣波非同相實質上180度。另外，將原動機MV1與原動機MV2之間的距離設定為定子間距除以每一原動機之磁極之數目加上一偏移，以便得到非同相實質上180度的該等原動機之力漣波，該偏移實質上等於定子間距之一半除以該原動機之磁極之數目。

因為在平面馬達之操作期間原動機之移動引起馬達力之施加點之改變(即，在原動機磁極之間)，所以可在馬達之原動機之移動期間發生轉矩漣波。此轉矩漣波可至少部分地藉由第二原動機對(即，第三原動機MV3及第四原動機MV4)補償。MV3及MV4在Y方向上分別相對於MV1及MV2 而位移。又，MV3在x方向上相對於MV1而偏移，且相似地，MV4在x方向上相對於MV2而偏移。此偏移經選擇以便規定原動機MV3及MV4之轉矩漣波相對於原動機MV1及MV2之轉矩漣波非同相實質上180。另外，將MV1與MV3之間在x方向上(亦即，在馬達力之方向上)之偏移(分別在MV2與MV4之間)設定為定子間距之一半。因此，在4個互連式原動機之象限的情況下，可至少部分地針對一個定向馬達(在此實例中，x方向馬達)來補償力漣波及轉矩漣波。

將參看圖8來描述允許在x及y方向上(亦即，在沿著移動平面之兩個方向上)推進之平面馬達。圖8描繪平面馬達之原動機總成的高度示意性俯視圖。提供原動機之四個象限Q1至Q4，每一象限又包含四個原動機。象限Q1及Q4之原動機對應於參看圖7所描述之原動機之象限，且允許在x方向上產生力。象限Q2及Q3之原動機亦對應於參看圖7所描述之象限之原動機，然而，在移動平面中翻轉90度，使得其經配置成在y方向上提供力。因此，原動機之4個象限之組合允許提供具有上文所描述之力漣波及轉矩漣波縮減的2維平面馬達。代替各自具有4個原動機之四個象限，較不複雜之平面馬達可具備4個原動機，兩個原動機係在x方向上且兩個原動機係在y方向上。

儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等 等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，例如，以便創製多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。

儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例之使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在內容背景允許時不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化器件中之構形(topography)界定創製於基板上之圖案。可將圖案化器件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。

本文所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有為或為約365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如，具有在5奈米至20奈米之範圍內之波長)，以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。

術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學組件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及 靜電光學組件。

雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之此電腦程式。

以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。

AD‧‧‧調整器

B‧‧‧輻射光束

BD‧‧‧光束遞送系統

C‧‧‧目標部分

CO‧‧‧聚光器

IF‧‧‧位置感測器

IL‧‧‧照明系統/照明器

IN‧‧‧積光器

M1‧‧‧光罩對準標記

M2‧‧‧光罩對準標記

MA‧‧‧圖案化器件/光罩

MBS‧‧‧原動機基座

MPS‧‧‧原動機磁極

MT‧‧‧光罩支撐結構/光罩台

MV‧‧‧原動機

MV1‧‧‧原動機

MV2‧‧‧原動機

MV3‧‧‧第三原動機

MV4‧‧‧第四原動機

P1‧‧‧基板對準標記

P2‧‧‧基板對準標記

PM‧‧‧第一定位器件

PMT‧‧‧永久磁鐵

POM‧‧‧移動平面

PS‧‧‧投影系統

PW‧‧‧第二定位器件/第二定位器

Q1‧‧‧象限

Q2‧‧‧象限

Q3‧‧‧象限

Q4‧‧‧象限

SO‧‧‧輻射源

ST‧‧‧定子

STP‧‧‧定子磁極

W‧‧‧基板

WD‧‧‧繞組

WT‧‧‧基板台

圖1描繪可提供本發明之一實施例的微影裝置；圖2描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性側視圖；圖3描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性側視圖；圖4描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性側視圖；圖5描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性側視圖；圖6描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性側視圖；圖7描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性俯視圖；及 圖8描繪根據本發明之一實施例之平面馬達的示意性俯視圖。

MBS‧‧‧原動機基座

MPS‧‧‧原動機磁極

MV‧‧‧原動機

PMT‧‧‧永久磁鐵

POM‧‧‧移動平面

ST‧‧‧定子

STP‧‧‧定子磁極

WD‧‧‧繞組

Claims (16)

1. 一種微影裝置，其具備一平面馬達，該平面馬達包含：一定子(stator)，其包含以具有一第一間距之一重複配置而配置之複數個定子磁極，該複數個定子磁極面對一移動平面之一第一側，及一原動機(mover)，其包含以具有一第二間距之一重複配置而配置之複數個原動機磁極，該複數個原動機磁極面對該移動平面之一第二相對側，其中該定子及該原動機中至少一者之該等磁極之每一者具備一單獨繞組(separate winding)，以便回應於通過該各別繞組之一電流而變更該等定子磁極及該等原動機磁極中之該等各別磁極中之一磁場，其中該定子及該原動機中至少一者包含經組態以產生一磁場之一永久磁鐵，該永久磁鐵之磁場自該永久磁鐵經由該定子及該原動機之至少一各別磁極而延伸至該定子及該原動機中之另一者且返回，其中該第一間距及該第二間距彼此相異，使得當該原動機之該等原動機磁極中之一者與該定子之該等定子磁極中之一者對準時，該原動機之該等其他原動機磁極與該定子之該等定子磁極不對準，且其中該複數個定子磁極及原動機磁極中之每一者之面對該移動平面之一側具有一朝向該移動平面成楔形(tapered)之楔形邊緣。
2. 如請求項1之微影裝置，其中該等定子磁極及該等原動 機磁極為至少雙槽形(double slotted)。
3. 如請求項1之微影裝置，其中該原動機包含至少三個原動機磁極。
4. 如請求項1之微影裝置，其中該原動機包含四個原動機磁極。
5. 如請求項4之微影裝置，其中該第一間距為一恆定間距，且該第二間距成對地(pair-wise)恆定。
6. 如請求項1之微影裝置，其中該原動機包含該永久磁鐵及該等繞組。
7. 如請求項1之微影裝置，其中該等定子磁極之間的一間隔經填充有非磁性導電材料。
8. 如請求項1之微影裝置，其包含用以驅動線圈之一驅動配置，其中該驅動配置經建構以依據該原動機相對於該定子之一位置而使該等線圈換向。
9. 如請求項8之微影裝置，其中該驅動配置係經配置以用實質上正弦狀電流使線圈換向。
10. 如請求項1之微影裝置，其中該等定子磁極及該等原動機磁極由一鐵磁性材料或亞鐵磁性材料組成。
11. 如請求項1之微影裝置，其中該平面馬達包含一第一原動機對，該第一原動機對經建構以在實質上平行於該移動平面之一實質上相同第一方向上產生一力，該第一原動機對彼此機械地連接，且該第一對之該等原動機在該移動平面中經偏移成相對於彼此且相對於依據該第一對之該各別原動機之一位置的一力漣波而非同相實質上 180度。
12. 如請求項11之微影裝置，其中該第一對之該等原動機間之一偏移實質上等於該第一間距除以2N，其中N代表該等原動機之每一者之磁極之數目。
13. 如請求項1之微影裝置，其中該平面馬達包含該第一原動機對及配置於該移動平面中之一第二原動機對，該第一對及該第二對之該等原動機彼此機械地連接且實質上以一象限配置沿著該移動平面而定位，其中該第一對之該等原動機及該第二對之該等原動機經偏移成在該第一方向上相對於彼此且相對於依據該等原動機之一位置的由該等原動機之一馬達力作用點引起之一轉矩漣波而非同相實質上180度。
14. 如請求項13之微影裝置，其中該第一對之該等原動機與該第二對之該等原動機間之一偏移實質上等於該第一間距之一半。
15. 如請求項1之微影裝置，其包含：一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在一輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該平面馬達為該支撐件及該基板台中之一者之一驅動馬達。
16. 一種微影裝置，其具備一平面馬達，該平面馬達包含：一定子，其包含以具有一第一間距之一重複配置而配置之複數個定子磁極，該複數個定子磁極面對一移動平面之一第一側，一原動機，其包含以具有一第二間距之一重複配置而配置之複數個原動機磁極，該複數個原動機磁極面對該移動平面之一第二相對側，其中該定子及該原動機中至少一者之該等磁極具備一繞組，以便回應於通過該各別繞組之一電流而變更該等定子磁極及該等原動機磁極中之該等各別磁極中之一磁場，其中該定子及該原動機中至少一者包含經組態以產生一磁場之一永久磁鐵，該磁場自該永久磁鐵經由該定子及該原動機之至少一各別磁極而延伸至該定子及該原動機中之另一者且返回，其中該第一間距及該第二間距彼此相異，使得當該原動機之該等原動機磁極中之一者與該定子之該等定子磁極中之一者對準時，該原動機之該等其他原動機磁極與該定子之該等定子磁極不對準，其中該第一間距為一恆定間距，且該第二間距經設定使得該等原動機磁極位於相對於該等定子磁極之該等重複配置具有360度/N之一相位差處，其中N等於該原動機之原動機磁極之數目，且其中該複數個定子磁極及原動機磁極中之每一者之面 對該移動平面之一側具有一朝向該移動平面成楔形之楔形邊緣。