JPS607724A - 電磁アラインメント装置 - Google Patents
電磁アラインメント装置Info
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- JPS607724A JPS607724A JP59118398A JP11839884A JPS607724A JP S607724 A JPS607724 A JP S607724A JP 59118398 A JP59118398 A JP 59118398A JP 11839884 A JP11839884 A JP 11839884A JP S607724 A JPS607724 A JP S607724A
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- Japan
- Prior art keywords
- magnetic circuit
- coil assembly
- alignment device
- current passing
- coil
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
- H02K41/031—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K2201/00—Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
- H02K2201/18—Machines moving with multiple degrees of freedom
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は整列装置に、さらに特定化すれば、他の可能な
用途がやる中でも特に、マイクロリトグラフィー装置に
おけるウェファの整列に用いられる電磁整列装置に関す
るものである。
用途がやる中でも特に、マイクロリトグラフィー装置に
おけるウェファの整列に用いられる電磁整列装置に関す
るものである。
本出願は、これと同日付けで出1頭された、「電磁整列
装置」との名称の同一出願人の出1幀に密接に関連して
いる。その出’1ifiでの開示は参考として本明細書
中に包合さルている。
装置」との名称の同一出願人の出1幀に密接に関連して
いる。その出’1ifiでの開示は参考として本明細書
中に包合さルている。
−1没的には、ある物体を平面的な動きによって規定さ
れる自由な6方向に移動させるには、6つの独立した直
線および/または回転モーターを使用することが必要で
あり、それらは他に関して連続的に縦続して設けられた
複数の段階のうちの単一の軸に関する段階を駆動するも
のである。このことは、異る方向に移動する大きな質准
ヲ支持している多数のベアリングを持つ一群の器具を必
要とし、各ベアリスグは望ましくないコンプライアンス
を持っている。これは共振、摩擦、バックラッシュおよ
び移動の不正確さ等をもたらす。
れる自由な6方向に移動させるには、6つの独立した直
線および/または回転モーターを使用することが必要で
あり、それらは他に関して連続的に縦続して設けられた
複数の段階のうちの単一の軸に関する段階を駆動するも
のである。このことは、異る方向に移動する大きな質准
ヲ支持している多数のベアリングを持つ一群の器具を必
要とし、各ベアリスグは望ましくないコンプライアンス
を持っている。これは共振、摩擦、バックラッシュおよ
び移動の不正確さ等をもたらす。
発明が解決しようとする問題点
望まれるよりもさらに低い最低共振モード周波数は、高
度の正確さを持つサーボ制御を難しくする。
度の正確さを持つサーボ制御を難しくする。
このため、本発明の第1の目的は新しい、また改善され
た整列装置を提供することであって、それはこの後の説
明によって明らかとなるであろう。
た整列装置を提供することであって、それはこの後の説
明によって明らかとなるであろう。
問題点を解決するだめの手段
望ましい結果を達成するために、本発明においては、第
1磁石素子を含む複数の素子を持つ第1磁気回路と、第
2磁石素子を含む複数の素子を持つ第2磁気回路とを有
し、前記第2磁気回路は第1磁気回路に関して隔てられ
て設けられている。可動構成要素が包含されてお9、可
動構成要素上の物質、例えば、マイクロリトグラフィ装
置に用いられる型のウェファ、を載せるための装置が準
備されている。各磁気回路の1つの素子は可動構成要素
に固定的に取付けられている。第1電流通過コイル組立
体は第1磁気回路内に設けられ、また第2電流通過コイ
ル組立体もまた第1磁気回路内に、第1コイル組立体に
関しである角度をもって、設けられる。第6電流通過コ
イル組立体は第2磁気回路中に収められ、まだ第4電流
通過コイル組立体もまだ、第2磁気回路中に、第6コイ
ル組立体に関しである角度をもって、設けられる。制御
装置は、コイル組立体のそれぞれを通過する電流の流れ
と方向を制御するように配置される。本発明の1つの実
施例では、可動構成要素に取付けられている各磁気回路
の1つの素子は、それぞれの回路の磁石素子である。
1磁石素子を含む複数の素子を持つ第1磁気回路と、第
2磁石素子を含む複数の素子を持つ第2磁気回路とを有
し、前記第2磁気回路は第1磁気回路に関して隔てられ
て設けられている。可動構成要素が包含されてお9、可
動構成要素上の物質、例えば、マイクロリトグラフィ装
置に用いられる型のウェファ、を載せるための装置が準
備されている。各磁気回路の1つの素子は可動構成要素
に固定的に取付けられている。第1電流通過コイル組立
体は第1磁気回路内に設けられ、また第2電流通過コイ
ル組立体もまた第1磁気回路内に、第1コイル組立体に
関しである角度をもって、設けられる。第6電流通過コ
イル組立体は第2磁気回路中に収められ、まだ第4電流
通過コイル組立体もまだ、第2磁気回路中に、第6コイ
ル組立体に関しである角度をもって、設けられる。制御
装置は、コイル組立体のそれぞれを通過する電流の流れ
と方向を制御するように配置される。本発明の1つの実
施例では、可動構成要素に取付けられている各磁気回路
の1つの素子は、それぞれの回路の磁石素子である。
本発明の1つの態様においでは、第1および第2電流通
過コイル組立体は、互いに他に対して実質的に直交する
ように巻かれ、また第6および第4コイル組立体も互い
に他に対して実質的に直交するように巻かれる。第、1
および第6コイル組立体は、互いに他に対して実質的に
平行するように巻かれ、また第2および第4コイル組立
体も互いに他に対して平行するように巻かれる。
過コイル組立体は、互いに他に対して実質的に直交する
ように巻かれ、また第6および第4コイル組立体も互い
に他に対して実質的に直交するように巻かれる。第、1
および第6コイル組立体は、互いに他に対して実質的に
平行するように巻かれ、また第2および第4コイル組立
体も互いに他に対して平行するように巻かれる。
本発明の別の態様によれば、複数のセンサー装置が可動
構成要素の位置を感知するために設けられ、また前記セ
ンサー装置は制御装置の1つの入力として働く。
構成要素の位置を感知するために設けられ、また前記セ
ンサー装置は制御装置の1つの入力として働く。
こうして、本発明のより重要な特長全広く概説したのは
、後述の本発明の詳細な説明がより良く理解されるため
であり、まだ技術に対する本発明の貢献がより明らかと
なるためである。
、後述の本発明の詳細な説明がより良く理解されるため
であり、まだ技術に対する本発明の貢献がより明らかと
なるためである。
もちろん、本発明の付加的特長はこの後に十分に説明さ
れる。当業技術に通じている者は、この開示の基となっ
ている概念が、本発明のいくつかの目的を達するだめの
他の装置の設計の基礎としても容易に使用できるもので
あることを理解するであろう。そのため、この開示は本
発明の精神や視点から離れることのない、そのような等
価装置をも包含するものと見なすことは大切である。
れる。当業技術に通じている者は、この開示の基となっ
ている概念が、本発明のいくつかの目的を達するだめの
他の装置の設計の基礎としても容易に使用できるもので
あることを理解するであろう。そのため、この開示は本
発明の精神や視点から離れることのない、そのような等
価装置をも包含するものと見なすことは大切である。
本発明のいくつかの実施例が例証および説明の目的で選
択され、またこの明細の1部を構成する添付図面中に示
されている。
択され、またこの明細の1部を構成する添付図面中に示
されている。
第1図に示されている本発明の実施例中では、電磁整列
装置は、12で示される第1電磁回路を形成する、第1
磁石素子10を含む第1の複数の素子と、16で示され
る第2磁気回路を形成する、第2磁石素子14を含む第
2の複数の素子と、18で示される可動構成要素とを有
している。この可動構成要素18は、その上に例えばウ
ェファ20のような目的物を載せるだめの装置を有して
いる。
装置は、12で示される第1電磁回路を形成する、第1
磁石素子10を含む第1の複数の素子と、16で示され
る第2磁気回路を形成する、第2磁石素子14を含む第
2の複数の素子と、18で示される可動構成要素とを有
している。この可動構成要素18は、その上に例えばウ
ェファ20のような目的物を載せるだめの装置を有して
いる。
第1磁気回路12を形成するだめの第1の複数の素子は
、鉄の上方プレート22と、鉄の底プレート24および
、第1図の実施例中では第1磁石素子10であるような
サイドプレートとを有している。この磁石素子10は強
力な永久磁石であり、また上方および底プレートを接続
するためにも働く。
、鉄の上方プレート22と、鉄の底プレート24および
、第1図の実施例中では第1磁石素子10であるような
サイドプレートとを有している。この磁石素子10は強
力な永久磁石であり、また上方および底プレートを接続
するためにも働く。
第2磁気回路16を形成するだめの第2の複数の素子は
、鉄の上方プレート26と、鉄の底プレート28および
、第1図の実施例中では第2磁石素子14であるような
サイドプレートとを有している。磁石素子10と同様、
この磁石素子14は強力な永久磁石でおり、また上方お
よび底プレートを接続するためにも働く。
、鉄の上方プレート26と、鉄の底プレート28および
、第1図の実施例中では第2磁石素子14であるような
サイドプレートとを有している。磁石素子10と同様、
この磁石素子14は強力な永久磁石でおり、また上方お
よび底プレートを接続するためにも働く。
第1磁気回路12 &) 1つの素子は可動構成要素1
8に固定的に取付けられている。第1図の実施例におい
ては、この1つの素子は鉄のスラグ30であり、これは
上方プレート22および底プレート240間で可動でき
る。同様に、第2磁気回路16の1つの素子は、第1図
の実施例では上方プレート26および底プレート28の
間で可動する鉄のスラグ32であるような可動構成要素
18に固定的に取付けられている。
8に固定的に取付けられている。第1図の実施例におい
ては、この1つの素子は鉄のスラグ30であり、これは
上方プレート22および底プレート240間で可動でき
る。同様に、第2磁気回路16の1つの素子は、第1図
の実施例では上方プレート26および底プレート28の
間で可動する鉄のスラグ32であるような可動構成要素
18に固定的に取付けられている。
第1磁気回路12は第1覗流通過コイル組立体34と、
第1コイル組立体に関しである角度をなして設けられる
第2電流通過コイル組立体36とを有している。第1図
の実施例においては、これら2つの電流通過コイル組立
体は互いに対して直交するよう設けられている。
第1コイル組立体に関しである角度をなして設けられる
第2電流通過コイル組立体36とを有している。第1図
の実施例においては、これら2つの電流通過コイル組立
体は互いに対して直交するよう設けられている。
同様な方法によって、第2磁気回路16はコイル組立体
34に平行な第6電流通過コイル組立体38と、第6コ
イル組立体に関しである角度をなして設けられる第4電
流通過コイル組立体4Qとを有している。この実施例で
はコイル組立体38はコイル組立体40に関して直交し
て設けられている。
34に平行な第6電流通過コイル組立体38と、第6コ
イル組立体に関しである角度をなして設けられる第4電
流通過コイル組立体4Qとを有している。この実施例で
はコイル組立体38はコイル組立体40に関して直交し
て設けられている。
ある実施例においては、各磁気回路の2つの電流通過コ
イル組立体は必要な動的な力を発輝するのに十分である
が、別の実施例では付加的な電流通過コイル組立体が必
要である。第1図では、第1磁気回路12において、コ
イル組立体34に平行な第5電流通過コイル組立体42
と、コイル組立体36に平行でまたコイル組立体42に
垂直な第6電流通過コイル組立体44とが示されている
。第22B&気回路16においては、第7電流通過コイ
ル組立体46がコイル組立体38に平行に設けられ、ま
た・第8電流通過コイル組立体48がコイル組立体40
に平行にまたコイル組立体46に垂直に設けられている
。
イル組立体は必要な動的な力を発輝するのに十分である
が、別の実施例では付加的な電流通過コイル組立体が必
要である。第1図では、第1磁気回路12において、コ
イル組立体34に平行な第5電流通過コイル組立体42
と、コイル組立体36に平行でまたコイル組立体42に
垂直な第6電流通過コイル組立体44とが示されている
。第22B&気回路16においては、第7電流通過コイ
ル組立体46がコイル組立体38に平行に設けられ、ま
た・第8電流通過コイル組立体48がコイル組立体40
に平行にまたコイル組立体46に垂直に設けられている
。
第1コイル組立体34には、第1リード51]と第2リ
ード52とが設けられており、第2から第8コイル組立
体にはリード54 、56 。
ード52とが設けられており、第2から第8コイル組立
体にはリード54 、56 。
58.60,62,64,66.68,70゜7 ’l
、 74 、76 、γ8および80が設けられてい
る。それぞれのリードに供給される電流は、後にさらに
十分説明される制御装置82によって制御される。
、 74 、76 、γ8および80が設けられてい
る。それぞれのリードに供給される電流は、後にさらに
十分説明される制御装置82によって制御される。
可動構成要素18は、例えば鉄プレート30と底プレー
ト24との間に設けられるエアベアリングおよび鉄プレ
ート32と底プレート28との間に設けられるエアベア
リングのような、適当なあらゆる型のベアリング装置に
よって、第1および第2磁気回路12および16に関し
て動くことができるよう取付けられている。
ト24との間に設けられるエアベアリングおよび鉄プレ
ート32と底プレート28との間に設けられるエアベア
リングのような、適当なあらゆる型のベアリング装置に
よって、第1および第2磁気回路12および16に関し
て動くことができるよう取付けられている。
エアは、この目的のために設けられたパイプ装置84に
よってエアベアリングに供給される。
よってエアベアリングに供給される。
ある実施例においては、可動構成要素18は86で示さ
れるように、最小質量で構造強度を確保するためアルミ
ニウムのノ・ニカム構造として製作することが望ましい
こともある。
れるように、最小質量で構造強度を確保するためアルミ
ニウムのノ・ニカム構造として製作することが望ましい
こともある。
さらに第1図を参照する゛と、適当なあらゆる型のセン
サーが、可動構成要素18上に載せられた目的物または
ウェファ20の位置を感知するために用いられる。こう
して、センサー88はX方向の位置を感知し、センサー
90はY方向、またセンサー92はθ方向を感知する。
サーが、可動構成要素18上に載せられた目的物または
ウェファ20の位置を感知するために用いられる。こう
して、センサー88はX方向の位置を感知し、センサー
90はY方向、またセンサー92はθ方向を感知する。
これらのセンサーは、コントローラ82の人力を提供す
る。
る。
動作においては、第1磁気回路12は磁石10から出て
、底プレート24、スラグ30、上方プレート22を通
って磁石10に戻る路を通る磁束を有している。コイル
34と36とはスラグ30と上方プレート22との間の
ギャップを通過し、1方コイル42と44とは、もし使
用されるなら、スラグ30と底プレート24との間のギ
ャップを通過する。
、底プレート24、スラグ30、上方プレート22を通
って磁石10に戻る路を通る磁束を有している。コイル
34と36とはスラグ30と上方プレート22との間の
ギャップを通過し、1方コイル42と44とは、もし使
用されるなら、スラグ30と底プレート24との間のギ
ャップを通過する。
同様に、第2磁気回路16は磁石14から出て上方プレ
ート26、スラグ32、および底プレート28を通って
磁石14に戻る路を通る磁束を有している。コイル38
と40はスラグ32と上方プレート26との間のギャッ
プを通過し、1方コイル46と48は、もし使用される
なら、スラグ32と底プレート28との間のギャップを
通過する。
ート26、スラグ32、および底プレート28を通って
磁石14に戻る路を通る磁束を有している。コイル38
と40はスラグ32と上方プレート26との間のギャッ
プを通過し、1方コイル46と48は、もし使用される
なら、スラグ32と底プレート28との間のギャップを
通過する。
前述の磁束はギャップを橋絡しており、コイルを通過す
る電流によってそれら部分で磁束を変化させることによ
り、可動構成要素18上に様々な力を生じさせる。コイ
ルがX軸に平行に巻かれている時、34.38およびも
し使用されていれば42.46が励磁されると、可動構
成要素18はY軸に病った力を受ける。それらコイルの
中の電流が反転すると、可動構成要素およびウェファ2
0とはY軸に沿って反対方向に動く。スラグ30とスラ
グ32という、モーメントアームによって離されている
2つの素子が力を受けるため、Y方向におけるそれら素
子の異なる力はX軸に関するトルクとなる。即ち、もし
コイル34および使用されていれば42が1つの方向に
励磁され、またコイル38および使用されていれば46
が反対方向に励磁されれば、ウェファ20は回転する。
る電流によってそれら部分で磁束を変化させることによ
り、可動構成要素18上に様々な力を生じさせる。コイ
ルがX軸に平行に巻かれている時、34.38およびも
し使用されていれば42.46が励磁されると、可動構
成要素18はY軸に病った力を受ける。それらコイルの
中の電流が反転すると、可動構成要素およびウェファ2
0とはY軸に沿って反対方向に動く。スラグ30とスラ
グ32という、モーメントアームによって離されている
2つの素子が力を受けるため、Y方向におけるそれら素
子の異なる力はX軸に関するトルクとなる。即ち、もし
コイル34および使用されていれば42が1つの方向に
励磁され、またコイル38および使用されていれば46
が反対方向に励磁されれば、ウェファ20は回転する。
Y軸に平行なコイルの励磁は、コイル26,40、もし
使用されていれば44および48にX軸に沿った力を生
じさせる。コイルの中の電流が反転すると、ウェファ2
0はX軸に活って反対方向に移動する。
使用されていれば44および48にX軸に沿った力を生
じさせる。コイルの中の電流が反転すると、ウェファ2
0はX軸に活って反対方向に移動する。
上に述べた力や移動はニュートンの第6の法則、即ち「
総ての力は、等しくまた反対の力(または反作用)を有
する」によって説明できる。
総ての力は、等しくまた反対の力(または反作用)を有
する」によって説明できる。
線が磁界内にある時は線を流れる電流は線上に横方向の
力を加える。「反作用力」は磁界を運ぶボールぎ一ス中
に発生する。この瞬間に、第1磁気回路内の固定された
素子’10.22′J3−よび24ならびに第2磁気回
路内の素子14,26および8Bは動けないので、スラ
グ30と32とが動くよう力を受ける。もちろん、それ
らは可動構成要素18をウェファ20と共に移動させる
。
力を加える。「反作用力」は磁界を運ぶボールぎ一ス中
に発生する。この瞬間に、第1磁気回路内の固定された
素子’10.22′J3−よび24ならびに第2磁気回
路内の素子14,26および8Bは動けないので、スラ
グ30と32とが動くよう力を受ける。もちろん、それ
らは可動構成要素18をウェファ20と共に移動させる
。
コントローラ82は、適当なあらゆる型であってよい。
例えば、それは特定な位置に可動構成要素18と、従っ
てウェファ20とを動かすだめに方向づけをするコマン
ドが、手動的にまたはマイクロプロセッサ−によって、
これ全通して与えられる入力94を持っていてもよい。
てウェファ20とを動かすだめに方向づけをするコマン
ドが、手動的にまたはマイクロプロセッサ−によって、
これ全通して与えられる入力94を持っていてもよい。
センサー88.90および92は実際のウェファ位置を
感知し、コマンドで与えられた位置からこれが相違して
いれば、電流が適切なリード50 、52.54.56
、58 、60.62 。
感知し、コマンドで与えられた位置からこれが相違して
いれば、電流が適切なリード50 、52.54.56
、58 、60.62 。
64.66.68.70,72.γ4,76゜78およ
び80のうちの1つまたはそれ以上を通してコイルに供
給される。実際の位置がコマンドで与えられた位置に達
すると、電流の供給は終了し、またウェファは静止位置
にとどまる。
び80のうちの1つまたはそれ以上を通してコイルに供
給される。実際の位置がコマンドで与えられた位置に達
すると、電流の供給は終了し、またウェファは静止位置
にとどまる。
第2図の実施例を次に参照す・ると、類似の素子はフ0
ライム符号を付した同一の参照番号によって表わされて
いる。
ライム符号を付した同一の参照番号によって表わされて
いる。
第1図および第2図の実施例の間の構造的差異は磁気回
路中の磁石の位置に存在する。即ち、第1磁気回路にお
いては、第1図の磁石10は第2図において鉄のサイド
プレート96に置換さ瓦ている。この固定されている素
子は、上方プレート22′と底プレート24′を結合さ
せる働きをし、また第1磁気回路の磁束路の1部全形成
する。第2図の実施例においては、磁石98それ自体は
、第1磁気回路12′の1つの素子であり1.可動構成
要素18′に固定的に取付られている。結果として、磁
石98は上方プレート22′と底プレート24′との間
で可動する。
路中の磁石の位置に存在する。即ち、第1磁気回路にお
いては、第1図の磁石10は第2図において鉄のサイド
プレート96に置換さ瓦ている。この固定されている素
子は、上方プレート22′と底プレート24′を結合さ
せる働きをし、また第1磁気回路の磁束路の1部全形成
する。第2図の実施例においては、磁石98それ自体は
、第1磁気回路12′の1つの素子であり1.可動構成
要素18′に固定的に取付られている。結果として、磁
石98は上方プレート22′と底プレート24′との間
で可動する。
第2磁気回路においては、第2図の実施例における鉄の
サイドプレート100は第1図の磁石14を置換したも
のでめり、また第2図の磁石102は第1図の鉄プレー
ト32を置換したものである。
サイドプレート100は第1図の磁石14を置換したも
のでめり、また第2図の磁石102は第1図の鉄プレー
ト32を置換したものである。
他の点においては、第2図の装置は第1図のそれと類似
に構成されている。両方の実施例とも同様の方法で制御
されまた動作される。
に構成されている。両方の実施例とも同様の方法で制御
されまた動作される。
本発明が、同様装置の従来技術に比し、より低い振動と
著しい単純さをもつ、より高精度の改善された電磁整列
装置を実際に提供するものであることは理解できるであ
ろう。ここには、自由な6方向における制御される動き
が単独の移動部分で達成されるために、実質的に無バッ
クラッシュと極めて低い摩擦とが実現される。
著しい単純さをもつ、より高精度の改善された電磁整列
装置を実際に提供するものであることは理解できるであ
ろう。ここには、自由な6方向における制御される動き
が単独の移動部分で達成されるために、実質的に無バッ
クラッシュと極めて低い摩擦とが実現される。
装置の最低共振周波数は極めて高い。極めて萬いサーボ
帯域幅が用いられ、結果として良好な制御と高精度が得
られる。
帯域幅が用いられ、結果として良好な制御と高精度が得
られる。
本発明のある特定の実施例が説明のために開示されては
いるが、本明細を調べることにより、本発明のさらに別
の変形が、本発明に関連する当業技例者には明らかとな
るであろう。結果として、本発明の観点を決定する特許
請求の範囲が基準とされるべきである。
いるが、本明細を調べることにより、本発明のさらに別
の変形が、本発明に関連する当業技例者には明らかとな
るであろう。結果として、本発明の観点を決定する特許
請求の範囲が基準とされるべきである。
発明の効果
本願明細書中に記載したような、高度の正確さをもつサ
ーボ制御の困難性などの従来技術の欠点を克服できると
いう効果が得られる。
ーボ制御の困難性などの従来技術の欠点を克服できると
いう効果が得られる。
第1図は本発明の概念によって構成した電磁整列装置の
1つの実施例企示す見取図であり、また第2図は第1図
と類似であるが本発明の他の実施例を示す見取図である
。 10・・・第1磁石素、子 12 、12’・・・第1
磁気回路 14・・・第2磁石素子 14・・・第2磁
石素子16 、16’・・・第2磁気回路 18 、1
8’・・・可動構成要素 20 、20’・・・ウェフ
ァ 22.22′・・・上方プレー) 24.24’・
・・底プレート2G、26′・・・上方プレート 28
.28’・・・底プレート 30.32・・・スラグ
34〜48,34′〜48′・・・コイル組立体 50
〜80 、50’〜80′・・・リード 82 、82
’・・・制御装置 84゜84′・・・エアパイプ 8
6 、86’・・・ハニカム構造88.88’、90.
90’、92.92’・・・センサー 94 、94’
・・・入力 9G・・・サイドプレート 98・・・磁
石 100・・・サイドプレート 102・・・磁石
1つの実施例企示す見取図であり、また第2図は第1図
と類似であるが本発明の他の実施例を示す見取図である
。 10・・・第1磁石素、子 12 、12’・・・第1
磁気回路 14・・・第2磁石素子 14・・・第2磁
石素子16 、16’・・・第2磁気回路 18 、1
8’・・・可動構成要素 20 、20’・・・ウェフ
ァ 22.22′・・・上方プレー) 24.24’・
・・底プレート2G、26′・・・上方プレート 28
.28’・・・底プレート 30.32・・・スラグ
34〜48,34′〜48′・・・コイル組立体 50
〜80 、50’〜80′・・・リード 82 、82
’・・・制御装置 84゜84′・・・エアパイプ 8
6 、86’・・・ハニカム構造88.88’、90.
90’、92.92’・・・センサー 94 、94’
・・・入力 9G・・・サイドプレート 98・・・磁
石 100・・・サイドプレート 102・・・磁石
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 電磁整列装置において、 第1磁石素子を含む複数の素子を持つ第1磁気回路と、 前記第1磁気回路に関して隔てられて設けられている第
2磁石素子を含む複数の素子を持つ第2磁気回路と、 可動構成要素と、 前記要素上に目的物を載せるための装置とを有し、 各磁気回路の1つの素子が前記可動構成要素に固定的に
取付けられており、 さらに、前記第1磁気回路中に設けられた第1電流通過
コイル組立体と、 前記第2磁気回路中に設けられた第2電流通過コイル組
立体とを有し、 前記第1および第2コイル組立体は互いに他に対しであ
る角度をもって取付られており、さらに、前記第2磁気
回路中に設けられた第6電流通過コイル組立体と、 前記第2磁気回路中に設けられた第4電流通過コイル組
立体とを有し、 前記第6および第4コイール組立体は互いに他に対しで
ある角度をもって取付られており、さらに、前記コイル
組立体のそれぞれを通る電流の量と方向を制御するだめ
の制御装置を有することを特徴とする、電磁整列装置。 2、各磁気回路の前記1つの素子が、それぞれの回路の
磁石素子であるような、特許請求の範囲第1項記載の電
磁整列装置。 6、 前記第1および第2電流通過・コイル組立体が互
いに他に関して実質的に直交するように巻かれ、まだ前
記第6および第4コイル組立体が互いに他に関して実質
的に直交するように巻かれているような、特許請求の範
囲第1項記載の電磁整列装置。 4、 前記第1および第3コイル組立体が互いに他に関
して実質的に平行に巻かれ、また前記第2および第4コ
イル組立体が互いに他に関して実質的に平行に巻かれて
いるような、特許請求の範囲第1項記載の電磁整列装置
。 5、 前記第1磁気回路内に、前記第1コイル組立体に
関して隔てられて、また実質的にそれと平行に設けられ
た第5電流通過コイル組立体と、 前記第1磁気回路内に、前記第2コイル組立体に関して
隔てられて、また実質的にそれと平行に設けられた第6
電流通過コイル組立体と、 前記第2磁気回路内に、前記第6コイル組立体に関して
隔てられて、また実質的にそれと平行に設けられた第7
電流通過コイル組立体と、 前記第2磁気回路内に、前記第4コイル組介関して隔て
られて、また実質的にそれと平行に設けられた第8電流
通過コイル組立体とを、さらに有するような、特許請求
の範囲第1項記載の電磁整列装置。 6、 前記装置がさらに、前記可動構成要素の位置を感
知するだめの複数のセンサー装置を有しており、前記セ
ンサー装置が前記制御装置への入力を提供するような、
特許請求の範囲第1項記載の電磁整列装置。 Z 前記磁気回路を形成する前記複数の素子のそれぞれ
が、上方プレートと、 前記上方プレートから隔てられた底プレート と 、 上方プレートおよび底プレー)k相互的に連結するサイ
ドプレートとを有し、各磁気回路の前記1つの素子が前
記上方および底プレートの間に設けられているよう、な
、特許請求の範囲第1項記載の電磁整列装置。 8、 各磁気回路の前記1つの素子がそれぞれの回路の
磁石素子であるような、特許請求の範囲第7項記載の電
磁整列装置。 9、 前記第1および第2コイル組立体が前記第1磁気
回路において前記上方プレートの周りに巻かれ、また第
6および第4コイル組立体が前記第2磁気回路において
上方プレートの周りに巻かれているような、特許請求の
範囲第7項記載の電磁整列装置。 10、前記第5および第6コイル組立体が、前記第1磁
気回路において定プレートの周りに巻かれ、第7および
第8コイル組立体が前記第2磁気回路において底プレー
トの周りに巻かれているような、特許請求の範囲第9項
記載の電磁整列装置。 11、可動構成要素および各磁気回路の前記1つの素子
が磁気回路中に固定されている素子によって、流体フィ
ルムベアリングを介して支持されているような、特許請
求の範囲第1項記載の電磁整列装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US502995 | 1983-06-10 | ||
| US06/502,995 US4507597A (en) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | Electro-magnetic alignment assemblies |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS607724A true JPS607724A (ja) | 1985-01-16 |
| JPH0586845B2 JPH0586845B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=24000327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59118398A Granted JPS607724A (ja) | 1983-06-10 | 1984-06-11 | 電磁アラインメント装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4507597A (ja) |
| EP (1) | EP0130357B1 (ja) |
| JP (1) | JPS607724A (ja) |
| CA (1) | CA1217223A (ja) |
| DE (1) | DE3470234D1 (ja) |
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| JP2014140049A (ja) * | 1998-09-18 | 2014-07-31 | Gsi Group Corp | 高速精密位置決め装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |