WO2017126577A1 - アクチュエータ - Google Patents

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WO2017126577A1
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magnets
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鈴木 健一
進士 忠彦
良元 藤原
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Tdk株式会社
国立大学法人東京工業大学
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    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • H02K41/031Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02B27/646Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image compensating for small deviations, e.g. due to vibration or shake
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    • H02K3/00Details of windings
    • H02K3/04Windings characterised by the conductor shape, form or construction, e.g. with bar conductors
    • H02K3/28Layout of windings or of connections between windings

Definitions

  • the present invention relates to an actuator, and more particularly to an actuator capable of two-dimensional operation.
  • Patent Document 1 discloses an actuator that enables two-dimensional operation by arranging magnets in a matrix. Is described. The actuator described in Patent Document 1 realizes a two-dimensional operation by assigning four coils to one magnet and controlling the direction of current flowing through these coils.
  • the actuator described in Patent Document 1 has a problem that it is difficult to reduce the size because four coils are assigned to one magnet. In particular, it is difficult to reduce the size in the thickness direction perpendicular to the drive plane, and it is not suitable for applications that require a low profile, such as a portable device.
  • a linear motor described in Non-Patent Document 1 is known as an actuator that can be reduced in height.
  • the linear motor described in Non-Patent Document 1 only reciprocates in one axis direction and cannot perform a two-dimensional operation.
  • an object of the present invention is to provide a low profile actuator capable of two-dimensional operation.
  • the actuator according to the present invention includes a plurality of first magnets having N-pole magnetic pole faces located in a first plane extending in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction, A magnet structure including a plurality of second magnets whose magnetic pole faces located in the first plane are S poles; a first wiring provided in a second plane parallel to the first plane; A second wiring provided in a third plane parallel to the first plane, and the magnet structure includes the first magnet and the second magnet alternately in the first direction.
  • the present invention it is possible to realize a two-dimensional operation by flowing a current through the first and second wirings.
  • the first and second wirings are planar wirings that cross the magnet, it is also possible to achieve a reduction in height.
  • the first wiring includes a first wiring portion that crosses the first magnet in the second direction, and a second wiring that crosses the second magnet in the second direction.
  • the first wiring portion and the second wiring portion are configured such that currents flow in opposite directions to each other, and the third wiring portion and the fourth wiring portion are connected to each other. It is preferable that a current in the reverse direction flows. According to this, it becomes possible to obtain a larger driving force.
  • the plurality of first magnets and the plurality of second magnets are arranged in a matrix in the first and second directions. According to this, the first array portion and the second array portion can be shared.
  • the second plane and the third plane may overlap each other. According to this, it becomes possible to reduce the planar size of the actuator.
  • the second plane and the third plane may be the same plane. According to this, a single wiring layer can be used.
  • the first wiring is formed in a meander shape in the second plane
  • the second wiring is formed in a meander shape in the third plane. According to this, since the 1st and 2nd wiring can traverse more magnets, it becomes possible to obtain a big driving force.
  • the actuator according to the present invention further includes a third wiring provided in a fourth plane parallel to the first plane, and the third wiring is at least one around the first magnet in a plan view. It is preferable to include a fifth wiring portion that goes around the portion. According to this, it is possible to realize a three-dimensional operation by flowing a current through the first to third wirings.
  • the third wiring further includes a sixth wiring portion that circulates at least part of the periphery of the second magnet in a plan view, and includes the fifth wiring portion and the sixth wiring portion.
  • a sixth wiring portion that circulates at least part of the periphery of the second magnet in a plan view, and includes the fifth wiring portion and the sixth wiring portion.
  • the size of the first and second magnets in the first and second directions is preferably 1 mm or less, and in the third direction orthogonal to the first and second directions.
  • the magnet structure preferably has a thickness of 1 mm or less. According to this, it becomes possible to provide a very small and low-profile actuator.
  • the actuator according to the present invention further includes a support substrate that supports the magnet structure, and the thermal diffusivity of the support substrate is preferably lower than the thermal diffusivity of the magnet structure. This facilitates the production of a small and thin magnet structure.
  • the actuator according to the present invention further includes an optical lens and a circuit board that supports the first and second wirings, and the optical lens is fixed to one of the circuit board and the magnet structure. Preferably it is. According to this, it can be used as an actuator for camera shake correction.
  • FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of the main part of the actuator 10A according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view along the line AA shown in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view of the first wiring 30.
  • FIG. 4 is a plan view of the second wiring 40.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the influence of the current flowing through the first wiring 30 on the magnet structure 20.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the influence of the current flowing through the second wiring 40 on the magnet structure 20.
  • FIG. 7 is a process diagram for explaining a method of manufacturing the magnet structure 20.
  • FIG. 8 is a schematic plan view showing the configuration of the main part of the actuator 10B according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic plan view showing the configuration of the main part of the actuator 10B according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB shown in FIG.
  • FIG. 10 is a plan view of the third wiring 50.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining the influence of the current flowing through the third wiring 50 on the magnet structure 20.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the configuration of the main part of the actuator 10C according to the third embodiment.
  • FIG. 13 is a schematic diagram showing an example in which a part of glass constituting the support substrate 23 is used as the optical lens 70.
  • FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of the main part of the actuator 10A according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view along the line AA shown in FIG.
  • the actuator 10A includes a magnet structure 20 including a plurality of first and second magnets 21 and 22 arranged in a matrix in the x direction and the y direction.
  • a first wiring 30 and a second wiring 40 that overlap the magnet structure 20 in the z direction are provided.
  • the magnet structure 20 is provided on a support substrate 23 made of glass or the like, and the magnetic pole surface is located on the first plane S1 extending in the xy direction. Note that the support substrate 23 is not shown in FIG. 1 in consideration of the visibility of the drawing.
  • the first magnet 21 has a north pole at the magnetic pole surface located on the first plane S 1
  • the second magnet 22 has the first plane S 1.
  • the magnetic pole surface located at is the S pole.
  • the first magnet 21 and the second magnet 22 are arranged in a matrix in a checkered pattern.
  • each row extending in the x direction constitutes a first array portion Lx in which the first magnets 21 and the second magnets are alternately arranged in the x direction
  • each column extending in the y direction is The first magnet 21 and the second magnet constitute a second array portion Ly in which the first magnet 21 and the second magnet are alternately arrayed in the y direction.
  • the adjacent first magnet 21 and second magnet 22 are separated via the slit SL, and the slit SL reaches the surface layer of the support substrate 23. .
  • the support substrate 23 is not always necessary.
  • the first wiring 30 and the second wiring 40 are stacked on the circuit board 60.
  • the main surface of the circuit board 60 constitutes a second plane S2 parallel to the first plane S1, and the first wiring 30 is formed on the main surface of the circuit board 60, that is, on the second plane S2. ing.
  • the first wiring 30 is covered with an insulating film 61.
  • the surface of the insulating film 61 constitutes a third plane S3 parallel to the first plane S1, and the second wiring 40 is formed on the surface of the insulating film 61, that is, on the third plane S3.
  • the second wiring 40 is covered with an insulating film 62.
  • the first wiring 30 and the second wiring 40 are stacked on the circuit board 60 so as to overlap each other in the z direction.
  • FIG. 3 is a plan view showing the first wiring 30 extracted.
  • the positions of the first and second magnets 21 and 22 are also displayed in order to clarify the planar positional relationship with the magnet structure 20. This also applies to FIGS. 4 to 6, FIG. 10, and FIG. 11 described later.
  • the first wiring 30 is one wiring that can be drawn with a single stroke, and has a planar shape meandering in a meander shape. More specifically, the first wiring 30 includes a first wiring portion 31 that crosses the first magnet 21 in the y direction and a second wiring portion 32 that crosses the second magnet 22 in the y direction. And a connecting portion 33 extending in the x direction so as to connect the two.
  • FIG. 4 is a plan view showing the second wiring 40 extracted.
  • the second wiring 40 is one wiring that can be drawn with a single stroke, and has a planar shape meandering in a meander shape. More specifically, the second wiring 40 includes a third wiring portion 41 that crosses the first magnet 21 in the x direction, and a fourth wiring portion 42 that crosses the second magnet 22 in the x direction. And a connecting portion 43 extending in the y direction so as to connect the two.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the influence of the current flowing through the first wiring 30 on the magnet structure 20.
  • the direction of the current with respect to the first magnet 21 is the downward direction ( ⁇ y direction).
  • a Lorentz force F1 in the right direction (+ x direction) acts.
  • the Lorentz force F ⁇ b> 1 in the right direction (+ x direction) acts on the first wiring 30. That is, the Lorentz force F1 in the right direction (+ x direction) acts on the first wiring 30 with respect to both the first and second magnets 21 and 22.
  • the relative positional relationship in the x direction between the magnet structure 20 and the first wiring 30 can be changed.
  • the rate of change can be controlled by the magnitude of the current I1 or I2.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the influence of the current flowing through the second wiring 40 on the magnet structure 20.
  • the relative positional relationship between the magnet structure 20 and the second wiring 40 in the y direction can be changed.
  • the rate of change can be controlled by the magnitude of the current I3 or I4.
  • both the first wiring 30 and the second wiring 40 are formed on the circuit board 60, the planar positional relationship between the magnet structure 20 and the circuit board 60 is changed by the currents I1 to I4. be able to. Therefore, if the circuit board 60 is fixed to a predetermined housing or the like, the magnet structure 20 can be driven two-dimensionally by the currents I1 to I4. Conversely, if the magnet structure 20 is fixed to a predetermined housing or the like, the circuit board 60 can be driven two-dimensionally by the currents I1 to I4.
  • the actuator 10A according to the present embodiment can be used as an actuator for camera shake correction of a camera incorporated in a smartphone.
  • one of the magnet structure 20 and the circuit board 60 is fixed to the housing of the smartphone, the other is fixed to the optical lens of the camera, and a camera shake signal obtained by an acceleration sensor built in the smartphone is a current. If converted into I1 to I4, the optical lens can be driven in a direction that cancels out according to the direction and size of camera shake.
  • FIG. 7 is a process diagram for explaining a method of manufacturing the magnet structure 20.
  • a bulk magnet 20a is bonded to a support substrate 23 made of glass or the like.
  • an anisotropic sintered neodymium magnet as the magnet 20a.
  • the easy axis of magnetization is the thickness direction (z direction).
  • the thickness of the magnet 20a is limited by the device in which the actuator 10A according to the present embodiment is incorporated. For example, in an application for driving an optical lens for camera shake correction of a camera incorporated in a smartphone, it is required to be very thin, and thus it is inevitably necessary to use a thin magnet 20a. In such an application, the thickness of the magnet 20a is limited to 1 mm or less, for example, about 500 ⁇ m.
  • the thickness of the support substrate 23 may be about 700 ⁇ m.
  • the surface layer portion of the magnet 20a has a low coercive force, it is considered difficult to make the thickness less than 200 ⁇ m when an anisotropic sintered neodymium magnet is used.
  • a slit SL is formed in the magnet 20a to divide it into a plurality of blocks 21a and 22a to be the first and second magnets 21 and 22, respectively.
  • a method of forming the slit SL a dicing method, a wire electric discharge machining method, or the like can be used.
  • the depth of the slit SL is preferably set to a depth that reaches the surface layer of the support substrate 23 so that the block 21a and the block 22a are completely separated.
  • the size of the blocks 21a and 22a is not particularly limited, but is preferably as small as possible in order to obtain a stronger magnetic force by reducing the influence of the demagnetizing field.
  • the size of the blocks 21a and 22a is approximately the same as the thickness of the magnet 20a. That is, the aspect ratio is preferably about 1. For example, when the thickness of the magnet 20a is about 500 ⁇ m, the size in the x direction and the y direction may be set to about 500 ⁇ m. Thereby, the magnet 20a is divided into blocks 21a and 22a which are cubes of 500 ⁇ m square.
  • the plurality of blocks 21a and 22a are magnetized in the z direction. Magnetization is preferably performed until the blocks 21a and 22a are magnetically saturated by applying a pulsed magnetic field.
  • the block 22a to be the second magnet 22 is selectively irradiated with the laser beam 24 to locally heat it, thereby reducing the coercive force of the block 22a.
  • the heat given by the laser beam 24 is also conducted to some extent to the block 21a serving as the first magnet 21, but the heat conduction is small because the plane direction is separated by the slit SL.
  • the heat conduction through the support substrate 23 can be minimized. Thereby, the coercive force of the block 22a can be selectively reduced while maintaining the coercive force of the block 21a.
  • the actuator 10 ⁇ / b> A includes the magnet structure 20 provided on the support substrate 23 and the planar first and second wirings 30 and 40 provided on the circuit board 60. Therefore, a two-dimensional operation is possible while being very thin.
  • FIG. 8 is a schematic plan view showing the configuration of the main part of the actuator 10B according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view along the line BB shown in FIG.
  • the actuator 10 ⁇ / b> B according to the present embodiment has an actuator 10 ⁇ / b> A according to the first embodiment in that a third wiring 50 that overlaps the magnet structure 20 in the z direction is added. Is different. Since the other basic configuration is the same as that of the actuator 10A according to the first embodiment, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
  • the third wiring 50 is stacked on the circuit board 60.
  • the surface of the insulating film 62 constitutes a fourth plane S4 parallel to the first plane S1
  • the third wiring 50 is on the surface of the insulating film 62, that is, on the fourth plane S4. Is formed.
  • the third wiring 50 is covered with an insulating film 63.
  • the first to third wirings 30, 40, and 50 are stacked on the circuit board 60 so as to overlap each other in the z direction.
  • FIG. 10 is a plan view showing the third wiring 50 extracted.
  • the third wiring 50 is one wiring that can be drawn with a single stroke, and has a planar shape meandering in a meander shape. More specifically, the third wiring 50 includes a fifth wiring portion 51 that circulates a part of the periphery of the first magnet 21 in a plan view, and a third wiring 50 that surrounds the second magnet 22 in a plan view. And a sixth wiring portion 52 that goes around the portion. Since the third wiring 50 has a meander shape, it is difficult to go around the entire circumference of the first magnet 21 and the second magnet 22 in a plan view. As shown in FIG. There are a large number of cases that make a 1/2 turn along the 3 and a case that makes a 3/4 turn along the 3 sides.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining the influence of the current flowing through the third wiring 50 on the magnet structure 20.
  • the relative positional relationship between the magnet structure 20 and the third wiring 50 in the z direction can be changed.
  • the rate of change can be controlled by the magnitude of the current I5 or I6.
  • the planar positional relationship between the magnet structure 20 and the circuit board 60 is changed by the currents I1 to I4.
  • the distance between the magnet structure 20 and the circuit board 60 can be changed by the currents I5 and I6. Therefore, if the circuit board 60 is fixed to a predetermined housing or the like, the magnet structure 20 can be three-dimensionally driven by the currents I1 to I6. Conversely, if the magnet structure 20 is fixed to a predetermined housing or the like, the circuit board 60 can be three-dimensionally driven by the currents I1 to I6.
  • the actuator 10B according to the present embodiment can be used as a camera shake correction and autofocus actuator for a camera incorporated in a smartphone.
  • one of the magnet structure 20 and the circuit board 60 is fixed to the housing of the smartphone, the other is fixed to the optical lens of the camera, the camera shake signal is converted into currents I1 to I4, and the focus signal is converted into the current. If converted to I5 and I6, camera shake correction can be performed, and the optical lens can be driven in accordance with the focus position, so that autofocus can be realized.
  • FIG. 12 is a schematic perspective view showing the configuration of the main part of the actuator 10C according to the third embodiment.
  • the actuator 10 ⁇ / b> C has a shape in which the central portions of the magnet structure 20 and the circuit board 60 are cut out in a circular shape, and the optical lens 70 is formed in the central portion of the magnet structure 20. Is inserted.
  • the circuit board 60 is fixed to a housing (not shown).
  • the magnet structure 20 and the optical lens 70 may be fixed by an adhesive or the like.
  • FIG. 13 by using a part of the glass constituting the support substrate 23 as the optical lens 70 as it is, May be integrated.
  • the first wiring 30 and the second wiring 40 are formed on the circuit board 60, in the present embodiment, the first wiring 30 and the second wiring 40 are located at different plane positions on the circuit board 60. Thereby, both constitute the same plane.
  • the meander-shaped first wiring 30 is formed in the regions 60A and 60B of the circuit board 60
  • the meander-shaped second wiring 40 is formed in the regions 60C and 60D of the circuit board 60. .
  • the first magnets 21 and the second magnets 22 are alternately arranged in the x direction, and the first arrangement portion Lx Configure.
  • the first magnets 21 and the second magnets 22 are alternately arranged in the y direction, and the second array portion Ly. Configure.
  • the actuator 10C according to the present embodiment like the actuator 10A according to the first embodiment, causes the currents I1 to I4 to flow through the first and second wirings 30 and 40, whereby the optical lens 70 with respect to the circuit board 60 is obtained.
  • the two-dimensional positional relationship can be controlled. That is, it functions as an actuator for camera shake correction.
  • the first wiring 30 and the second wiring 40 do not have to overlap in the z direction, and they may be formed on the same plane.
  • the wiring layer formed on the circuit board 60 can have a single-layer structure, the manufacturing cost of the circuit board 60 can be reduced.
  • the optical lens 70 is fitted in the central portion of the magnet structure 20.
  • the optical lens 70 may be fitted in the central portion of the circuit board 60.
  • the magnet structure 20 may be fixed to a housing (not shown).
  • the optical lens 70 may be fitted into both the central portion of the magnet structure 20 and the central portion of the circuit board 60.
  • the first and second wirings 30 and 40 are assigned to all of the first and second magnets 21 and 22, but such a configuration is not essential in the present invention. . Therefore, for the first wiring 30, it is sufficient to cross at least a part of the first magnet 21 and the second magnet constituting the first array portion Lx in the y direction, and for the second wiring 40, It is sufficient to cross at least part of the first magnet 21 and the second magnet constituting the second array portion Ly in the x direction. The same applies to the third wiring 50, and it is sufficient to circulate part of the first and second magnets 21 and 22.

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Abstract

第1の磁石21と第2の磁石22がx方向に交互に配列された第1の配列部分Lxと、第1の磁石21と第2の磁石22がy方向に交互に配列された第2の配列部分Lyとを含む磁石構造体20と、第1及び第2の配線30,40とを備える。第1の配線30は第1の配列部分Lxに含まれる第1及び第2の磁石21,22をy方向に横断し、第2の配線40は第2の配列部分Lyに含まれる第1及び第2の磁石21,22をx方向に横断する。本発明によれば上記の構成を備えることにより、第1及び第2の配線30,40に電流を流すことによって、2次元的な動作を実現することが可能となる。しかも、第1及び第2の配線30,40は、磁石を横切る平面的な配線であることから、低背化を達成することも可能となる。

Description

アクチュエータ
 本発明はアクチュエータに関し、特に、2次元的な動作が可能なアクチュエータに関する。
 電磁力を用いたアクチュエータとしては、1軸方向に往復運動可能なものが一般的であるが、特許文献1には、磁石をマトリクス状に配列することによって2次元的な動作を可能としたアクチュエータが記載されている。特許文献1に記載されたアクチュエータは、1個の磁石に対して4個のコイルを割り当て、これらのコイルに流す電流の向きを制御することによって2次元的な動作を実現している。
特開平11-196560号公報
薄膜ネオジム磁石の交番着磁とそれを用いたMEMSリニアモータの試作(精密工学会誌, Vol. 79, No8, 2013, p773-p778)
 しかしながら、特許文献1に記載されたアクチュエータは、1個の磁石に対して4個のコイルを割り当てていることから、小型化することが困難であるという問題がある。特に、駆動平面に対して垂直な厚さ方向におけるサイズを縮小することは困難であり、携帯型デバイスのように低背化が求められる用途には不向きである。
 低背化が可能なアクチュエータとしては、非特許文献1に記載されたリニアモータが知られている。しかしながら、非特許文献1に記載されたリニアモータは、1軸方向に往復運動するだけであり、2次元的な動作はできない。
 したがって、本発明の目的は、2次元的な動作が可能な低背型のアクチュエータを提供することである。
 本発明によるアクチュエータは、第1の方向及び前記第1の方向と直交する第2の方向に延在する第1の平面に位置する磁極面がN極である複数の第1の磁石と、前記第1の平面に位置する磁極面がS極である複数の第2の磁石とを含む磁石構造体と、前記第1の平面と平行な第2の平面に設けられた第1の配線と、前記第1の平面と平行な第3の平面に設けられた第2の配線と、を備え、前記磁石構造体は、前記第1の磁石と前記第2の磁石が前記第1の方向に交互に配列された第1の配列部分と、前記第1の磁石と前記第2の磁石が前記第2の方向に交互に配列された第2の配列部分とを含み、前記第1の配線は、前記第1の配列部分に含まれる前記第1及び第2の磁石の少なくとも一部を前記第2の方向に横断し、前記第2の配線は、前記第2の配列部分に含まれる前記第1及び第2の磁石の少なくとも一部を前記第1の方向に横断することを特徴とする。
 本発明によれば、第1及び第2の配線に電流を流すことにより、2次元的な動作を実現することが可能となる。しかも、第1及び第2の配線は、磁石を横切る平面的な配線であることから、低背化を達成することも可能となる。
 本発明において、前記第1の配線は、前記第1の磁石を前記第2の方向に横断する第1の配線部分と、前記第2の磁石を前記第2の方向に横断する第2の配線部分とを含み、前記第2の配線は、前記第1の磁石を前記第1の方向に横断する第3の配線部分と、前記第2の磁石を前記第1の方向に横断する第4の配線部分とを含み、前記第1の配線部分と前記第2の配線部分には、互いに逆方向の電流が流れるよう構成され、前記第3の配線部分と前記第4の配線部分には、互いに逆方向の電流が流れるよう構成されていることが好ましい。これによれば、より大きな駆動力を得ることが可能となる。
 本発明において、前記複数の第1の磁石と前記複数の第2の磁石は、前記第1及び第2の方向にマトリクス状に配列されていることが好ましい。これによれば、第1の配列部分と第2の配列部分を共通化することができる。
 本発明において、前記第2の平面と前記第3の平面は互いに重なっていても構わない。これによれば、アクチュエータの平面サイズを小型化することが可能となる。或いは、前記第2の平面と前記第3の平面は同一平面であっても構わない。これによれば、単層の配線層を用いることができる。
 本発明において、前記第1の配線は前記第2の平面においてミアンダ状に形成されており、前記第2の配線は前記第3の平面においてミアンダ状に形成されていることが好ましい。これによれば、第1及び第2の配線がより多くの磁石を横断することができるため、大きな駆動力を得ることが可能となる。
 本発明によるアクチュエータは、前記第1の平面と平行な第4の平面に設けられた第3の配線をさらに備え、前記第3の配線は、平面視で前記第1の磁石の周囲の少なくとも一部を周回する第5の配線部分を含むことが好ましい。これによれば、第1~第3の配線に電流を流すことにより、3次元的な動作を実現することが可能となる。
 この場合、前記第3の配線は、平面視で前記第2の磁石の周囲の少なくとも一部を周回する第6の配線部分をさらに含み、前記第5の配線部分と前記第6の配線部分には、互いに逆方向に周回する電流が流れるよう構成されていることが好ましい。これによれば、より大きな駆動力を得ることが可能となる。
 本発明において、前記第1及び第2の方向における前記第1及び第2の磁石の大きさは、1mm以下であることが好ましく、前記第1及び第2の方向と直交する第3の方向における前記磁石構造体の厚みは、1mm以下であることが好ましい。これによれば、非常に小型、且つ、低背型のアクチュエータを提供することが可能となる。
 本発明によるアクチュエータは、前記磁石構造体を支持する支持基板をさらに備え、前記支持基板の熱拡散率は、前記磁石構造体の熱拡散率よりも低いことが好ましい。これによれば、小型で薄い磁石構造体の作製が容易となる。
 本発明によるアクチュエータは、光学レンズと、前記第1及び第2の配線を支持する回路基板と、をさらに備え、前記光学レンズは、前記回路基板及び前記磁石構造体のいずれか一方に固定されていることが好ましい。これによれば、カメラの手ぶれ補正用のアクチュエータとして用いることが可能となる。
 このように、本発明によれば、2次元的な動作が可能な低背型のアクチュエータを提供することが可能となる。
図1は、本発明の第1の実施形態によるアクチュエータ10Aの主要部の構成を示す略平面図である。 図2は、図1に示すA-A線に沿った略断面図である。 図3は、第1の配線30の平面図である。 図4は、第2の配線40の平面図である。 図5は、第1の配線30に流れる電流が磁石構造体20に与える影響を説明するための図である。 図6は、第2の配線40に流れる電流が磁石構造体20に与える影響を説明するための図である。 図7は、磁石構造体20の製造方法を説明するための工程図である。 図8は、本発明の第2の実施形態によるアクチュエータ10Bの主要部の構成を示す略平面図である。 図9は、図8に示すB-B線に沿った略断面図である。 図10は、第3の配線50の平面図である。 図11は、第3の配線50に流れる電流が磁石構造体20に与える影響を説明するための図である。 図12は、第3の実施形態によるアクチュエータ10Cの主要部の構成を示す略斜視図である。 図13は、支持基板23を構成するガラスの一部を光学レンズ70として用いた例を示す模式図である。
 以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。
<第1の実施形態>
 図1は、本発明の第1の実施形態によるアクチュエータ10Aの主要部の構成を示す略平面図である。また、図2は、図1に示すA-A線に沿った略断面図である。
 図1及び図2に示すように、本実施形態によるアクチュエータ10Aは、x方向及びy方向にマトリクス状に配列された複数の第1及び第2の磁石21,22からなる磁石構造体20と、磁石構造体20に対してz方向に重なる第1の配線30及び第2の配線40とを備える。
 磁石構造体20は、ガラスなどからなる支持基板23上に設けられており、xy方向に延在する第1の平面S1に磁極面が位置している。尚、図面の見やすさを考慮して、図1においては支持基板23が図示されていない。磁石構造体20を構成する磁石21,22のうち、第1の磁石21は第1の平面S1に位置する磁極面がN極であり、逆に、第2の磁石22は第1の平面S1に位置する磁極面がS極である。そして、これら第1の磁石21と第2の磁石22が市松模様にマトリクス配列されている。つまり、x方向に延在する各行は、第1の磁石21と第2の磁石がx方向に交互に配列された第1の配列部分Lxを構成し、y方向に延在する各列は、第1の磁石21と第2の磁石がy方向に交互に配列された第2の配列部分Lyを構成する。
 図2に示すように、本実施形態においては、隣接する第1の磁石21と第2の磁石22がスリットSLを介して分離しており、かかるスリットSLは支持基板23の表層に達している。本発明においてこのようなスリットSLを設けることは必須でないが、後述するように、磁石構造体20の製造工程においてこのようなスリットSLを形成することが有利である。尚、スリットSLを形成しない場合、支持基板23は必ずしも必要ではない。
 第1の配線30及び第2の配線40は、回路基板60上に積層されている。回路基板60の主面は、第1の平面S1と平行な第2の平面S2を構成しており、第1の配線30は回路基板60の主面上、つまり第2の平面S2に形成されている。第1の配線30は絶縁膜61によって覆われている。絶縁膜61の表面は、第1の平面S1と平行な第3の平面S3を構成しており、第2の配線40は絶縁膜61の表面上、つまり第3の平面S3に形成されている。第2の配線40は絶縁膜62によって覆われている。このように、第1の配線30と第2の配線40は、互いにz方向に重なるよう、回路基板60上に積層されている。
 図3は、第1の配線30を抜き出して示す平面図である。図3においては、磁石構造体20との平面的な位置関係を明確にすべく、第1及び第2の磁石21,22の位置についても表示されている。この点は、後述する図4~図6、図10及び図11においても同様である。
 図3に示すように、第1の配線30は、一筆書き可能な1本の配線であり、ミアンダ状に蛇行する平面形状を有している。より具体的に説明すると、第1の配線30は、第1の磁石21をy方向に横断する第1の配線部分31と、第2の磁石22をy方向に横断する第2の配線部分32と、両者を接続するようx方向に延在する接続部分33とを含んでいる。
 かかる構成により、第1の配線30に電流を流すと、第1の配線部分31と第2の配線部分32には、互いに逆方向の電流が流れる。図3に示す例では、第1の配線30の一端30aから他端30bに向かって電流を流すと、第1の配線部分31には下方向(-y方向)に電流が流れ、第2の配線部分32には上方向(+y方向)に電流が流れることになる。
 図4は、第2の配線40を抜き出して示す平面図である。
 図4に示すように、第2の配線40は、一筆書き可能な1本の配線であり、ミアンダ状に蛇行する平面形状を有している。より具体的に説明すると、第2の配線40は、第1の磁石21をx方向に横断する第3の配線部分41と、第2の磁石22をx方向に横断する第4の配線部分42と、両者を接続するようy方向に延在する接続部分43とを含んでいる。
 かかる構成により、第2の配線40に電流を流すと、第3の配線部分41と第4の配線部分42には、互いに逆方向の電流が流れる。図4に示す例では、第2の配線40の一端40aから他端40bに向かって電流を流すと、第3の配線部分41には右方向(+x方向)に電流が流れ、第4の配線部分42には左方向(-x方向)に電流が流れることになる。
 図5は、第1の配線30に流れる電流が磁石構造体20に与える影響を説明するための図である。
 図5に示すように、第1の配線30に電流I1又はI2が流れると、磁石構造体20と第1の配線30との間にはx方向のローレンツ力F1又はF2が働く。
 具体的には、第1の配線30に電流I1が流れた場合、第1の磁石21に対しては電流の方向が下方向(-y方向)であることから、第1の配線30には右方向(+x方向)のローレンツ力F1が作用する。一方、第2の磁石22に対しては電流の方向が上方向(+y方向)であることから、第1の配線30には右方向(+x方向)のローレンツ力F1が作用する。つまり、第1及び第2の磁石21,22のいずれに対しても、第1の配線30には右方向(+x方向)のローレンツ力F1が作用することになる。
 逆に、第1の配線30に電流I2が流れた場合、第1の磁石21に対しては電流の方向が上方向(+y方向)であることから、第1の配線30には左方向(-x方向)のローレンツ力F2が作用する。一方、第2の磁石22に対しては電流の方向が下方向(-y方向)であることから、第1の配線30には左方向(-x方向)のローレンツ力F2が作用する。つまり、第1及び第2の磁石21,22のいずれに対しても、第1の配線30には左方向(-x方向)のローレンツ力F2が作用することになる。
 したがって、電流I1又はI2を流すことにより、磁石構造体20と第1の配線30とのx方向における相対的な位置関係を変化させることができる。変化の速度は、電流I1又はI2の大きさによって制御することができる。
 図6は、第2の配線40に流れる電流が磁石構造体20に与える影響を説明するための図である。
 図6に示すように、第2の配線40に電流I3又はI4が流れると、磁石構造体20と第2の配線40との間にはy方向のローレンツ力F3又はF4が働く。
 具体的には、第2の配線40に電流I3が流れた場合、第1の磁石21に対しては電流の方向が右方向(+x方向)であることから、第2の配線40には上方向(+y方向)のローレンツ力F3が作用する。一方、第2の磁石22に対しては電流の方向が左方向(-x方向)であることから、第2の配線40には上方向(+y方向)のローレンツ力F3が作用する。つまり、第1及び第2の磁石21,22のいずれに対しても、第2の配線40には上方向(+y方向)のローレンツ力F3が作用することになる。
 逆に、第2の配線40に電流I4が流れた場合、第1の磁石21に対しては電流の方向が左方向(-x方向)であることから、第2の配線40には下方向(-y方向)のローレンツ力F4が作用する。一方、第2の磁石22に対しては電流の方向が右方向(+x方向)であることから、第2の配線40には下方向(-y方向)のローレンツ力F4が作用する。つまり、第1及び第2の磁石21,22のいずれに対しても、第2の配線40には下方向(-y方向)のローレンツ力F4が作用することになる。
 したがって、電流I3又はI4を流すことにより、磁石構造体20と第2の配線40とのy方向における相対的な位置関係を変化させることができる。変化の速度は、電流I3又はI4の大きさによって制御することができる。
 そして、第1の配線30と第2の配線40は、いずれも回路基板60に形成されていることから、電流I1~I4によって磁石構造体20と回路基板60の平面的な位置関係を変化させることができる。したがって、回路基板60を所定の筐体などに固定すれば、電流I1~I4によって磁石構造体20を2次元的に駆動することができる。逆に、磁石構造体20を所定の筐体などに固定すれば、電流I1~I4によって回路基板60を2次元的に駆動することができる。
 特に限定されるものではないが、本実施形態によるアクチュエータ10Aは、スマートフォンに組み込まれるカメラの手ぶれ補正用のアクチュエータとして使用することができる。この場合、磁石構造体20及び回路基板60のいずれか一方をスマートフォンの筐体に固定し、他方をカメラの光学レンズに固定するとともに、スマートフォンに内蔵された加速度センサなどによって得られる手ぶれ信号を電流I1~I4に変換すれば、手ぶれの方向及び大きさに応じて、これを相殺する方向に光学レンズを駆動することができる。
 図7は、磁石構造体20の製造方法を説明するための工程図である。
 まず、図7(a)に示すように、ガラスなどからなる支持基板23にバルク状の磁石20aを接着する。特に限定されるものではないが、磁石20aとしては異方性焼結ネオジム磁石を用いることが好ましい。磁化容易軸は厚み方向(z方向)である。磁石20aの厚さは、本実施形態によるアクチュエータ10Aが組み込まれる機器によって制限される。例えば、スマートフォンに組み込まれるカメラの手ぶれ補正用に光学レンズを駆動する用途においては、非常に薄型であることが求められるため、必然的に薄い磁石20aを使用する必要がある。このような用途においては、磁石20aの厚みは1mm以下、例えば500μm程度に制限される。磁石20aの厚みが500μm程度である場合、支持基板23の厚みは700μm程度とすればよい。但し、磁石20aの表層部分は保磁力が低いため、異方性焼結ネオジム磁石を用いた場合は、その厚みを200μm未満とすることは困難であると考えられる。
 次に、図7(b)に示すように、磁石20aにスリットSLを形成することによって、それぞれ第1及び第2の磁石21,22となる複数のブロック21a,22aに分割する。スリットSLの形成方法としては、ダイシング法やワイヤ放電加工法などを用いることができる。スリットSLの深さとしては、ブロック21aとブロック22aが完全に分離するよう、支持基板23の表層に達する深さとすることが好ましい。ブロック21a,22aのサイズについては特に限定されないが、反磁界の影響を低減することによってより強い磁力を得るためには、できる限り小さいことが好ましい。しかしながら、上述の通り、磁石20aの表層部分は保磁力が低いため、磁石20aをあまりにも細かく分割すると、逆に保磁力が低下してしまう。このような点を考慮すれば、ブロック21a,22aのサイズは磁石20aの厚みと同程度とすることが好ましい。つまり、アスペクト比を1程度とすることが好ましい。例えば、磁石20aの厚みが500μm程度である場合、x方向及びy方向のサイズについても500μm程度とすればよい。これにより、磁石20aは500μm角の立方体であるブロック21a,22aに分割される。
 次に、図7(c)に示すように、複数のブロック21a,22aをz方向に着磁する。着磁は、パルス磁場印加によってブロック21a,22aが磁気飽和するまで行うことが好ましい。
 次に、図7(d)に示すように、第2の磁石22となるブロック22aに対して選択的にレーザビーム24を照射することによって局所的に加熱し、当該ブロック22aの保磁力を低下させる。レーザビーム24により与えられる熱は、第1の磁石21となるブロック21aにもある程度伝導するが、平面方向についてはスリットSLで分離されているため熱の伝導は少ない。また、支持基板23の材料として、ガラスのように焼結磁石よりも熱拡散率の低い材料を用いることにより、支持基板23を介した熱伝導についても最小限に抑えることができる。これにより、ブロック21aの保磁力を維持しつつ、ブロック22aの保磁力を選択的に低下させることができる。
 その後自然冷却させると、図7(e)に示すように、ブロック21aからの漏洩磁束がブロック22aを通過し、この漏洩磁束によってブロック22aが逆方向に磁化される。これにより交番着磁が達成され、図7(f)に示すように第1及び第2の磁石21,22が交互に配列された磁石構造体20を得ることができる。
 そして、作製した磁石構造体20の第1の平面S1が回路基板60の第2及び第3の平面S2,S3と向かい合うよう、両者を平面方向に滑動自在に支持すれば、本実施形態によるアクチュエータ10Aが完成する。
 このように、本実施形態によるアクチュエータ10Aは、支持基板23に設けられた磁石構造体20と、回路基板60に設けられた平面的な第1及び第2の配線30,40によって構成されていることから、非常に薄型でありながら2次元的な動作が可能となる。
<第2の実施形態>
 図8は、本発明の第2の実施形態によるアクチュエータ10Bの主要部の構成を示す略平面図である。また、図9は、図8に示すB-B線に沿った略断面図である。
 図8及び図9に示すように、本実施形態によるアクチュエータ10Bは、磁石構造体20に対してz方向に重なる第3の配線50が追加されている点において、第1の実施形態によるアクチュエータ10Aと相違する。その他の基本構成は第1の実施形態によるアクチュエータ10Aと同様であることから、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
 第3の配線50は、回路基板60上に積層されている。具体的には、絶縁膜62の表面は第1の平面S1と平行な第4の平面S4を構成しており、第3の配線50は絶縁膜62の表面上、つまり第4の平面S4に形成されている。第3の配線50は絶縁膜63によって覆われている。このように、第1~第3の配線30,40,50は、互いにz方向に重なるよう、回路基板60上に積層されている。
 図10は、第3の配線50を抜き出して示す平面図である。
 図10に示すように、第3の配線50は、一筆書き可能な1本の配線であり、ミアンダ状に蛇行する平面形状を有している。より具体的に説明すると、第3の配線50は、平面視で第1の磁石21の周囲の一部を周回する第5の配線部分51と、平面視で第2の磁石22の周囲の一部を周回する第6の配線部分52とを含んでいる。尚、第3の配線50はミアンダ状であることから、平面視で第1の磁石21や第2の磁石22の全周囲を周回することは困難であり、図10に示すように、2辺に沿って1/2周するケースや、3辺に沿って3/4周するケースが多数となる。
 そして、第3の配線50に電流を流すと、第5の配線部分51と第6の配線部分52には、互いに逆方向に周回する電流が流れる。図10に示す例では、第3の配線50の一端50aから他端50bに向かって電流を流すと、第5の配線部分51には右回り(時計回り)に電流が流れ、第6の配線部分52には左回り(反時計回り)に電流が流れることになる。
 図11は、第3の配線50に流れる電流が磁石構造体20に与える影響を説明するための図である。
 第3の配線50に電流I5又はI6が流れると、第5の配線部分51と第6の配線部分52に囲まれた領域をz方向に貫通する磁束が発生する。
 具体的には、第3の配線50に電流I5が流れた場合、第5の配線部分51に囲まれた領域においては-z方向に磁束が発生し、第6の配線部分52に囲まれた領域においては+z方向に磁束が発生する。そして、第5の配線部分51は平面視で第1の磁石21を周回する位置に設けられていることから、第1の磁石21に吸引され、第3の配線50には上方向(+z方向)の吸引力F5が作用する。一方、第6の配線部分52は平面視で第2の磁石22を周回する位置に設けられていることから、第2の磁石22に吸引され、第3の配線50には上方向(+z方向)の吸引力F5が作用する。つまり、第1及び第2の磁石21,22のいずれに対しても、第3の配線50には上方向(+z方向)の吸引力F5が作用することになる。
 逆に、第3の配線50に電流I6が流れた場合、第5の配線部分51に囲まれた領域においては+z方向に磁束が発生し、第6の配線部分52に囲まれた領域においては-z方向に磁束が発生する。そして、第5の配線部分51は平面視で第1の磁石21を周回する位置に設けられていることから、第1の磁石21からの磁束と反発し、第3の配線50には下方向(-z方向)の反発力F6が作用する。一方、第6の配線部分52は平面視で第2の磁石22を周回する位置に設けられていることから、第2の磁石22からの磁束と反発し、第3の配線50には下方向(-z方向)の反発力F6が作用する。つまり、第1及び第2の磁石21,22のいずれに対しても、第3の配線50には上方向(+z方向)の反発力F6が作用することになる。
 したがって、電流I5又はI6を流すことにより、磁石構造体20と第3の配線50とのz方向における相対的な位置関係を変化させることができる。変化の速度は、電流I5又はI6の大きさによって制御することができる。
 そして、第1~第3の配線30~50は、いずれも回路基板60に形成されていることから、電流I1~I4によって磁石構造体20と回路基板60の平面的な位置関係を変化させることができるとともに、電流I5,I6によって磁石構造体20と回路基板60の距離を変化させることができる。したがって、回路基板60を所定の筐体などに固定すれば、電流I1~I6によって磁石構造体20を3次元的に駆動することができる。逆に、磁石構造体20を所定の筐体などに固定すれば、電流I1~I6によって回路基板60を3次元的に駆動することができる。
 特に限定されるものではないが、本実施形態によるアクチュエータ10Bは、スマートフォンに組み込まれるカメラの手ぶれ補正用兼オートフォーカス用のアクチュエータとして使用することができる。この場合、磁石構造体20及び回路基板60のいずれか一方をスマートフォンの筐体に固定し、他方をカメラの光学レンズに固定するとともに、手ぶれ信号を電流I1~I4に変換し、フォーカス信号を電流I5,I6に変換すれば、手ぶれ補正を行うことができるとともに、ピントの位置に応じて光学レンズを駆動することができ、オートフォーカスを実現することが可能となる。
<第3の実施形態>
 図12は、第3の実施形態によるアクチュエータ10Cの主要部の構成を示す略斜視図である。
 図12に示すように、本実施形態によるアクチュエータ10Cは、磁石構造体20及び回路基板60の中央部が円形にくり抜かれた形状を有しており、磁石構造体20の中央部に光学レンズ70が嵌め込まれている。この場合、回路基板60は図示しない筐体に固定される。磁石構造体20と光学レンズ70は、接着剤などによって固定されていても構わないし、図13に示すように、支持基板23を構成するガラスの一部をそのまま光学レンズ70として用いることにより、両者を一体化しても構わない。
 回路基板60には、第1の配線30及び第2の配線40が形成されているが、本実施形態においては、第1の配線30と第2の配線40が回路基板60上の異なる平面位置に形成され、これにより両者は同一平面を構成している。具体的には、回路基板60の領域60A,60Bにはミアンダ状の第1の配線30が形成され、回路基板60の領域60C,60Dにはミアンダ状の第2の配線40が形成されている。
 そして、回路基板60の領域60A,60Bと重なる磁石構造体20の領域20A,20Bにおいては、第1の磁石21と第2の磁石22がx方向に交互に配列されて第1の配列部分Lxを構成する。一方、回路基板60の領域60C,60Dと重なる磁石構造体20の領域20C,20Dにおいては、第1の磁石21と第2の磁石22がy方向に交互に配列されて第2の配列部分Lyを構成する。
 かかる構成により、本実施形態によるアクチュエータ10Cは、第1の実施形態によるアクチュエータ10Aと同様、第1及び第2の配線30,40に電流I1~I4を流すことによって、回路基板60に対する光学レンズ70の2次元的な位置関係を制御することができる。つまり、カメラの手ぶれ補正用のアクチュエータとして機能する。
 このように、本発明においては、第1の配線30と第2の配線40がz方向に重なっている必要はなく、これらが同一平面に形成されていても構わない。この場合、回路基板60上に形成する配線層を単層構造とすることができるため、回路基板60の製造コストを低下させることが可能となる。
 尚、図12に示した例では、磁石構造体20の中央部に光学レンズ70が嵌め込まれているが、これに代えて、回路基板60の中央部に光学レンズ70を嵌め込んでも構わない。この場合、磁石構造体20を図示しない筐体に固定すればよい。さらには、磁石構造体20の中央部と回路基板60の中央部の両方に光学レンズ70を嵌め込んでも構わない。
 以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
 例えば、上記実施形態では、第1及び第2の磁石21,22の全てに第1及び第2の配線30,40が割り当てられているが、本発明においてこのような構成とすることは必須でない。したがって、第1の配線30については、第1の配列部分Lxを構成する第1の磁石21及び第2の磁石の少なくとも一部をy方向に横断すれば足り、第2の配線40については、第2の配列部分Lyを構成する第1の磁石21及び第2の磁石の少なくとも一部をx方向に横断すれば足りる。第3の配線50についても同様であり、第1及び第2の磁石21,22の一部を周回すれば足りる。
10A~10C  アクチュエータ
20   磁石構造体
20A~20D  領域
20a  バルク状の磁石
21   第1の磁石
22   第2の磁石
21a,22a  ブロック
23   支持基板
24   レーザビーム
30   第1の配線
30a  第1の配線の一端
30b  第1の配線の他端
31   第1の配線部分
32   第2の配線部分
33   接続部分
40   第2の配線
40a  第2の配線の一端
40b  第2の配線の他端
41   第3の配線部分
42   第4の配線部分
43   接続部分
50   第3の配線
50a  第3の配線の一端
50b  第3の配線の他端
51   第5の線部分
52   第6の配線部分
60   回路基板
60A~60D  領域
61~63  絶縁膜
70   光学レンズ
F1~F4  ローレンツ力
F5   吸引力
F6   反発力
I1~I6  電流
Lx   第1の配列部分
Ly   第2の配列部分
S1   第1の平面
S2   第2の平面
S3   第3の平面
S4   第4の平面
SL   スリット

Claims (12)

  1.  第1の方向及び前記第1の方向と直交する第2の方向に延在する第1の平面に位置する磁極面がN極である複数の第1の磁石と、前記第1の平面に位置する磁極面がS極である複数の第2の磁石とを含む磁石構造体と、
     前記第1の平面と平行な第2の平面に設けられた第1の配線と、
     前記第1の平面と平行な第3の平面に設けられた第2の配線と、を備え、
     前記磁石構造体は、前記第1の磁石と前記第2の磁石が前記第1の方向に交互に配列された第1の配列部分と、前記第1の磁石と前記第2の磁石が前記第2の方向に交互に配列された第2の配列部分とを含み、
     前記第1の配線は、前記第1の配列部分に含まれる前記第1及び第2の磁石の少なくとも一部を前記第2の方向に横断し、
     前記第2の配線は、前記第2の配列部分に含まれる前記第1及び第2の磁石の少なくとも一部を前記第1の方向に横断することを特徴とするアクチュエータ。
  2.  前記第1の配線は、前記第1の磁石を前記第2の方向に横断する第1の配線部分と、前記第2の磁石を前記第2の方向に横断する第2の配線部分とを含み、
     前記第2の配線は、前記第1の磁石を前記第1の方向に横断する第3の配線部分と、前記第2の磁石を前記第1の方向に横断する第4の配線部分とを含み、
     前記第1の配線部分と前記第2の配線部分には、互いに逆方向の電流が流れるよう構成され、
     前記第3の配線部分と前記第4の配線部分には、互いに逆方向の電流が流れるよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータ。
  3.  前記複数の第1の磁石と前記複数の第2の磁石が前記第1及び第2の方向にマトリクス状に配列されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のアクチュエータ。
  4.  前記第2の平面と前記第3の平面が互いに重なることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  5.  前記第2の平面と前記第3の平面が同一平面であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  6.  前記第1の配線は前記第2の平面においてミアンダ状に形成されており、前記第2の配線は前記第3の平面においてミアンダ状に形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  7.  前記第1の平面と平行な第4の平面に設けられた第3の配線をさらに備え、
     前記第3の配線は、平面視で前記第1の磁石の周囲の少なくとも一部を周回する第5の配線部分を含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  8.  前記第3の配線は、平面視で前記第2の磁石の周囲の少なくとも一部を周回する第6の配線部分をさらに含み、
     前記第5の配線部分と前記第6の配線部分には、互いに逆方向に周回する電流が流れるよう構成されていることを特徴とする請求項7に記載のアクチュエータ。
  9.  前記第1及び第2の方向における前記第1及び第2の磁石の大きさは、1mm以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  10.  前記第1及び第2の方向と直交する第3の方向における前記磁石構造体の厚みは、1mm以下であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  11.  前記磁石構造体を支持する支持基板をさらに備え、
     前記支持基板の熱拡散率は、前記磁石構造体の熱拡散率よりも低いことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
  12.  光学レンズと、
     前記第1及び第2の配線を支持する回路基板と、をさらに備え、
     前記光学レンズは、前記回路基板及び前記磁石構造体のいずれか一方に固定されていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載のアクチュエータ。
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