JP6196286B2 - 基板テーブルシステム、リソグラフィ装置および基板テーブル交換方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2012年3月27日に出願された米国仮特許出願第61/616,177号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
−第1方向に延在する第1プッシャ構造であって、基板テーブルが第1プッシャ構造に対して移動可能であり、第1プッシャ構造および基板テーブルは、協働して、第1プッシャ構造と基板テーブルとの間に第1方向の力を及ぼすように配置される第1モータを形成するように配置される、第1プッシャ構造と、
第1方向に延在する第2プッシャ構造であって、基板テーブルが第2プッシャ構造に対して(第1および第2方向に沿って)移動可能であり、第2プッシャ構造および基板テーブルは、協働して、第2プッシャ構造と基板テーブルとの間に第2方向の力を及ぼすように配置される第2モータを形成するように配置される、第2プッシャ構造と、を備える、基板テーブルシステムが提供される。
1.ステップモードにおいては、パターニングデバイスサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTまたは「基板サポート」は、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイスサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」を同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイスサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、パターニングデバイスサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」を基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTまたは「基板サポート」を動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板サポート」の移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (12)
- 基板テーブルと、第1方向および前記第1方向に直交する第2方向によって画定される水平な移動平面内で前記基板テーブルを移動させる双方向性モータと、を備える基板テーブルシステムであって、前記双方向性モータは、
前記第1方向に延在する第1プッシャ構造であって、前記基板テーブルが前記第1プッシャ構造に対して移動可能であり、前記第1プッシャ構造および前記基板テーブルは、協働して、前記第1プッシャ構造と前記基板テーブルとの間に前記第1方向の力を及ぼす第1モータを形成する、第1プッシャ構造と、
前記第1方向に延在する第2プッシャ構造であって、前記基板テーブルが前記第2プッシャ構造に対して前記第1および第2方向に沿って移動可能であり、前記第2プッシャ構造および前記基板テーブルは、協働して、前記第2プッシャ構造と前記基板テーブルとの間に前記第2方向の力を及ぼす第2モータを形成する、第2プッシャ構造と、を備え、
前記第1および第2プッシャ構造は、前記第2方向に沿って延在するフレーム構造に移動可能に接続され、前記フレーム構造は、前記第2方向に沿って前記第1プッシャ構造を案内するためのガイドフレームであり、
前記第1モータは前記基板テーブルの実質的に重心に力を及ぼすように構成され、前記第2モータは非接触モータである、基板テーブルシステム。 - 前記基板テーブルには、前記第1プッシャ構造の少なくとも一部を収容する、前記第1方向に沿って延在する開口が設けられる、請求項1に記載の基板テーブルシステム。
- 前記フレーム構造は、前記第2方向に沿って延在する2つの平行なガイドフレームを備え、前記第1プッシャ構造は、前記第1方向に沿って、一方の前記ガイドフレームから前記ガイドフレーム間の実質的に中間まで延在する、請求項1または2に記載の基板テーブルシステム。
- 前記第2プッシャ構造は、前記第1方向に沿って、一方の前記ガイドフレームから他方の前記ガイドフレームまで延在する、請求項3に記載の基板テーブルシステム。
- 前記第1プッシャ構造に含まれる前記第1モータの一部は、実質的に、前記第1プッシャ構造の長さに沿って前記第1方向に延在する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板テーブルシステム。
- 前記第2プッシャ構造に含まれる前記第2モータの一部は、前記第1プッシャ構造に沿って延在する前記第1モータの前記一部の長さと少なくとも同じ長さに沿って前記第1方向に延在する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の基板テーブルシステム。
- 前記第1および第2モータはそれぞれ、前記第1、第2プッシャ構造それぞれに含まれる磁石と、前記基板テーブルに含まれるコイルとで形成される、請求項1〜6のいずれか1項に記載の基板テーブルシステム。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の基板テーブルシステムを備えるリソグラフィ装置。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の基板テーブルシステムを2つ備え、前記基板テーブルシステムの前記基板テーブルが、前記基板テーブルシステムの前記第2プッシャ構造同士の間に配置される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2方向に沿って見た場合、前記第1プッシャ構造は、前記第2プッシャ構造より低い高さを有し、前記基板テーブル同士の衝突を防ぐ中心クラッシュポールの周りに対称的に配置される、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルはそれぞれ、当該基板テーブルがその第2プッシャ構造に対向する側と、当該基板テーブルが他方の第2プッシャ構造に対向する側とに前記第2モータのそれぞれの一部を備える、請求項9または10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置の投影システムの下に一方の前記基板テーブルを位置決めすることと、
他方の前記基板テーブルを、一方の前記基板テーブルに対して前記第1方向に隣接するように位置決めすることと、
前記他方の基板テーブルが前記投影システムの下に位置決めされる位置まで、前記一方および前記他方の基板テーブルを前記第1方向に同期的に移動させることと、
各基板テーブルに関して、それぞれの基板テーブルと、他方の前記基板テーブルシステムの前記第2プッシャ構造との間の接続を確立することと、
各基板テーブルに関して、それぞれの基板テーブルと、その基板テーブルが交換前に接続されていた前記第2プッシャ構造との間の接続を解除することと、により前記基板テーブルシステムの前記基板テーブルを交換する、請求項9または10に記載のリソグラフィ装置。
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