JP4425256B2 - リソグラフィ装置およびモータ - Google Patents
リソグラフィ装置およびモータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4425256B2 JP4425256B2 JP2006302217A JP2006302217A JP4425256B2 JP 4425256 B2 JP4425256 B2 JP 4425256B2 JP 2006302217 A JP2006302217 A JP 2006302217A JP 2006302217 A JP2006302217 A JP 2006302217A JP 4425256 B2 JP4425256 B2 JP 4425256B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet assembly
- lithographic apparatus
- coil
- motor
- coil winding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 96
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 32
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 5
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 54
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 35
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- 101710083129 50S ribosomal protein L10, chloroplastic Proteins 0.000 description 15
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 11
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 11
- 101710114762 50S ribosomal protein L11, chloroplastic Proteins 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 101710087140 50S ribosomal protein L22, chloroplastic Proteins 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 101710082414 50S ribosomal protein L12, chloroplastic Proteins 0.000 description 4
- 101710164994 50S ribosomal protein L13, chloroplastic Proteins 0.000 description 4
- 101710156159 50S ribosomal protein L21, chloroplastic Proteins 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 101710115003 50S ribosomal protein L31, chloroplastic Proteins 0.000 description 2
- -1 CL23 Proteins 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K2201/00—Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
- H02K2201/18—Machines moving with multiple degrees of freedom
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Linear Motors (AREA)
Description
Claims (27)
- 第1方向の力と第2方向の力とを発生するモータを備えており、
このモータが、
実質的に第1方向と第2方向に交互に配向された複数の部分を第1方向に沿って有する磁界を発生する磁石アセンブリであって、当該部分が第1方向および第2方向に実質的に垂直な第3方向に延びている、磁石アセンブリと、
第1電流が流れる第1コイル巻線であって、第2方向に実質的に配向された磁界の部分間にて第1方向に延在し、第1方向の力を発生する第1コイル巻線と、
第2電流が流れる第2コイル巻線であって、第1方向に実質的に配向された磁界の部分間にて第1方向に延在し、第2方向の力を発生する第2コイル巻線と、
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記磁石アセンブリが、前記第1方向および前記第2方向に実質的に垂直な前記第3方向に延在する実質的に平行な磁石を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記実質的に平行な磁石が複数の主磁石を有し、各主磁石は前記第2方向に平行に配向された分極を有し、前記第1方向に沿った次の主磁石の分極方向は前の主磁石とは逆方向である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記実質的に平行な磁石が複数の補助磁石をさらに有し、各補助磁石は前記第1方向に実質的に平行に配向された分極を有し、前記第1方向に沿った次の補助磁石の分極方向は前の補助磁石とは逆方向である、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁石アセンブリが3つの主磁石を有する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記主磁石のうちの中間の主磁石の前記第1方向に沿った幅が、残りの前記主磁石の幅の実質的に2倍である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1コイル巻線と前記第2コイル巻線のうち少なくとも1つが、前記第1方向および前記第2方向に対して実質的に垂直な前記第3方向に細長い、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータが、前記第3方向に互いに間隔をあけて配されている少なくても2つの第2コイル巻線を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータが更なる磁石アセンブリを備え、当該更なる磁石アセンブリは、前記磁石アセンブリに対して前記第1方向にオフセットされ、かつ前記磁石アセンブリに実質的に平行であり、前記モータが、当該更なる磁石アセンブリと協動するための少なくとも1つの第2コイル巻線をさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータが更なる磁石アセンブリを備え、当該更なる磁石アセンブリは、前記磁石アセンブリに対して前記第1方向にオフセットされ、かつ前記磁石アセンブリに実質的に平行であり、前記モータが、当該更なる磁石アセンブリと協動するための少なくとも1つの第2コイル巻線をさらに備える、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータが4つの第2コイル巻線を備え、2つの第2コイル巻線は、前記磁石アセンブリと協動するように構成され、かつ前記第3方向に互いに間隔をあけて配され、また2つの第2コイル巻線は、前記第2磁石アセンブリと協動するように構成され、かつ前記第3方向に互いに間隔をあけて配されている、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1方向において前記第1コイル巻線の幅は、前記第2コイル巻線の幅の実質的に半分である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータは、前記磁石アセンブリと協働する2つの第1コイル巻線を備え、2つの第1コイル巻線は、少なくとも前記第1方向に互いにオフセットされている、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1方向において前記第1コイル巻線の幅は、前記第2コイル巻線の幅の実質的に半分であり、前記モータは、前記磁石アセンブリと協働する2つの第1コイル巻線を備え、2つの第1コイル巻線は、少なくとも前記第1方向に互いにオフセットされており、2つの第1コイル巻線は、前記磁石アセンブリと協働する2つの第2コイル巻線の間に配される、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータは、前記更なる磁石アセンブリと協動する更なる2つの第1コイル巻線をさらに備え、当該更なる2つの第1コイル巻線は、前記更なる磁石アセンブリと協動するための前記2つの第2コイル巻線の間に配される、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つの第1コイル巻線は、前記更なる2つの第1コイル巻線に対して前記第3方向にオフセットされている、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータは、前記第3方向に力を発生するために第3コイル巻線と協動する第3磁石アセンブリをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3コイル巻線はアルミニウム巻線を有する、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アルミニウム巻線は、アルミニウムを含む箔を有する、請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3コイル巻線は、第3コイル巻線の層間に配された少なくとも1枚の冷却プレートを備え、当該冷却プレートは、前記第3磁石アセンブリに実質的に平行に延在する、請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3コイル巻線は、前記第3磁石アセンブリに面したコイル巻線の側と前記第3磁石アセンブリとは反対に面したコイル巻線の側とに沿って延在する複数の冷却プレートをさらに備える、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1枚の冷却プレートは、それぞれの冷却プレートを通して冷却液を導くように構成された流路を備える、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3磁石アセンブリは磁石アセンブリ冷却プレートを備える、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁石アセンブリ冷却プレートは、前記第3コイル巻線に面した前記磁石アセンブリの一方の面に位置する、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータは、レチクルステージに力を加えるためのレチクルステージモータである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1方向は前記第2方向に実質的に垂直である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 第1方向の力と第2方向の力とを発生するモータであって、
実質的に第1方向と第2方向に交互に配向された複数の部分を第1方向に沿って有する磁界を発生する磁石アセンブリであって、当該部分が第1方向および第2方向に実質的に垂直な第3方向に延びている、磁石アセンブリと、
第1電流が流れる第1コイル巻線であって、第2方向に実質的に配向された磁界の部分間に延在し、第1方向の力を発生する第1コイル巻線と、
第2電流が流れる第2コイル巻線であって、第1方向に実質的に配向された磁界の部分間に延在し、前記第2方向の力を発生する第2コイル巻線と、
を備えるモータ。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/273,634 US7459808B2 (en) | 2005-11-15 | 2005-11-15 | Lithographic apparatus and motor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007150291A JP2007150291A (ja) | 2007-06-14 |
JP4425256B2 true JP4425256B2 (ja) | 2010-03-03 |
Family
ID=38040041
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006302217A Expired - Fee Related JP4425256B2 (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-08 | リソグラフィ装置およびモータ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7459808B2 (ja) |
JP (1) | JP4425256B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080203829A1 (en) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Fuji Electric Systems Co., Ltd. | Vibrating-type motor |
US7782446B2 (en) * | 2007-03-01 | 2010-08-24 | Asml Netherlands B.V. | Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system |
WO2009017430A1 (en) * | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Fisher & Paykel Appliances Limited | Improved appliance, rotor and magnet element |
JP6204366B2 (ja) | 2011-10-27 | 2017-09-27 | ザ・ユニバーシティ・オブ・ブリティッシュ・コロンビア | 変位装置及び変位装置を製造、使用、制御する方法 |
US8344669B1 (en) * | 2012-04-02 | 2013-01-01 | Etagen, Inc. | Methods and systems for controlling a multiphase electromagnetic machine |
US8779635B2 (en) * | 2012-04-10 | 2014-07-15 | Kla-Tencor Corporation | Arrangement of reticle positioning device for actinic inspection of EUV reticles |
CN105452812B (zh) | 2013-08-06 | 2019-04-30 | 不列颠哥伦比亚大学 | 移位装置以及用于检测和估计与其相关联的运动的方法和设备 |
CN104953788B (zh) * | 2014-03-24 | 2018-01-26 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种平板型音圈电机 |
EP3152822B1 (en) | 2014-06-07 | 2019-08-07 | The University Of British Columbia | Methods and systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device |
WO2015188281A1 (en) | 2014-06-14 | 2015-12-17 | The University Of British Columbia | Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
IL294394B1 (en) * | 2019-12-31 | 2025-06-01 | Vdl Enabling Tech Group B V | An operating device for use with a positioning system and such a positioning system |
NL2025135B1 (en) * | 2019-12-31 | 2021-09-06 | Vdl Enabling Tech Group B V | An actuator device for use in a positioning system as well as such positioning system. |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3076110A (en) * | 1958-05-26 | 1963-01-29 | Gen Motors Corp | Dynamoelectric machine |
US5196745A (en) * | 1991-08-16 | 1993-03-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioning device |
US5925956A (en) * | 1995-06-30 | 1999-07-20 | Nikon Corporation | Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage |
US5886432A (en) * | 1997-04-28 | 1999-03-23 | Ultratech Stepper, Inc. | Magnetically-positioned X-Y stage having six-degrees of freedom |
US6104108A (en) * | 1998-12-22 | 2000-08-15 | Nikon Corporation | Wedge magnet array for linear motor |
TWI248718B (en) * | 1999-09-02 | 2006-02-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
US6353271B1 (en) * | 1999-10-29 | 2002-03-05 | Euv, Llc | Extreme-UV scanning wafer and reticle stages |
US6316849B1 (en) * | 2000-02-22 | 2001-11-13 | Paul Konkola | Methods and apparatus involving selectively tailored electromagnetic fields |
TW498368B (en) * | 2000-05-23 | 2002-08-11 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
US6445093B1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-09-03 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
US6452292B1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
KR100548714B1 (ko) * | 2001-08-22 | 2006-02-02 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치 및 상기 장치용 모터 |
US20030102721A1 (en) * | 2001-12-04 | 2003-06-05 | Toshio Ueta | Moving coil type planar motor control |
JP4227452B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2009-02-18 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置 |
US7245047B2 (en) * | 2003-05-01 | 2007-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4484621B2 (ja) * | 2003-08-04 | 2010-06-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
US6998737B2 (en) * | 2003-10-09 | 2006-02-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7006199B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-02-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic positioning device and device manufacturing method |
US20060049697A1 (en) * | 2004-09-08 | 2006-03-09 | Nikon Corporation | Split coil linear motor for z force |
US7385679B2 (en) * | 2004-12-29 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and actuator |
-
2005
- 2005-11-15 US US11/273,634 patent/US7459808B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-11-08 JP JP2006302217A patent/JP4425256B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070108848A1 (en) | 2007-05-17 |
US7459808B2 (en) | 2008-12-02 |
JP2007150291A (ja) | 2007-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4425256B2 (ja) | リソグラフィ装置およびモータ | |
KR101389384B1 (ko) | 전자기 액추에이터, 스테이지 장치 및 리소그래피 장치 | |
US10684558B2 (en) | Motor assembly, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP4167213B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
KR101142376B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 | |
US7348752B1 (en) | Stage apparatus and lithographic apparatus | |
JP5192064B2 (ja) | 変位デバイス、リソグラフィ装置および位置決め方法 | |
US8373848B2 (en) | Lithographic apparatus and lorentz actuator | |
KR101234182B1 (ko) | 액추에이터, 위치설정 시스템 및 리소그래피 장치 | |
JP2019508001A (ja) | 電磁モータ及びステージ装置 | |
US20180224756A1 (en) | Lorentz actuator, object positioning system, lithographic apparatus and lorentz actuator operating method | |
JP4528260B2 (ja) | リソグラフィ装置およびアクチュエータ | |
US9753381B2 (en) | Substrate table system, lithographic apparatus and substrate table swapping method | |
US9293951B2 (en) | Lithographic apparatus and lorentz actuator | |
US10955759B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
NL2018129A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091112 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121218 Year of fee payment: 3 |
|
S802 | Written request for registration of partial abandonment of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R311802 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121218 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121218 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131218 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |