JP3456308B2 - 磁気浮上型ステージ - Google Patents

磁気浮上型ステージ

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JP3456308B2
JP3456308B2 JP16634395A JP16634395A JP3456308B2 JP 3456308 B2 JP3456308 B2 JP 3456308B2 JP 16634395 A JP16634395 A JP 16634395A JP 16634395 A JP16634395 A JP 16634395A JP 3456308 B2 JP3456308 B2 JP 3456308B2
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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  • Non-Mechanical Conveyors (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置や、光
電子分光装置、X線顕微鏡、電子顕微鏡に代表される試
料解析装置などに用いる位置決めステージに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体露光装置で露光する際には、ウエ
ハをX、Y、Z、α(ピッチング)、β(ローリン
グ)、θ(ヨーイング)の6自由度で精密に位置決めす
る必要がある。また、光電子分光装置、X線顕微鏡、電
子顕微鏡は解析試料を同様に6自由度で位置決めする必
要がある。従来、この分野では、1軸駆動、2軸駆動ま
たは3軸駆動のステージを必要に応じて組合せて段重ね
にし、6軸のステージとして使用している。このステー
ジはボールねじ、遊星ねじ、リニアねじ、てこなどのリ
ンク機構と、歯車などの駆動・減速機構と、クロスロー
ラガイド、V−フラット溝滑りガイドなどの摩擦軸受け
を適宜組合せて所望の位置決め精度を達成するようにし
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ステージはステージ全体の体積が大きくなり軽量化が困
難である。したがって移動ステージの慣性力が大きくな
り駆動の高速化が妨げられるとともに位置決め精度を高
めることも難しい。また、固定ステージと移動ステージ
の間に機械的接触面を有するため、移動機構からの発塵
によりステージの置かれた雰囲気のクリーン度を低下さ
せる。さらに、接触面に潤滑剤を使用するため、高真空
中の使用時には真空度を低下させるという問題点があ
る。
【0004】ステージの非接触駆動を実現させるために
エアーベアリングにより移動ステージを浮上させリニア
モータにより駆動することもできるが、エアーベアリン
グのエアーが塵を舞上げるのでクリーン度を低下させ、
例えば半導体工程での歩留りを悪化させる。また、エア
ーを利用するため真空中での使用は原理的に不可能であ
る。
【0005】本発明の目的は、移動ステージを軽量化し
て移動ステージの高速駆動および高精度な位置決めを可
能とするとともに、クリーン度を低下させず、真空中で
も使用可能な磁気浮上型ステージを提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、直交座標系の3軸をX、Y、Zとし、各軸回りの回転
角をα、β、θで表すとき、固定ステージ1と、固定ス
テージ1に沿ってXY平面内の任意の位置に駆動される移
動ステージ4とを有する磁気浮上型ステージにおいて、
移動ステージ4および固定ステージ1のいずれか一方の
ステージに設けた第1の磁石群5a、5b、5c、5d、5
e、5fと他方のステージに設けた第1の電磁石群2a、
2b、2c、2d、2e、2fとの間の反発力及び吸引力に
より移動ステージ4にZ方向の移動力、およびα方向、
β方向の回転力を付与し、第1の磁石群5a、5b、5
c、5d、5e、5fのうち吸引力を発生する第2の磁石群
5b、5c、5eと、第1の電磁石群2a、2b、2c、2
d、2e、2fのうち第2の磁石群5b、5c、5eと対向す
る第2の電磁石群2b、2c、2eとの間に作られた磁束
中で第2の電磁石群2b、2c、2eに設けた電線に流す
横断電流I5、I6により移動ステージ4にX方向、Y方向
の移動力およびθ方向の回転力を付与している。請求項
2に記載の発明は、第2の電磁石群2b、2c、2eの各電
磁石はZ方向の軸を中心に巻き回された第1のコイル23
b、23c、23eと、XまたはY方向の軸を中心に巻き回
された第2のコイル22b、22c、22eとを備え、第2
のコイル22b、22c、22eには横断電流I5、I6が
流されている。請求項3に記載の発明は、請求項1に記
載の磁気浮上型ステージにおいて、第2の電磁石群2の
各電磁石はZ方向の軸を中心に巻き回された第1のコイル
123と、XまたはY方向の軸を中心に巻き回された第2
のコイル124と、Z方向および第2のコイル124の軸
方向の双方と直交する軸を中心に巻き回された第3のコ
イル125とを備え、第2のコイル124および/または
第3のコイル125には横断電流I5、I6、I7が流され
ている。請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいず
れか1項に記載の磁気浮上型ステージにおいて、移動ス
テージ4が固定ステージ1の上で駆動され、第1の磁石
群には吸引力のみを生じさせる磁石5e'が含まれてい
る。請求項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれか
1項に記載の磁気浮上型ステージにおいて、移動ステー
ジ4または固定ステージ1に取付けられ移動ステージ4
のZ方向の移動量およびα方向、β方向の回転量に応じ
た計測値を出力する第1の計測手段6と、第1の計測手段
6からの計測値を受けて第1の電磁石群2a、2b、2
c、2d、2e、2fに流す電流を制御する第1の制御手段
30とを備えている。請求項6に記載の発明は、請求項
1〜5のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステージにお
いて、移動ステージ4のX方向、Y方向の移動量およびθ
方向の回転量に応じた計測値を出力する第2の計測手段
7と、第2の計測手段7からの計測値を受けて横断電流I
5、I6および/または第2の電磁石群2b、2c、2eの電
流を制御する第2の制御手段30とを備えるものであ
る。請求項7に記載の発明は、請求項1〜5のいずれか
1項に記載の磁気浮上型ステージにおいて、移動ステー
ジ4のX方向、Y方向の移動量およびθ方向の回転量に応
じた計測値を出力する第2の計測手段3、7と、第2の計
測手段3、7からの計測値を受けて固定ステージ1また
は移動ステージ4に取付けられた電磁石のうち第1の電
磁石群2a、2b、2c、2d、2e、2fとして用いる電磁
石を選択するとともに選択された各電磁石の電流の方向
を設定する第2の制御手段30を備えている。請求項8
に記載の発明は、請求項7に記載の磁気浮上型ステージ
において、第2の計測手段が固定ステージ1または移動
ステージ4に取付けられたホール素子3である。請求項
9に記載の発明は、請求項1〜5のいずれか1項に記載
の磁気浮上型ステージにおいて、移動ステージ4のX方
向、Y方向の移動量およびθ方向の回転量に応じた計測
値を出力する第2の計測手段3、7と、第2の計測手段
3、7からの計測値を受けて固定ステージ1または移動
ステージ4に取付けられた電磁石のうち第2の電磁石群
2b、2c、2eとして用いる電磁石を選択するとともに
選択された各電磁石の電流の方向を設定する第2の制御
手段30を備えている。請求項10に記載の発明は、請
求項9に記載の磁気浮上型ステージにおいて、第2の計
測手段が固定ステージ1または移動ステージ4に取付け
られたホール素子である。請求項11に記載の発明は、
請求項1〜10のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステ
ージにおいて、第1の磁石群5a、5b、5c、5d、5e、
5f、第2の磁石群5b、5c、5e、第1の電磁石群2a、
2b、2c、2d、2e、2f、または第2の電磁石群2b、
2c、2eは超伝導材料を用いたものである。請求項12
に記載の発明は、請求項1〜11のいずれか1項に記載
の磁気浮上型ステージにおいて、一方のステージが移動
ステージ4であり、他方のステージが固定ステージ1で
ある。請求項13に記載の発明は、請求項2に記載の磁
気浮上型ステージにおいて、第1のコイル23と第2のコ
イル22とが共通のコア21に対して巻き回されてい
る。請求項14に記載の発明は、請求項3に記載の磁気
浮上型ステージにおいて、第1のコイル123と第2のコ
イル124と第3のコイル125とが共通のコア121
に対して巻き回されている。請求項15に記載の発明
は、請求項1〜14のいずれか1項に記載の磁気浮上型
ステージにおいて、第1の磁石群5a、5b、5c、5d、
5e、5fのうち反発力を発生する磁石5a、5d、5fが
吸引力を発生する第2の磁石群5b、5c、5eの外側に
設けられている。
【0007】
【作用】請求項1に記載の発明では、移動ステージ4お
よび固定ステージ1のいずれか一方のステージに設けた
第1の磁石群5a、5b、5c、5d、5e、5fと他
のステージに設けた第1の電磁石群2a、2b、2c、
2d、2e、2fとの間の反発力あるいは吸引力により
移動ステージ4にZ方向の移動力、およびα方向、β方
向の回転力を付与する。また、一方のステージに設けた
第2の磁石群5b、5c、5eと他方のステージに設け
た第2の電磁石群2b、2c、2eとの間に作られた磁
束中で他方のステージに設けた電線22b、22c、2
2eに横断電流I5、I6を流すと移動ステージ4にX
方向、Y方向の移動力およびθ方向の回転力が与えられ
る。請求項2に記載の発明では、Z方向の軸を中心に巻
き回された第1のコイル23b、23c、23eと、第
1のコイル23b、23c、23eと直交する軸を中心
に巻き回された第2のコイル22b、22c、22eと
に横断電流I5、I6を流すと移動ステージ4にX方
向、Y方向の移動力およびθ方向の回転力が与えられ
る。請求項3に記載の発明では、第2のコイル124c
および第3のコイル125b、125cに横断電流I
5、I6、I7を流すと移動ステージ4にX方向、Y方
向の移動力およびθ方向の回転力が与えられる。請求項
4に記載の発明では、磁石5e´は吸引力のみを生じさ
せる。請求項5に記載の発明では、移動ステージ4のZ
方向の移動量およびα方向、β方向の回転量に応じた計
測値を出力する第1の計測手段6からの計測値を受け
て、第1の制御手段30が第1の電磁石群2a、2b、
2c、2d、2e、2fに流す電流を制御する。請求項
6に記載の発明では、移動ステージ4のX方向、Y方向
の移動量およびθ方向の回転量に応じた計測値を出力す
る第2の計測手段7からの計測値を受けて、第2の制御
手段30が横断電流I5、I6または第2の電磁石群2
b、2c、2eの電流I3、I4を制御する。請求項7
に記載の発明では、第2の計測手段3、7からの計測値
を受けて、第2の制御手段30が固定ステージ1または
移動ステージ4に取付けられた電磁石のうち第1の電磁
石群2a、2b、2c、2d、2e、2fとして用いる
電磁石を選択するとともに選択された各電磁石の電流の
方向を設定する。請求項9に記載の発明では、第2の計
測手段3、7からの計測値を受けて、第2の制御手段3
0が固定ステージ1または移動ステージ4に取付けられ
た電磁石のうち第2の電磁石群2b、2c、2eとして
用いる電磁石を選択するとともに各電磁石の電流の方向
を設定する。請求項13に記載の発明は共通のコア21
に対して第1のコイル23と第2のコイル22とが巻き回
されている。請求項14に記載の発明は、共通のコア1
21に対して第1のコイル123と第2のコイル124と
第3のコイル125とが巻き回されている。請求項15
に記載の発明では、第1の磁石群5a、5b、5c、5d、
5e、5fのうち反発力を発生する磁石5a、5d、5fが
吸引力を発生する第2の磁石群5b、5c、5eの外側に
設けられているので、移動ステージ4の姿勢が安定した
制御が容易になる。
【0008】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
【0009】
【実施例】
−第1の実施例− 図1〜図6は本発明の実施例による磁気浮上型ステージ
の第1の実施例を示す。なお、図1に示すように本実施
例では直交座標系の3軸をそれぞれX、Y、Zで表し、
各軸回りの回転角をα、β、θで表す。また、αをピッ
チング、βをローリング、θをヨーイングと呼ぶ。図1
に示すように、矩形の固定ステージ1には複数の電磁石
2が配列されている。図2に示すように、この電磁石2
の直方体形状のコア21には、Z方向の軸を中心にコイ
ル23が巻付けられ、コイル23の軸と直交する軸、図
2ではY方向の軸を中心にコイル22が巻付けられてい
る。図1において各電磁石2を示す正方形の領域中に引
かれた平行線は、各電磁石2のコイル22の向きを模式
的に表したものである。このように、電磁石2はコイル
22の軸がX方向に向いたものとY方向に向いたものと
が交互にマトリクス状に配置されている。図3に示すよ
うに、隣り合った電磁石2の間にはコイル22の上面よ
りも上部に突出してホール素子3が取付けられている。
【0010】図1および図3に示すように、固定ステー
ジ1の上方にはわずかな間隙を介して固定ステージ1よ
りも小さい矩形の移動ステージ4が浮上している。図1
および図4に示すように、移動ステージ4の下面には永
久磁石5a、5b、5c、5d、5e、5fが設けられ
ている。このうち永久磁石5a、5d、5fは図1にお
いてN極を下向きに、永久磁石5b、5c、5eはS極
を下向きにしてそれぞれ取付けられている。また、移動
ステージ4の下面には移動ステージ4と固定ステージ1
との間隙を計測する3つのギャップセンサ6が取付けら
れている。3つのギャップセンサにより移動ステージ4
のZ方向の移動量、およびピッチングα方向、ローリン
グβ方向の回転量を計測する。
【0011】図1に示すように、固定ステージ1の周囲
には3台のレーザ干渉計7が設けられている。レーザ干
渉計7から発射されたレーザ光7aは移動ステージ4の
側面4Aおよび4Bの反射ミラーで反射されて再びレー
ザ干渉計7に戻る。3台のレーザ干渉計7により移動ス
テージ4のX方向の移動量およびヨーイングθ方向の回
転量を計測する。
【0012】次に、以上のように構成された第1の実施
例の磁気浮上型ステージの駆動原理を図3を用いて説明
する。電磁石2dはコア21dとコイル22dとコイル
23dとから、電磁石2cはコア21cとコイル22c
とコイル23cとから、電磁石2eはコア21eとコイ
ル22eとコイル23eとから、電磁石2fはコア21
fとコイル22fとコイル23fとから、それぞれ構成
されている。また、永久磁石5dは電磁石2dと、永久
磁石5cは電磁石2cと、永久磁石5eは電磁石2e
と、永久磁石5fは電磁石2fとそれぞれ対向してい
る。
【0013】図3において、電磁石2dのコイル23d
には下方向から見て時計回り方向の電流I1が流れてい
る。したがって、電磁石2d(コア21d)は上側がN
極となるので、対向する永久磁石5d(下側がN極)と
の間で反発力を生ずる。電磁石2fのコイル23fにも
下方向から見て時計回り方向の電流I2が流れており、
電磁石2fおよびこれと対向する永久磁石5fの間にも
同様に反発力が生ずる。
【0014】図3において、電磁石2cのコイル23c
には下方向から見て時計回り方向の電流I3が流れてい
る。したがって、電磁石2cは上側がN極となるので、
対向する永久磁石5c(下側がS極)との間で吸引力を
生ずる。電磁石2eのコイル23eにも下方向から見て
時計回り方向の電流I4が流れており、電磁石2eおよ
びこれと対向する永久磁石5eとの間にも同様に吸引力
が生ずる。
【0015】このように互いに対向する電磁石2d、2
c、2eおよび2fと永久磁石5d、5c、5eおよび
5fとの間には磁気的な反発力または吸引力が生ずるの
で、これらの電磁石2d、2c、2eおよび2fのコイ
ル23d、23c、23eおよび23fに流す電流の方
向および強さを制御することにより、移動ステージ4の
Z方向の移動、α方向の回転、β方向の回転を制御する
ことができる。
【0016】上述のように、電磁石2cのコイル23c
には電流I3が流れ電磁石2cと永久磁石5cとの間に
は吸引力が生じている。この状態で、さらにコイル22
cにはY方向から見て反時計回り方向の電流I5が流れ
ている。したがって、コイル22cのうちコア21cよ
りも上側にある部分では紙面の手前側から奥側に向って
電流I5が流れており、この部分では永久磁石5cから
右方向の力(ローレンツ力)を受ける。すなわち、移動
ステージ4(永久磁石5c)はこの力と逆向き(左向
き)で同じ大きさの力Fcを固定ステージ1(電磁石2
c)から受けることになる。移動ステージ4が受ける力
Fc1の向きと大きさはコイル22cに流す電流I5の
向きと大きさにより制御することができる。また、コイ
ル23cに流す電流I3を増減させることにより、電磁
石2cと永久磁石5cとの間の吸引力を変化させて(磁
束密度を変化させて)Fc1を制御することもできる。
【0017】一方、上述のように電磁石2eのコイル2
3eには電流I4が流れ電磁石2eと永久磁石5eとの
間には吸引力が生じている。この状態で、さらにコイル
22eに反時計回り方向の電流I6を流すと、上述と同
様の原理により移動ステージ4には紙面の奥に向かう方
向の力Fe1が加わる。移動ステージ4が受ける力Fe
1はコイル22eに流す電流I6およびコイル23eに
流す電流I4により同様に制御することができる。
【0018】図5は永久磁石5a、5b、5c、5d、
5e、5fが固定ステージ1から受ける力を示す。永久
磁石5aは電磁石2a(図示せず)と、永久磁石5bは
電磁石2b(図示せず)と、永久磁石5cは電磁石2c
と、永久磁石5dは電磁石2dと、永久磁石5eは電磁
石2eと、永久磁石5fは電磁石2fと、それぞれ対向
している。磁石5a、5d、5fはそれぞれZ方向の力
(反発力)Fa、Fd、Ffを受け、永久磁石5b、5
c、5eはそれぞれZ方向の力(吸引力)Fb2、Fc
2、Fe2を受ける。これらの力は電磁石2a、2b、
2c、2d、2e、2fのコイル23a、23b、23
c、23d、23e、23fに流す電流により制御され
る。また、永久磁石5b、5c、5eはそれぞれX方向
の力Fb1、Y方向の力Fc1およびX方向の力Fe1
を受ける。これらの力Fb1、Fc1、Fe1はコイル
22b、22c、22e、23b、23c、23eに流
す電流により制御される。
【0019】図5の状態から移動ステージ4が電磁石2
のピッチの分だけX方向またはY方向に移動すると、永
久磁石5b、5c、5eが対向する電磁石2のコイル2
2の方向はそれぞれ90度変化する。したがって、永久
磁石5b、5c、5eが受ける力Fb、Fc、Feの方
向も90度変化することになる。
【0020】図6に示すように、制御装置30はホール
素子3、ギャップセンサ6、レーザ干渉計7からの情報
を受けて、電磁石2の各コイルに電流を供給する電流供
給装置40を制御する。ここで、ホール素子3は移動ス
テージ4の永久磁石5の磁場を検出して永久磁石5a、
b、c、d、e、fの位置や磁極を計測し、この情報を
受けた制御装置30が電流を流すコイルおよびその電流
の方向を決定する。移動ステージ4が電磁石2のピッチ
を越えて移動した場合でも、常に永久磁石が対向してい
る電磁石に適切な電流が供給され、移動ステージ4は適
切に制御される。また、3つのギャップセンサ6は移動
ステージ4と固定ステージ1の間のギャップを計測し、
この情報を受けた制御装置30が電流の強さを制御す
る。これにより移動ステージ4のZ方向の移動量および
α方向、β方向の回転量が制御される。さらに、3台の
レーザ干渉計7は移動ステージ4のX方向、Y方向の移
動量およびθ方向の回転量を計測し、この情報を受けた
制御装置30が電流を流すコイルを決定するとともに、
その電流の方向および強さを制御する。これにより移動
ステージ4のX方向、Y方向の移動量およびθ方向の回
転量が制御される。制御装置30で行われる制御の方式
としては、PD制御(比例微分制御)、PI制御(比例
積分制御)、PID制御(比例積分微分制御)、ファジ
ー制御、ロバスト制御などが適用できる。
【0021】以上ではギャップセンサ6を3個用いるこ
とによりZ方向の移動量およびα方向、β方向の回転量
を計測するようにしたが、精度を高めるために4個以上
のギャップセンサを用いてもよい。ギャップセンサ6の
種類として、静電容量センサ、渦電流センサ、レーザ干
渉計などがあり、これらを単独でまたは2種以上を組合
せて使用してもよい。第1の実施例ではギャップセンサ
6を移動ステージ4に取付けたが固定ステージ1に取付
けてもよい。固定ステージ1と移動ステージ4のギャッ
プをより精密に測定するために、固定ステージ1の上面
または移動ステージ4の下面(ギャップセンサと対向す
る面)に平面性が良好で透磁性の高い板を設けてもよ
い。
【0022】第1の実施例ではレーザ干渉計7を使用し
て移動ステージ4のX方向、Y方向の移動量およびθ方
向の回転量を計測しているが、レーザ干渉計に代えて、
静電容量センサ、渦電流センサなどを用いることもでき
る。また、第1の実施例では3個のレーザ干渉計を用い
ているが、算出精度を高めるため4個以上のセンサを使
用してもよい。
【0023】第1の実施例においては、固定ステージ1
に取付けられたホール素子3により永久磁石5の磁場を
検出し、電流を供給する電磁石の選択および電流の方向
を決定しているが、ホール素子3を省略し、レーザ干渉
計7で計測した移動ステージ4のX方向、Y方向の移動
量およびθ方向の回転量から電磁石の選択および電流の
方向を決定することができる。
【0024】移動ステージ4の永久磁石5の配置は第1
の実施例のものに限定されない。また、第1の実施例で
は互いに隣接する電磁石2のコイル22の向きが直交す
るように配置されているが、このような配置に限定され
るものではなく、電磁石2の配置に合わせて移動ステー
ジ4の永久磁石5の配置を適宜選択すればよい。また、
コイル22および23の巻数、巻線の密度などは任意に
選択できる。さらに、永久磁石5または電磁石2から発
生する漏れ磁束を捕獲、シールドするための電磁石を別
途設けてもよい。あるいはまた、固定ステージに永久磁
石を移動ステージにに電磁石を設けたり、両ステージに
電磁石を設けてもよいが、本実施例のように移動ステー
ジに永久磁石を設けると移動ステージへの配線が不要に
なり、また移動ステージが軽量化される利点がある。
【0025】以上の説明では永久磁石と電磁石が正対し
た場合についてのみ説明しているが、正対しない状態に
おいてはそれぞれの永久磁石に近接する単数または複数
の電磁石に電流を供給するようにすればよい。また、第
1の実施例では、永久磁石と対向する電磁石のみに電流
を供給するようにしているが、永久磁石の磁束が届く範
囲に設けられた他の電磁石を利用して移動ステージに力
を加えるようにしてもよい。
【0026】第1の実施例において、永久磁石5b、5
c、5eを用いたが、これらの代りに磁性材を用いても
よい。この場合、コイル23b、23c、23eの電流
により磁性材を磁化させ(吸引力を生じさせ)た状態
で、コイル22b、22c、22eに電流を流すことに
より、第1の実施例と同様に移動ステージのX方向、Y
方向の移動量およびθ方向の回転量を制御することがで
きる。
【0027】第1の実施例においては、固定ステージ上
に浮上する移動ステージが駆動される場合について説明
したが、固定ステージと移動ステージとの間の吸引力に
よって移動ステージが固定ステージの下で浮上するよう
にしてもよい。
【0028】第1の実施例の永久磁石5a、5b、5
c、5d、5e、5fは本発明による磁気浮上型ステー
ジの第1の磁石群を、永久磁石5b、5c、5eは本発
明による磁気浮上型ステージの第2の磁石群を、それぞ
れ構成する。第1の実施例の電磁石2a、2d、2c、
2d、2e、2fは本発明による磁気浮上型ステージの
第1の電磁石群を、電磁石2b、2c、2eは本発明に
よる磁気浮上型ステージの第2の電磁石群を、それぞれ
構成する。
【0029】−第2の実施例− 図7および図8は本発明による磁気浮上型ステージの第
2の実施例を示す。以下、第1の実施例との相違点を中
心にして説明し、同一の部分には同一の符号を付してそ
の説明を省略する。図7に示すように、第2の実施例の
移動ステージ4´には永久磁石5a´、5b´、5c
´、5d´、5e´、5f´、5g´が取付けられてい
る。このうち永久磁石5a´、5d´、5f´、5g´
はN極を下向きに、永久磁石5b´、5c´、5e´は
S極を下向きにして、それぞれ取付けられている。
【0030】永久磁石5a´には電磁石2a(図示せ
ず)が、永久磁石5b´には電磁石2b(図示せず)
が、永久磁石5c´には電磁石2cが、永久磁石5d´
には電磁石2dが、永久磁石5e´には電磁石2eが、
永久磁石5f´には電磁石2fが、永久磁石5g´には
電磁石2g(図示せず)が、それぞれ対向している。電
磁石2aではコイル23aのみに、電磁石2dではコイ
ル23dのみに、電磁石2eではコイル23eのみに、
電磁石2fではコイル23fのみに、それぞれ電流を供
給する。また、電磁石2bではコイル22bおよび23
bに、電磁石2cではコイル22cおよび23cに、電
磁石2eではコイル22eおよび23eに、それぞれ電
流を供給する。
【0031】図8は永久磁石5a´、5b´、5c´、
5d´、5e´、5f´、5g´が受ける力を示す。永
久磁石5a´はZ方向の反発力Fa´を、永久磁石5d
´はZ方向の反発力Fd´を、永久磁石5f´はZ方向
の反発力Ff´を、それぞれ受ける。永久磁石5b´は
X方向の力Fb1´およびZ方向の吸引力Fb2´を、
永久磁石5c´はY方向の力Fc1´およびZ方向の吸
引力Fc2´を、永久磁石5g´はY方向の力Fg1´
およびZ方向の吸引力Fg2´を、それぞれ受ける。ま
た永久磁石5e´はZ方向の吸引力Fe´を受ける。こ
のように、第2の実施例では吸引力Fe´のみを受ける
永久磁石5e´が設けられている。因みに、第1の実施
例では吸引力を受ける永久磁石は、すべて水平面内のロ
ーレンツ力も受けるようにしている。
【0032】このように吸引力のみを生じさせる永久磁
石を追加することによって移動ステージ4´のZ方向の
制御特性を優れたものとすることができる。例えば、吸
引力のみを生じさせる永久磁石(第2の実施例では永久
磁石5e´)をZ方向の粗動専用として、永久磁石5a
´、5d´、5f´を微動専用とすることにより、駆動
速度を犠牲にせず位置決め精度を高く維持することがで
きる。また、反発力を生じさせる永久磁石5a´、5d
´、5f´を外側に、吸引力のみを生じさせる永久磁石
5e´を移動ステージの中央付近にそれぞれ配置するこ
とにより、移動ステージの姿勢が安定した制御が容易に
なる。
【0033】第2の実施例では、吸引力のみを生じさせ
る磁石として永久磁石を用いた場合について説明した
が、永久磁石に代えて、対向する電磁石との間で吸引力
を生じさせる材料(磁性材)を使用することができる。
【0034】第2の実施例の永久磁石5a´、5b´、
5c´、5d´、5e´、5f´、5g´は本発明によ
る磁気浮上型ステージの第1の磁石群を、永久磁石5b
´、5c´、5e´は本発明による磁気浮上型ステージ
の第2の磁石群を、それぞれ構成する。永久磁石5e´
は本発明による磁気浮上型ステージの「吸引力のみを生
じさせる磁石」を構成する。第2の実施例の電磁石2
a、2d、2c、2d、2e、2fは本発明による磁気
浮上型ステージの第1の電磁石を、電磁石2b、2c、
2eは本発明による磁気浮上型ステージの第2の電磁石
群を、それぞれ構成する。
【0035】−第3の実施例− 以下、本発明による磁気浮上型ステージの第3の実施例
について第1の実施例との相違点を中心にして説明す
る。第1の実施例と同一の部分には同一の符号を付して
その説明を省略する。図9に示すように、矩形の固定ス
テージ101には複数の電磁石102がマトリクス状に
配列されている。図10に示すように、この電磁石10
2は直方体形状のコア121と、コア121の上部に重
ねられた高透磁率の部材122と、コア121を通るZ
方向の軸を中心に巻付けられたコイル123と、コア1
21を通るY方向の軸を中心に巻付けられたコイル12
4と、コア121を通るX方向の軸を中心に巻付けられ
たコイル125とからなる。図12に示すように、隣り
合った電磁石102の間にはホール素子3が取付けられ
ている。
【0036】図9および図11に示すように、移動ステ
ージ104の下面には永久磁石105a、105b、1
05c、105d、105eが設けられている。このう
ち永久磁石105a、105c、105eはN極を下向
きに、永久磁石105b、105dはS極を下向きにし
てそれぞれ取付けられている。
【0037】次に、以上のように構成された第3の実施
例の磁気浮上型ステージの駆動原理を図12を用いて説
明する。永久磁石105aは電磁石102aと、永久磁
石105bは電磁石102bと、永久磁石105cは電
磁石102cと、永久磁石105dは電磁石102d
と、それぞれ対向している。図12において電磁石10
2aのコイル123aには下方向から見て時計回り方向
の電流I1が流れている。したがって、電磁石102a
(コア121a)は上側がN極となるので、対向する永
久磁石105a(下側がN極)との間で反発力を生ず
る。電磁石102dのコイル123dには下方向から見
て反時計回り方向の電流I2が流れており、電磁石10
2dおよびこれと対向する永久磁石105d(下側がS
極)の間にも同様に反発力が生ずる。
【0038】図12において電磁石102bのコイル1
23bには下方向から見て時計回り方向の電流I3が流
れている。したがって、電磁石102b(コア121
b)は上側がN極となるので、対向する永久磁石105
b(下側がS極)との間で吸引力を生ずる。電磁石10
2cのコイル123cには下方向から見て反時計回り方
向の電流I4が流れており、電磁石102cおよびこれ
と対向する永久磁石105c(下側がN極)の間にも同
様に吸引力が生ずる。
【0039】上述のように、電磁石102bのコイル1
23bには電流I3が流れ電磁石102bと永久磁石1
05bとの間には吸引力が生じている。この状態で、さ
らにコイル125bに右方向から見て時計回り方向の電
流I5を流すと、第1の実施例において説明したよう
に、移動ステージ104は左方向の力Fb1を受ける。
【0040】一方、上述のように電磁石102cのコイ
ル123cには電流I4が流れ電磁石102cと永久磁
石105cとの間には吸引力が生じている。この状態
で、さらにコイル125cに右方向から見て時計回り方
向の電流I6を流すと、移動ステージ4は右方向の力F
c1を受ける。また、コイル124cに反時計回り方向
の電流I7を流すと、移動ステージ4は紙面の手前側か
ら奥側に向う方向の力Fc2を受ける。
【0041】図13は移動ステージ104に加えられる
力を示す。永久磁石105eは図示しない電磁石102
eと対向している。永久磁石105a、105d、10
5eはそれぞれZ方向の力(反発力)Fa、Fd、Fe
を受け、永久磁石105b、105cはZ方向の力(吸
引力)Fb3、Fc3を受ける。また、永久磁石105
bは電磁石102bのコイル125bの電流によってX
方向の力Fb1を、コイル124bの電流によってY方
向の力Fb2を、それぞれ受ける。永久磁石105cは
電磁石102cのコイル125cの電流によりX方向の
力Fc1を、コイル124cの電流によりY方向の力F
c2を、それぞれ受ける。このように電磁石2がコイル
124およびコイル125を備えているので、一つの永
久磁石に対してX方向およびY方向の力を同時に加える
ことができる。また、移動ステージ104が電磁石2の
ピッチを越えて移動し、永久磁石105b、105cが
対向する電磁石が変っても、永久磁石105b、105
cに加えることができる力の方向が限定されない。
【0042】第3の実施例においては、電磁石2はそれ
ぞれX方向、Y方向およびZ方向の軸を中心にして巻付
けられた3つのコイルを備えている。このため磁気的吸
引力、反発力およびローレンツ力を移動ステージの位置
に関係なく有効に利用することができ、第1の実施例よ
りも移動ステージの永久磁石の個数を減らすことができ
る。したがって、移動ステージが軽量となり駆動の高速
化が図れる。
【0043】本明細書の特許請求の範囲において、「磁
石」とは移動ステージの駆動時に磁化されることが可能
な磁性材を含む概念であり、永久磁石に限定されない。
【0044】
【発明の効果】請求項1に記載の発明では、磁石による
反発力あるいは吸引力により移動ステージを浮上させる
とともにZ方向の移動量およびα方向、β方向の回転量
を制御し、磁束中に流す電流によってX方向、Y方向の
移動量およびθ方向の回転量を制御するようにしたの
で、塵を発生させず精密に移動ステージの位置決めをす
ることができる。また、エアーを用いないで移動ステー
ジが駆動できるので真空中でも使用することができる。
請求項3に記載の発明では、電磁石にX方向、Y方向お
よびZ方向の軸を中心に巻き回された3つのコイルを設
けたので、磁石同士の吸引力、反発力およびローレンツ
力を移動ステージの位置に関係なく有効に利用でき、移
動ステージの永久磁石の個数を減らせる。したがって、
移動ステージが軽量となり高速駆動が可能となる。請求
項4に記載の発明では、吸引力のみに貢献する磁石を設
けたので、例えばZ方向の粗動と微動を制御する電磁石
を異なる電磁石に分離することができ、Z方向の制御の
高速性と高精度の位置決めの両立が図られる。また、吸
引力のみに貢献する磁石を移動ステージの中央付近に設
けた場合には、移動ステージの制御がより安定なものと
なる。請求項5〜10に記載の発明では、移動ステージ
の姿勢を計測する計測手段と、計測手段の計測値を受け
て使用する電磁石およびその電磁石に供給する電流を制
御する制御手段とを備えるので、移動ステージが円滑に
制御される。請求項12に記載の発明では、移動ステー
ジに永久磁石を設け固定ステージに電磁石を設けたの
で、移動ステージへの配線が不要になり、また移動ステ
ージが軽量化される。さらに電磁石の冷却が容易にな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による磁気浮上型ステージの第1の実施
例を示す斜視図。
【図2】第1の実施例の電磁石を示す斜視図。
【図3】第1の実施例の動作原理を示す図。
【図4】第1の実施例の移動ステージの底面図。
【図5】図4の移動ステージが受ける力を示す移動ステ
ージの底面図。
【図6】第1の実施例の移動ステージの制御ブロック
図。
【図7】第2の実施例の移動ステージの底面図。
【図8】図7の移動ステージが受ける力を示す移動ステ
ージの底面図。
【図9】本発明による磁気浮上型ステージの第3の実施
例を示す斜視図。
【図10】第3の実施例の電磁石を示す斜視図。
【図11】第3の実施例の移動ステージを示す底面図。
【図12】第3の実施例の動作原理を示す図。
【図13】図11の移動ステージが受ける力を示す移動
ステージの底面図。
【符号の説明】
1 固定ステージ 2 電磁石 3 ホール素子 4 移動ステージ 5 電磁石 6 ギャップセンサ 7 レーザ干渉計 23 コイル 24 コイル 30 制御装置 102 電磁石 123 コイル 124 コイル 125 コイル I5 横断電流 I6 横断電流 I7 横断電流
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H02K 41/00 B23Q 1/14 A C (56)参考文献 特開 平5−57550(JP,A) 特開 平7−98613(JP,A) 特開 平5−162040(JP,A) 特開 昭56−132157(JP,A) 特開 昭59−2562(JP,A) 特開 昭59−17858(JP,A) 特開 平5−176416(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B23Q 1/00 B65G 54/02 G05D 3/00 H02K 41/00

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直交座標系の3軸をX、Y、Zとし、各軸
    回りの回転角をα、β、θで表すとき、固定ステージ
    と、前記固定ステージに沿ってXY平面内の任意の位置に
    駆動される移動ステージとを有する磁気浮上型ステージ
    において、 前記移動ステージおよび前記固定ステージのいずれか一
    方のステージに設けた第1の磁石群と他方のステージに
    設けた第1の電磁石群とのの反発力及び吸引力により
    前記移動ステージにZ方向の移動力、およびα方向、β
    方向の回転力を付与し、前記第1の磁石群のうち前記吸引力を発生する第2の磁
    石群と、前記第1の電磁石群のうち前記第2の磁石群と
    対向する 第2の電磁石群との間に作られた磁束中で前記
    第2の電磁石群に設けた電線に流す横断電流により前記
    移動ステージにX方向、Y方向の移動力およびθ方向の回
    転力を付与することを特徴とする磁気浮上型ステージ。
  2. 【請求項2】 前記第2の電磁石群の各電磁石はZ方向の
    軸を中心に巻き回された第1のコイルと、XまたはY方向
    の軸を中心に巻き回された第2のコイルとを備え、前記
    第2のコイルには前記横断電流が流されることを特徴と
    する請求項1に記載の磁気浮上型ステージ。
  3. 【請求項3】 前記第2の電磁石群の各電磁石はZ方向の
    軸を中心に巻き回された第1のコイルと、XまたはY方向
    の軸を中心に巻き回された第2のコイルと、Z方向および
    前記第2のコイルの軸方向の双方と直交する軸を中心に
    巻き回された第3のコイルとを備え、 前記第2のコイルおよび/または前記第3のコイルには前
    記横断電流が流されることを特徴とする請求項1に記載
    の磁気浮上型ステージ。
  4. 【請求項4】 前記移動ステージは前記固定ステージの
    上で駆動され、前記第1の磁石群には吸引力のみを生じ
    させる磁石が含まれることを特徴とする請求項1〜3の
    いずれか1項に記載の磁気浮上型ステージ。
  5. 【請求項5】 前記移動ステージまたは前記固定ステー
    ジに取付けられ前記移動ステージのZ方向の移動量およ
    びα方向、β方向の回転量に応じた計測値を出力する第
    1の計測手段と、 前記第1の計測手段からの前記計測値を受けて前記第1
    の電磁石群に流す電流を制御する第1の制御手段とを備
    えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記
    載の磁気浮上型ステージ。
  6. 【請求項6】 前記移動ステージのX方向、Y方向の移動
    量およびθ方向の回転量に応じた計測値を出力する第2
    の計測手段と、 前記第2の計測手段からの前記計測値を受けて前記横断
    電流および/または前記第2の電磁石群の電流を制御する
    第2の制御手段とを備えることを特徴とする請求項1〜
    5のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステージ。
  7. 【請求項7】 前記移動ステージのX方向、Y方向の移動
    量およびθ方向の回転量に応じた計測値を出力する第2
    の計測手段と、 前記第2の計測手段からの前記計測値を受けて前記固定
    ステージまたは前記移動ステージに取付けられた電磁石
    のうち前記第1の電磁石群として用いる電磁石を選択す
    るとともに選択された各電磁石の電流の方向を設定する
    第2の制御手段を備えることを特徴とする請求項1〜5
    のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステージ。
  8. 【請求項8】 前記第2の計測手段は前記固定ステージ
    または前記移動ステージに取付けられたホール素子であ
    ることを特徴とする請求項7に記載の磁気浮上型ステー
    ジ。
  9. 【請求項9】 前記移動ステージのX方向、Y方向の移動
    量およびθ方向の回転量に応じた計測値を出力する第2
    の計測手段と、 前記第2の計測手段からの前記計測値を受けて前記固定
    ステージまたは前記移動ステージに取付けられた電磁石
    のうち前記第2の電磁石群として用いる電磁石を選択す
    るとともに選択された各電磁石の電流の方向を設定する
    第2の制御手段を備えることを特徴とする請求項1〜5
    のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステージ。
  10. 【請求項10】 前記第2の計測手段は前記固定ステー
    ジまたは前記移動ステージに取付けられたホール素子で
    あることを特徴とする請求項9に記載の磁気浮上型ステ
    ージ。
  11. 【請求項11】 前記第1の磁石群、前記第2の磁石
    群、前記第1の電磁石群、または前記第2の電磁石群は超
    伝導材料を用いたものであることを特徴とする請求項1
    〜10のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステージ。
  12. 【請求項12】 前記一方のステージは前記移動ステー
    ジであり、前記他方のステージは前記固定ステージであ
    ることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記
    載の磁気浮上型ステージ。
  13. 【請求項13】 前記第1のコイルと前記第2のコイルと
    は共通のコアに対して巻き回されていることを特徴とす
    る請求項2に記載の磁気浮上型ステージ。
  14. 【請求項14】 前記第1のコイルと前記第2のコイルと
    前記第3のコイルとは共通のコアに対して巻き回されて
    いることを特徴とする請求項3に記載の磁気浮上型ステ
    ージ。
  15. 【請求項15】 前記第1の磁石群のうち前記反発力を
    発生する磁石は前記吸引力を発生する前記第2の磁石群
    の外側に設けられていることを特徴とする請求項1〜1
    4のいずれか1項に記載の磁気浮上型ステージ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100655144B1 (ko) * 2004-11-04 2006-12-08 테크리카오엘이디 주식회사 진공 장비용 이송장치에 부가된 부하감소장치
KR100726711B1 (ko) * 2005-12-30 2007-06-12 한국전기연구원 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치
US7420299B2 (en) * 2006-08-25 2008-09-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4253823B1 (ja) * 2007-12-04 2009-04-15 信彦 高橋 磁気浮上推進装置
NL2004752A (en) * 2009-06-19 2010-12-20 Asml Netherlands Bv Coil, positioning device, actuator, and lithographic apparatus.
DE102017002542A1 (de) * 2017-03-16 2018-09-20 Applied Materials, Inc. (N.D.Ges.D. Staates Delaware) Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objekts
CN112130425B (zh) * 2020-09-30 2022-10-14 上海集成电路研发中心有限公司 一种光刻装置
CN112234800B (zh) * 2020-12-14 2021-03-09 上海隐冠半导体技术有限公司 一种位移装置及磁浮平面电机
CN114916797B (zh) * 2022-05-17 2023-09-15 淄博职业学院 一种应用超导磁悬浮技术的展示柜
CN114825854A (zh) * 2022-05-23 2022-07-29 华中科技大学 一种具有双层绕组粗精驱动的磁浮平面电机工作台

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