KR100726711B1 - 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치 - Google Patents
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- 코일과 영구자석 간에 발생하는 전자기력에 의해서 스테이지가 부상 및 이송되는 자기부상방식의 스테이지 장치에 있어서,수평면을 형성하는 받침 플레이트(11)를 구비한 하부 이송대(10)와;상기 받침 플레이트(11)의 상면에 설치되어 전자계를 발생시키는 코일모듈 어레이(20)와;상기 하부 이송대(10)의 상측에서 부상 및 이송되는 스테이지(30)와;상기 스테이지(30)의 하면에 다수개의 영구자석(41,42)들이 배열 설치되어 이루어진 영구자석 어레이(40);를 포함하여 구성되고, 상기 코일모듈 어레이(20)가 받침 플레이트(11) 상면의 코일모듈(21) 다수개로 구성되되, 이웃 코일모듈(21) 간 코일 권선방향이 직각이 되도록 상기 코일모듈(21)들이 서로 직교하여 바둑판 형태로 배치되고, 컨트롤러(1) 및 구동회로부(2)에 의해 상기 각 코일모듈(21)의 온/오프 및 인가되는 전류가 제어되면서 상기 스테이지(30)가 코일모듈(21)과 영구자석(41,42) 간 발생된 전자기력에 의해 Z축 방향의 부상과 X축, Y축 방향의 2차원 수평 이동이 가능하도록 이루어지되, 상기 각 코일모듈(21)은 다수개의 공심형 단위 권선(22)들이 적층구조로 조합되어 구성되고, 상기 공심형 단위 권선(22)들이 A상, B상, C상의 순서로 번갈아 놓이도록 결선되는 것을 특징으로 하는 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치.
- 코일과 영구자석 간에 발생하는 전자기력에 의해서 스테이지가 부상 및 이송되는 자기부상방식의 스테이지 장치에 있어서,수평면을 형성하는 받침 플레이트(11)를 구비한 하부 이송대(10)와;상기 받침 플레이트(11)의 상면에 설치되어 전자계를 발생시키는 코일모듈 어레이(20)와;상기 하부 이송대(10)의 상측에서 부상 및 이송되는 스테이지(30)와;상기 스테이지(30)의 하면에 다수개의 영구자석(41,42)들이 배열 설치되어 이루어진 영구자석 어레이(40);를 포함하여 구성되고, 상기 코일모듈 어레이(20)가 받침 플레이트(11) 상면의 코일모듈(21) 다수개로 구성되되, 이웃 코일모듈(21) 간 코일 권선방향이 직각이 되도록 상기 코일모듈(21)들이 서로 직교하여 바둑판 형태로 배치되고, 컨트롤러(1) 및 구동회로부(2)에 의해 상기 각 코일모듈(21)의 온/오프 및 인가되는 전류가 제어되면서 상기 스테이지(30)가 코일모듈(21)과 영구자석(41,42) 간 발생된 전자기력에 의해 Z축 방향의 부상과 X축, Y축 방향의 2차원 수평 이동이 가능하도록 이루어지되, 상기 영구자석 어레이(40)는 다수개의 N극과 S극의 영구자석(41,42)들이 등간격 설치되어 구성되며, 하나의 N극 또는 S극의 영구자석(41,42)을 중심으로 그 사방에 반대 극의 영구자석(41,42)이 배치되는 형태로 상기 N극과 S극의 영구자석(41,42)이 반복 설치되어서 서로 직교 형태의 배열을 이루는 것을 특징으로 하는 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 N극과 S극의 영구자석(41,42)이 정사각형의 영구자석인 것을 특징으로 하는 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 N극과 S극의 영구자석(41,42)이 원형의 영구자석인 것을 특징으로 하는 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치.
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7982344B2 (en) | 2008-04-08 | 2011-07-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Planar pulse motor, exposure apparatus, and device manufacturing method |
CN102758875A (zh) * | 2012-07-09 | 2012-10-31 | 哈尔滨工业大学 | 磁悬浮平衡质量框架 |
KR101313118B1 (ko) | 2010-06-07 | 2013-09-30 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 변위 장치, 리소그래피 장치 및 위치설정 방법 |
KR101574223B1 (ko) | 2014-04-21 | 2015-12-07 | 한국과학기술원 | 자기부상 구동 스테이지용 도체판의 제조방법 및 이를 통해 제조된 도체판 및 이를 포함하는 자기부상 구동 스테이지 |
KR101769591B1 (ko) * | 2016-02-15 | 2017-08-18 | 아주대학교 산학협력단 | 자기부상 받침대 |
KR20200012336A (ko) | 2018-07-27 | 2020-02-05 | 김종필 | 반도체 산업용 초정밀 가공플레이트 스테이지 |
US20220224255A1 (en) * | 2021-01-12 | 2022-07-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Transport system, processing system, and article manufacturing method |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8084896B2 (en) * | 2008-12-31 | 2011-12-27 | Electro Scientific Industries, Inc. | Monolithic stage positioning system and method |
NL2004752A (en) * | 2009-06-19 | 2010-12-20 | Asml Netherlands Bv | Coil, positioning device, actuator, and lithographic apparatus. |
US9030057B2 (en) * | 2011-06-24 | 2015-05-12 | Nikon Corporation | Method and apparatus to allow a plurality of stages to operate in close proximity |
WO2014189371A2 (en) * | 2013-05-21 | 2014-11-27 | Sanchez-Faddiev Hernando | A process and apparatus to manufacture a three-dimensional object |
CN103441708B (zh) * | 2013-09-09 | 2016-05-18 | 清华大学 | 一种模块化动铁式六自由度磁浮运动平台 |
JP7467093B2 (ja) * | 2019-12-06 | 2024-04-15 | キヤノン株式会社 | 搬送システムおよび物品の製造方法 |
US11476139B2 (en) * | 2020-02-20 | 2022-10-18 | Brooks Automation Us, Llc | Substrate process apparatus |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0917847A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0518284U (ja) * | 1991-08-21 | 1993-03-05 | セイコー精機株式会社 | 磁気浮上ステージ装置 |
JPH11142555A (ja) * | 1997-11-11 | 1999-05-28 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP4042073B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2008-02-06 | 株式会社ニコン | 平面型モータ、ステージ装置、及び露光装置 |
US6097114A (en) * | 1998-08-17 | 2000-08-01 | Nikon Corporation | Compact planar motor having multiple degrees of freedom |
JP4094769B2 (ja) * | 1999-05-18 | 2008-06-04 | 日本トムソン株式会社 | 可動コイル型リニアモータを内蔵したスライド装置 |
JP2002112526A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-04-12 | Nikon Corp | 平面モータ、ステージ位置決めシステム、露光装置 |
JP2003037992A (ja) * | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | リニア電磁型マイクロアクチュエータ |
US6891600B2 (en) * | 2002-06-12 | 2005-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2005253179A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2005
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-
2006
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0917847A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7982344B2 (en) | 2008-04-08 | 2011-07-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Planar pulse motor, exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR101313118B1 (ko) | 2010-06-07 | 2013-09-30 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 변위 장치, 리소그래피 장치 및 위치설정 방법 |
CN102758875A (zh) * | 2012-07-09 | 2012-10-31 | 哈尔滨工业大学 | 磁悬浮平衡质量框架 |
CN102758875B (zh) * | 2012-07-09 | 2014-04-09 | 哈尔滨工业大学 | 磁悬浮平衡质量框架 |
KR101574223B1 (ko) | 2014-04-21 | 2015-12-07 | 한국과학기술원 | 자기부상 구동 스테이지용 도체판의 제조방법 및 이를 통해 제조된 도체판 및 이를 포함하는 자기부상 구동 스테이지 |
KR101769591B1 (ko) * | 2016-02-15 | 2017-08-18 | 아주대학교 산학협력단 | 자기부상 받침대 |
KR20200012336A (ko) | 2018-07-27 | 2020-02-05 | 김종필 | 반도체 산업용 초정밀 가공플레이트 스테이지 |
US20220224255A1 (en) * | 2021-01-12 | 2022-07-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Transport system, processing system, and article manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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