JPH04183547A - ステージ装置 - Google Patents

ステージ装置

Info

Publication number
JPH04183547A
JPH04183547A JP31323290A JP31323290A JPH04183547A JP H04183547 A JPH04183547 A JP H04183547A JP 31323290 A JP31323290 A JP 31323290A JP 31323290 A JP31323290 A JP 31323290A JP H04183547 A JPH04183547 A JP H04183547A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
coil
coils
air
force
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP31323290A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiyuki Tomita
良幸 冨田
Fumiaki Sato
文昭 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP31323290A priority Critical patent/JPH04183547A/ja
Publication of JPH04183547A publication Critical patent/JPH04183547A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野コ 本発明は、ステージ装置に関し、特に半導体製造装置等
に用いるのに適した高精度のステージ装置に関する。
半導体集積回路装置の集積度の向上と共に、半導体製造
技術には、より高精度が要求されている。
パターン線幅は1μmを割り、サブミクロンから0.1
μmに近付こうとしている。線幅の減少に伴い、半導体
ウェハを位置決めすべきステージ装置には、線幅の精度
よりも少なくとも1桁、好ましくは2桁以上優れた精度
が望まれている。
[従来の技術] 従来、対象物を2次元的に駆動する精密ステージ装置と
しては、まず平面内の一方向であるX軸方向について、
駆動を行なうサーボモータとホールネジを備えたXステ
ージを形成し、その上にY軸方向の駆動を行なうサーボ
モータとポールネジを備えたYステージを重ねたXYス
テージが知られている。
ところが、ポールネジはガタやバックラッシを完全に排
除することはできない、また、サーボモータで発生した
駆動力を対象物に伝えるには、途中に動力伝達機構や案
内機構を介さねばならす、発生した駆動力を100%対
象物に伝えることはできない、これは別の観点から見る
と、利用できなかった駆動力は何らかの機構部材等に歪
、弾性変形等を生じさせていることになる。すなわち、
精度低下の原因となっている。
このように機構によっては、0.1μm程度以下の位置
決め精度を実現することは困難である。
半導体製造技術において要求される高精度を実現するた
め、様々な構成のステージ装置が研究されている。しか
しながら、種々の方式もそれぞれの課題を抱えている。
[発明か解決しようとする課組コ 以上説明したように、サーボモータとポールネジによる
精密ステージ装置によっては、たとえば0.1μmの位
置決め精度を持つ超精密XYステージを実現することは
離しかった。
本発明の目的は、超精密精度を実現するのに適したステ
ージ装置を提供することである。
[先の提案コ 本出願人は、対象物を載置するステージ部材に直接力を
作用させて駆動するため、永久磁石とコイルとを有する
2次元モータを用いたステージ装置を提案した(特願平
1−117091号、特願平1 317013号、特願
平2−114612号、特願平2−114613号、特
願平2−174699号、特願平2−186844号、
fl!り。
永久磁石により発生する磁界中にコイルの一辺を配置し
、コイルを流を流すことによって生じるローレンツ力に
よって、コイルすなわち2次元モータに結合したステー
ジに力を作用させる。
平面上にコイルと永久磁石とを分布させると、両者か対
向する位置か飛び飛びになる。このため、発生する力が
変動することを補償するため、たとえばコイルを多相化
する方式が有効である。
ステージ装置に要求される精度が高くなると、ステージ
部材等の熱膨張か間組となる。コイルと永久磁石を用い
た駆動系において、駆動力を発生させるにはコイルにt
流を流す必要かある。するとコイルは発熱する。
熱膨張をなるべく小さく押えるには、発熱量を小さくす
る必要かある。なるべく小さなt流で大きな駆動力を得
られることが望ましい。
[課題を解決するための手段] 本発明のステージ装置は、対象物を載置するためのステ
ージ部材を、基準となる支持部材に対して相対的に所定
面内で移動させるステージ装!であって、ステージ部材
と支持部材の一方に取付けられ、所定面とほぼ垂直に磁
束を発生させる複数の永久磁石とこれらの永久磁石を結
合するヨークとの組合わせと、ステージ部材と支持部材
の他方に取付けられ、軸上に高透磁率材料のコアを有す
る複数の有心コイルとを有する。
[作用] ステージ部材と支持部材の一方に、複数の永久磁石とヨ
ークとの組合わせを取付け、他方に高透磁率材料のコア
を有する複数の有心コイルを取付けることにより、永久
磁石と高透磁率材料のコアとの闇に強い磁界を発生させ
、コイルに電流を流すことによって、ステージ部材に直
接力を作用させることができる。
高透磁率材料のコアかコイルの軸上に設けられているた
め、磁界強度が高くなり、同一の電流に対して発生する
力が増大する。
[実施例] 第1図に、本発明の実施例によるステージ装置の平面構
造を概略的に示す。
図において、板状のコイルベース1の上に、多数のコイ
ル2.3.4か格子状に配列されている。
左側2列のコイル2は、Y軸の周りに巻回されたコイル
であり、これらのコイルに電流を流すことにより、Y方
向の力を発生させることを目的とする。中央3列のコイ
ル3は、X軸方向の周りに巻回されたコイルであり、X
軸方向の力を発生させることを目的とする。また、右側
2列のコイル4は、Y軸方向の巻回しされたコイルであ
り、Y軸方向の力を発生させることを目的とする。これ
らのコイルは、7行7列のマトリックス状に配置されて
おり、各隣接コイルの間にはエアパッド構造体5か配置
されている。エアパッド構造体5は、空気を吹出し、対
向する相手側との間に一定のギャップを形成することを
目的とするものである。
また、コイルベース1には、コイルベース1をX方向に
駆動するためのコイルベース駆動用7フに駆動するため
のコイルベース駆動用アクチュエータ11、13か設け
られている.これらのアクチュエータ11、12、13
は、たとえばポールネジとサーボモータ、積層圧電素子
等を用いて構成されている。このような構成のコイルベ
ース1の上には、第1図中点線で示されるように、可動
ステージ7か配置される.この可動ステージ7のコイル
ベース1と対向する側には、永久磁石9か配置されてい
る.永久磁石9がその周囲に磁界を形成し、この磁界中
でコイル2、3、4に電流が流れると、コイルにローレ
ンツ力が働く.この力によって可動ステージ7が移動す
る。
第2図は、第1図のA−A’線に沿った断面図を示す。
コイルベース1の内部には、空気等の気体を流通させる
ことのできる給気路6か形成されており、コイルベース
1上に配置された複数のエアパッド構造体5に作動気体
を供給する0図示の構成においては、右側に2つのY用
コイル2、中央に3つのX用コイル3、右側に2つのY
用コイル4が配置されており、これらのコイルの中心部
には、それぞれ鉄等の高透磁率材料で形成されたコア1
4か配置されている。
各コイルとコアとの関係を第3図に示す。第2図中央の
3つのX用コイル3の場合を示す.コア14がX方向に
貫通し、その周囲に3カ所でX用コイル3a、3b、3
cが巻回されている.なお、コアの中心部を貫通して、
エアパッド構造体に空気を供給するための通気路か形成
されているが、第3図においては、図示を省略しである
エアパッド構造体5によって、有効な反発力を得るには
、図示のようにエアパッド構造体の空気吹出し面をコイ
ルの面よりも上に突出させて配置することか好ましい.
コイルベース1の上方には、可動ステージ7か配置され
る。この可動ステージ7の下面には、鉄等の高速6ti
率材料で形成されたヨーク8か配置されている6ヨーク
8の下面上に、複数の永久磁石9か配置されている。永
久磁石9の配置は、たとえば第1図の点線に示すような
ものであり、第2図の断面図においては、左側に2つの
永久磁石かコイルベース1上のコイルのピッチの1/2
の間隔で配置されている.なお、永久磁石9の向こう側
に、エアパッド構造体5と対向する案内面部材10か見
えている。
第2図の配置においては、左端の永久磁石9aがY用コ
イル2aと対向し、駆動力を発揮する。
その隣の永久磁石9bは、対向する位置にコイルを有さ
ず、この位置では有効な力を発生させない。
永久磁石9bの向こう側(紙面裏側)に、案内面部分1
0が配置されており、エアパッド構造体5と対向してい
る.エアパッド構造体5から空気が吹出すと、案内面部
材10との間に空気層が形成され、可動ステージ7を浮
上させる.中央に示すX用コイル3a、3b、3cの位
置においては、X用コイル3a、3bと対向して、永久
磁石9c、9dか配置されている。これら隣接する永久
磁石9c、9dは、その極性が反転しており、ヨーク8
を介して矢印で示すような磁束通路か形成される。この
磁束は、中間のギヤングを通ってコイルベースl上のX
用コイル3a、3bの軸上のコア14に結合する。この
ようにして、閉じた磁気回路が形成される。X用コイル
3a、3bに、図示のように逆方向の電流を流すと、磁
束の方向か逆なため、両コイルとも同一方向のローレン
ツ力を発生させる。このようにして、可動ステージ7は
図中水平方向に駆動される。なお、もう1つの永久磁石
9eは、図中、紙面裏面方向にすれた位置に配置されて
おり、X用コイル3cとは対向していない。また、エア
パッド構造体5の上には、それぞれ案内面部材10か配
置されており、これらのエアパッド構造体5がら空気を
吹出すことにより、案内面部材10との間に空気層を形
成し、可動ステージ7に対する浮上刃を形成する。右側
に示す2つの永久磁石9f、9gおよびその下に配置さ
れる2つのY用コイル4a、4bは、左側に示す2つの
永久磁石、2つのY用コイルと同等の関係にある。
図示の状態においては、中央のX用コイルを流れる電流
により、可動ステージ7を右側に駆動する力が発生し、
両側のY用コイルに流れる電流により、可動ステージ7
を紙面手前方向に駆動する力が発生する。
永久磁石9、コイル2.3.4と組合わせて、高透磁率
材料のヨーク8および高透磁率材料のコア14を用いる
ことにより、磁気抵抗の低い磁路15が形成され、強い
磁束密度を得ることが可能となる。このため、空心コイ
ルの場合と較べると、コイル2.3.4に流す電流値か
゛同一であっても、より強い力を得ることか可能となる
第4図(A)、(B)、(C)を参照して、可動ステー
ジをX方向、Y方向、θ2方向に駆動する駆動方式を説
明する。なお、第1図に示したように、ステージ上にコ
イルか格子状に配置され、その上に所定パターンで永久
磁石か配置されているとする。常に、力を発生させるた
めに、コイルと永久磁石の一方、図示の構成においては
、永久磁石は、1 、、′2のピッチで配置されている
。どちらの永久磁石かコイルと対向していても、コイル
に電流を流すことにより、はぼ同等の力を発生させるこ
とかできる。
第4図(A)、(B)、(C)においては、これら2つ
の永久磁石をまとめて1組とし、その磁界内にt7Mを
流すことによって生じる力を矢印で示す。
第4図(A)においては、永久磁石と対向するY用コイ
ルに電流を流すことにより、4組のY方向の力を得てい
る。これらの力に基つき、可動ステージ7はY方向に駆
動される。
第4図(B)においては、永久磁石と対向するX用コイ
ルにt&流を流すことにより、2組のX方向の力を得て
いる。この力により、可動ステージ7はX方向に駆動さ
れる。
第4図(C)においては、左側のY用コイル2の部分で
図中上向きの力、右側のY用コイル4の部分で図中下向
きの力を発生させている。これらの向きの異なる同一の
多きさを持つ力により、可動ステージ7は、回転方向の
駆動を受ける。
このようにして、可動ステージ7は、平面内のいずれの
方向においても駆動され、その位置を変化させることが
できる。
なお、可動ステージ7は、エアパッド構造体5か吹出す
空気等のカスにより浮上しており、極めて摩擦力の小さ
い状態で運動する]このため、−度速度を得た可動ステ
ージは、そのまま運動を続ける。このような可動ステー
ジを制御する方式を、第5図を参照して簡単に説明する
第5図において、横軸は時間を示し、縦軸は可動ステー
ジ位置、コイルベース位置、モータを流を概略的に示す
時刻t1において、可動ステージ7を駆動するために、
コイルに電流を流す、コイルに生じるローレンツ力によ
って、可動ステージは加速される。
コイル電流かパルス的に終了する場合、可動ステージは
加速によって得た一定の速度で運動を続ける。この定速
運動をする可動ステージを斧正させるには、コイルに逆
方向の力を発生させる電流を流せばよい、ところで、コ
イルと永久磁石との関係は連続的ではなく、飛び飛びに
なっている。このため、コイルと永久磁石の相対的位置
関係は位置決めの時、必すしも特性の良い状態にはない
第5図中段に示すように、可動ステージか運転を開飴し
、制動を働かせるまでの間の時間にコイルベースを変位
させることによって、コイルと永久磁石との関係を位置
決めに必要な最適の位置に配置することかできる。この
コイルベース位置の移動は、第1図に示すアクチュエー
タ11.12.13等によって行なえばよい。
なお、第4図に示すθZ力方向運動は、たとえばウェハ
チャック上へのウェハの受取りの際に生じる微小角変位
を補正するためのものであり、たとえば1度以内の運動
を行なう、このため、θ2方向の運動を行なってもコイ
ルと永久磁石との相対的な関係に大きな変化は生じない
第6図に、本発明の実施例による垂直ステージの構造を
概略的に示す。
図において、ウェハステージ16は、エア継手部17を
介して可動ステージ7を取付け、垂直方向に配置される
。可動ステージ7は底面と側面にエア継手部17のエア
ベアリングが形成され、その上には、前述の実施例のよ
うに、複数の永久磁石9か配置されている。この永久磁
石9と対向するように、コイルベース1の上には複数の
コイルか配置されており、さらにコイルの中間に複数の
エアバッド楕遺体が配置されて、コイル・エアパッド部
20を構成している。すなわち、可動ステージ7、その
上の永久磁石9およびコイル・エアパッド部20か2次
元モータ19を構成する。コイルベース1は、第2本体
ベース18の上に支持される。また、ウェハステージ1
6は、吸着式エアパッド21により、第1本体ベース2
7上に配置される。吸着式エアパッド21は、磁石を内
蔵し、磁性体上に吸着しつつ吹出すエアによって浮上す
るベアリングである。なお、可動ステージ7は、ウェハ
ステージ16との間に同様のエアベアリング、磁気結合
を有するエア継手部17によって支持されている。ウェ
ハステー:/16の右側表面上には、ウェハチャックに
よってウェハ22が載置される。このウェハ22と対向
する位置にマスク23が配置される。マスク23は微動
ステージ24上に載置され、第1本体ベース27に対し
て、積層圧電素子等のアクチュエータ25を介して支持
されている。
SOR装!装置のSOR光26は、図中右側から水平方
向に進行する。マスク23を通ることによってパターン
化されたSOR光は、ウェハ22上に形成されたレジス
ト層を感光させる。このようにして、半導体装1w遣プ
ロセスの露光工程が行なわれる。
なお、垂直ステージの場合、重力の影響を軽減させるた
め、ウェハステージ16の下面にはエアベアリング28
を介してカウンタフォースシリンダー29か結合されて
いる。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれ
らに制限されるものではない、たとえば、永久磁石を格
子状に配置し、コイルを所定のパターンで配置してもよ
い、他の配置を取ってもよい。
また、永久磁石とコイルのピッチはいずれを基準とし、
いずれを多相配置としてもよい。また、特に垂直ステー
ジを形成する場合を説明したか、水平ステージおよび任
意の角度のステージを形成することもできる。その他、
種々の変形、改良、組み合わせ等か可能なことは当業者
に自明であろう。
[発明の効果コ 以上説明したように、本発明によれば、永久磁石とヨー
クおよび高透磁率のコアを有するコイルを用いることに
より、高い磁束密度を得、少ない電流で大きな駆動力を
得、ステージを高精度に移動させることかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例によるステージ装置を概略的
に示す平面図、 第2図は、第1図のA−A′線に沿う断面図、第3図は
、第1図、第2図の実施例におけるコイル構造体の構成
を説明するための斜視図、第4図(A)、(B)、(C
)は、第1図、第2図のステージ装置の各方向への駆動
を説明するための概念図、 第5図は、ステージ装置の起動・停止の制御タイミング
を説明するためのグラフ、 第6図は、本発明の他の実施例による垂直ステージの構
成を概略的に示す断面図である。 図において、 1     コイルベース 2.4   Y用コイル 3     X用コイル 5     エアパッド構造体 6     給気路 7     可動ステージ 8      ヨーク 9     永久磁石 10     案内面部材 11、12、13 コイルベース駆動用アクチュエータ 14          コ  ア 15   磁路 特許出願人  住友重機械工業株式会社復代理人 弁理
士 高橋 敬四部 1、el(X) Of IA (A)Y方向            (B)X方向(
C)θ2方向              第4図第6

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、対象物を載置するためのステージ部材を、基準
    となる支持部材に対して相対的に所定面内で移動させる
    ステージ装置であって、 前記ステージ部材と前記支持部材の一方に取付けられ、
    前記所定面とほぼ垂直に磁束を発生させる複数の永久磁
    石とこれらの永久磁石を結合するヨークとの組合わせと
    、 前記ステージ部材と前記支持部材の他方に取付けられ、
    軸上に高透磁率材料のコアを有する複数の有心コイルと を有するステージ装置。
  2. (2)、請求項1記載のステージ装置であって、さらに
    、 前記複数の有心コイルの間および前記複数の永久磁石の
    間のいずれかに設けられた複数のエアベアリング を有するステージ装置。
  3. (3)、請求項2記載のステージ装置であって、前記複
    数の永久磁石はステージ部材裏面に配置されたヨーク上
    に格子状に配置され、前記複数の有心コイルは支持部材
    上に格子状に配置され、前記複数の有心コイルの間にエ
    アベアリングのエア吹出口が形成され、前記複数の永久
    磁石の間に永久磁石の面より突出してエアベアリングの
    エア受面が形成されている ステージ装置。
JP31323290A 1990-11-19 1990-11-19 ステージ装置 Pending JPH04183547A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31323290A JPH04183547A (ja) 1990-11-19 1990-11-19 ステージ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31323290A JPH04183547A (ja) 1990-11-19 1990-11-19 ステージ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04183547A true JPH04183547A (ja) 1992-06-30

Family

ID=18038704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31323290A Pending JPH04183547A (ja) 1990-11-19 1990-11-19 ステージ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04183547A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4639517B2 (ja) ステージ装置、リソグラフィーシステム、位置決め方法、及びステージ装置の駆動方法
US6452292B1 (en) Planar motor with linear coil arrays
JP3483452B2 (ja) ステージ装置および露光装置、ならびにデバイス製造方法
US6445093B1 (en) Planar motor with linear coil arrays
US4485339A (en) Electro-magnetic alignment device
EP0128433B1 (en) Electro-magnetic alignment apparatus
JPS607724A (ja) 電磁アラインメント装置
WO2000010242A1 (en) Compact planar motor having multiple degrees of freedom
US10084364B2 (en) Power minimizing controller for a stage assembly
TWI498187B (zh) 整體平台定位系統和方法
KR20110082519A (ko) 웨지 형상 자석들 및 대각선 자화 방향을 갖는 평면 모터
JP2002112526A (ja) 平面モータ、ステージ位置決めシステム、露光装置
JP3829335B2 (ja) 励磁ユニットおよびそれを用いた平面型モータ、およびそれを用いたステージ装置、およびそれを用いた露光装置
JPH03178747A (ja) 2次元モータ式ステージ装置
JP2960768B2 (ja) リニアモータ
JP2015073083A (ja) ステージ装置、およびその駆動方法
JP3216157B2 (ja) 精密1段6自由度ステージ
JP2716884B2 (ja) 平面モータ装置
JP3639681B2 (ja) ステージ装置およびこれを用いた露光装置
KR20060055306A (ko) 평면 스테이지
JPH04183547A (ja) ステージ装置
US6515381B1 (en) Cantilever stage
US20090290138A1 (en) Pulse motor, positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP3262791B2 (ja) ステージ装置
JP2879934B2 (ja) ステージ装置