JP2015230927A - 移動装置、荷電粒子線描画装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 固定子と可動子とを含む駆動手段を有する移動装置であって、駆動手段から周囲に漏れる磁場を低減するうえで有利な移動装置を提供することを目的とする。【解決手段】 第1の方向に移動可能な移動部材と、前記移動部材を駆動する駆動手段と、磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽する磁場遮蔽手段と、を備え、前記駆動手段は、固定子と、前記移動部材に連結された可動子と、を含み、前記磁場遮蔽手段は、前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子との間に配置された第1の板と、前記第1の板に連結され、前記第1の方向に沿う端部を有する一対の側板と、前記固定子に連結された第2の板と、を含み、前記第2の板は、前記移動部材の前記第1の方向への移動に応じた複数の位置で、前記第1の板と前記一対の側板とともに前記固定子の一部および可動子を囲むように、前記第1の方向に沿って配置されることを特徴とする。【選択図】 図3
Description
本発明は移動装置に関する。また、移動装置を備える荷電粒子線描画装置に関する。
従来から、フォトマスクの作成ツールの一つとして、電子線を基板に照射してパターンを描画する電子線描画装置が知られている。また、近年では、多数の電子線を同時に基板に照射するマルチビーム型の電子線描画装置により半導体デバイスを製造することも提案されている。
半導体デバイスを製造する場合には、従来に比べて、高い処理能力(スループット)が要求され、そのため、基板を移動させる移動装置の高速性も要求される。
従来のステッパやスキャナなどの光露光装置では、エアガイド機構を用いて移動部材を浮上させて移動部材の移動を案内することが一般的であった。しかしながら、電子線描画装置では、真空環境において電子線を基板に照射する必要があるため、信頼性の観点から、エアガイド機構を用いずに移動を案内することが望まれる。
特許文献1は、エアガイドを用いずに移動部材の移動を案内する露光装置(EUV光を用いた露光装置)を記載している。特許文献1に記載される露光装置は、粗動ステージと微動ステージを有し、ボイスコイルモータを用いて微動ステージを浮上させて移動を案内している。
特許文献1に記載される露光装置のボイスコイルモータは磁気シールドに覆われていない。そのため、特許文献1の構成を電子線描画装置の移動装置に適用した場合、ボイスコイルモータから生じる磁場が、基板に電子線を照射する際の照射精度(描画精度)に大きな影響を与えてしまう恐れがある。
また、ボイスコイルモータの固定子と可動子の各々を個別に磁気シールドで覆う場合、各要素からの磁場を完全に遮蔽しようとすると移動部材とともに移動するユニットの重量が大きくなってしまい、さらに、固定子と可動子の相互作用に干渉しないようにするには配置上の制約が大きい。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、固定子と可動子とを含む駆動手段を有する移動装置であって、駆動手段から周囲に漏れる磁場を低減するうえで有利な移動装置を提供することを目的とする。
本発明の移動装置は、第1の方向に移動可能な移動部材と、前記移動部材を駆動する駆動手段と、磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁場遮蔽手段と、を備え、前記駆動手段は、固定子と、前記移動部材に連結された可動子と、を含み、前記磁場遮蔽手段は、前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子との間に配置された第1の板と、前記第1の板に連結され、前記第1の方向に沿う端部を有する一対の側板と、前記固定子に連結された第2の板と、を含み、前記第2の板は、前記移動部材の前記第1の方向への移動に応じた複数の位置で、前記第1の板と前記一対の側板とともに前記固定子の一部および可動子を囲むように、前記第1の方向に沿って配置されることを特徴としている。
本発明によれば、固定子と可動子とを含む駆動手段を有する移動装置であって、駆動手段から周囲に漏れる磁場を低減するうえで有利な移動装置を提供することができる。
(電子線描画装置の構成)
図1には、本実施形態の電子線描画装置(荷電粒子線描画装置)100の概略構成が示されている。電子線描画装置100は、半導体デバイス製造工程の一つであるリソグラフィ工程において用いられる。図1において、鉛直方向をZ軸方向(第2の方向)とし、水平面内で互いに直交する2方向をX軸方向(第3の方向)、Y軸方向(第1の方向)とする。
図1には、本実施形態の電子線描画装置(荷電粒子線描画装置)100の概略構成が示されている。電子線描画装置100は、半導体デバイス製造工程の一つであるリソグラフィ工程において用いられる。図1において、鉛直方向をZ軸方向(第2の方向)とし、水平面内で互いに直交する2方向をX軸方向(第3の方向)、Y軸方向(第1の方向)とする。
電子線描画装置100は、チャンバ10と、電子線照射ユニット13と、ステージ装置50とを備える。
チャンバ10は、ステージ装置50の周囲の空間を外部の空間から分離する隔壁である。真空ポンプ11は、チャンバ10に接続され、チャンバ10内を排気する。真空ポンプ11は、例えば、クライオポンプやターボ分子ポンプである。チャンバ10および真空ポンプ11は、ステージ装置50の周囲に真空環境を形成する。
電子線照射ユニット13は、電子線を発生し、ウエハ(基板)上の領域に向けて複数の電子線を照射する。電子線照射ユニット13は、電子線を発生する電子銃(不図示)、電子銃からの電子線を複数の電子線に分割するアパーチャアレイ(不図示)、複数の電子線の各々のオンオフを制御する制御素子アレイ(不図示)、複数の電子線を偏向する偏向アレイ(不図示)を備え、これらは筐体13aに収納される。電子線照射ユニット13の構成は、この構成に限定されない。複数の電子線を用いてウエハ上にパターンを形成可能であればよく、例えば、制御素子アレイは反射型であってもよい。
ステージ装置(移動装置)50は、ウエハを所定の位置に位置決めする。ステージ装置50は、マウント12を介してチャンバ10の底面(あるいは床)上に支持されたベース1と、ベース1に対してX軸方向に移動可能な移動ユニットXMVと、移動ユニットXMVに対してY軸方向に移動な移動ユニットYMVと、を備える。マウント12は空気ばねを有し、チャンバ10の底面(あるいは床)からベース1に伝わる振動を低減する。マウント12は、ベース1の底面の4箇所に配置されている。
電子線描画装置100は、制御部60を備える。制御部60は、CPU、メモリ等を有する複数の回路基板を有し、これらの回路基板は制御ラックに収納される。また、制御部60は、電子線描画装置のシーケンスを制御する主制御部61と、装置を構成する各ユニットを制御するためのユニット制御部(図1では電子線照射ユニット13を制御する照射制御部62と、ステージ装置50を制御するステージ制御部63を図示している)とを有する。ステージ制御部63は、ドライバ(アンプ)、CPU、メモリ等を有し、移動ユニットXMV、YMVの移動を制御する。ステージ制御部63は主制御部61と通信可能であり、主制御部61からの情報を用いて移動ユニットXMV、YMVを制御する。
図2(a)は、移動ユニットXMV、移動ユニットYMVの上面図を示し、図2(b)は、図2(a)のA−A矢視図(一部の構成の図示を省略)を示す。図3は、移動ユニットYMV周辺の正面図を示す。図4は、図3のB−B矢視図(一部の構成の図示を省略)を示す。以下、これらの図面を参照しながら、ステージ装置50を構成する各ユニットの構成を説明する。
(移動ユニットXMVの構成)
図2(a)を参照しながら、移動ユニットXMVの構成を説明する。移動ユニットXMVは、天板2と、天板2の下面に設けられたリニアモータXLM1の可動子(不図示)と、天板2の上面に設けられたリニアモータYLM1、YLM2の固定子と、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の固定子と、リニアモータXLM2の固定子と、を有する。リニアモータXLM1の固定子は、ベース1上に、X軸方向に沿って配置される。移動ユニットXMVは、リニアモータXLM1が発生する推力によりX軸方向に移動可能である。移動ユニットXMVはリニアガイドXLGによってベース1上に支持され、リニアガイドは、移動ユニットXMVのX軸方向の移動を案内する。リニアガイドXLGは、転動ガイドあるいは転がり軸受と称されることもあり、ボール(鋼球)やローラーなどの転動体を用いたガイドである。
図2(a)を参照しながら、移動ユニットXMVの構成を説明する。移動ユニットXMVは、天板2と、天板2の下面に設けられたリニアモータXLM1の可動子(不図示)と、天板2の上面に設けられたリニアモータYLM1、YLM2の固定子と、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の固定子と、リニアモータXLM2の固定子と、を有する。リニアモータXLM1の固定子は、ベース1上に、X軸方向に沿って配置される。移動ユニットXMVは、リニアモータXLM1が発生する推力によりX軸方向に移動可能である。移動ユニットXMVはリニアガイドXLGによってベース1上に支持され、リニアガイドは、移動ユニットXMVのX軸方向の移動を案内する。リニアガイドXLGは、転動ガイドあるいは転がり軸受と称されることもあり、ボール(鋼球)やローラーなどの転動体を用いたガイドである。
また、移動ユニットXMVのX軸方向における位置は位置センサ(不図示)によって計測される。ステージ制御部63は、位置センサの出力と、主制御部からの情報にもとづいてリニアモータXLM1を駆動し、移動ユニットXMVの位置を制御する。位置センサとして、例えば、リニアエンコーダや干渉計が用いられる。
(移動ユニットYMVの構成)
図2(a)、図3を参照しながら、移動ユニットYMVの構成を説明する。移動ユニットYMVは、ウエハを搭載する天板3(移動部材)を有する。天板3上には、ウエハ保持面が形成されたウエハチャック4が取り付けられている。天板3の材質はケイ素鋼板やセラミックである。さらに、移動ユニットYMVは、X軸方向の端部から順に、リニアモータYLM1、YLM2の可動子と、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の可動子と、リニアモータXLM2の可動子と、を有する。これらのリニアモータの具体的な構成については後述する。
図2(a)、図3を参照しながら、移動ユニットYMVの構成を説明する。移動ユニットYMVは、ウエハを搭載する天板3(移動部材)を有する。天板3上には、ウエハ保持面が形成されたウエハチャック4が取り付けられている。天板3の材質はケイ素鋼板やセラミックである。さらに、移動ユニットYMVは、X軸方向の端部から順に、リニアモータYLM1、YLM2の可動子と、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の可動子と、リニアモータXLM2の可動子と、を有する。これらのリニアモータの具体的な構成については後述する。
移動ユニットYMVは、リニアモータYLM1、YLM2が発生する推力によりY軸方向に移動可能であり、リニアモータXLM2が発生する推力によりX軸方向に移動可能であり、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4が発生する推力によりZ軸方向に移動可能である。また、移動ユニットYMVは、リニアモータYLM1、YLM2が発生する推力の差に応じてθz方向(Z軸回りの回転方向)に移動可能であり、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4が発生する推力の差に応じてθx方向(X軸回りの回転方向)、θy方向(Y軸回りの回転方向)に移動可能である。
移動ユニットYMVの位置は干渉計を用いて計測される。天板3の上面には、移動ユニットYMVの位置を計測するためのミラーXBM、YBMが取り付けられている。ミラーXBMは、YZ平面に沿う反射面を有し、干渉計XIFからの計測光を反射し、反射光を干渉計XIFに導くように構成される。ミラーYBMは、XZ平面に沿う反射面を有し、干渉計YIF1、YIF2からの計測光を反射し、反射光を干渉計YIF1、YIF2に導くように構成される。干渉計XIF、YIF1、YIF2は、検出した光にもとづいて、移動ユニットYMVのX軸方向、Y軸方向、θz方向の位置を計測する。また、ミラーXBMは、その上面にXY平面に沿う反射面を有し、不図示の干渉計を用いて移動ユニットYMVのZ軸方向、θx方向、θy方向の位置を計測する。ステージ制御部63は、干渉計の出力と、主制御部からの情報にもとづいて各リニアモータを駆動し、移動ユニットYMVの位置を制御する。
また、移動ユニットYMVは、リニアモータ(駆動手段)YLM、ZLM、XLMからの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁気シールドユニット(磁場遮蔽手段)41、42、43、2の一部である上板41および側板42、43を有する。磁気シールドユニットについて具体的な構成は後述する。
さらに、移動ユニットYMVは、移動ユニットYMVを浮上支持するための浮上支持ユニットZSU1、ZSU2の一部である磁性体の部材32と、部材32に搭載された永久磁石ZM1、ZM2と、を有する。浮上支持ユニットZSU1、ZSU2について具体的な構成は後述する。
(リニアモータYLM1、YLM2の構成)
図2(a)、図3、図4を参照しながら、リニアモータ(駆動手段)YLM1、YLM2の構成を説明する。リニアモータYLM1とYLM2はX軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータYLM1の構成について説明し、リニアモータYLM2の構成についてはリニアモータYLM1と同様であるとして説明を省略する。
図2(a)、図3、図4を参照しながら、リニアモータ(駆動手段)YLM1、YLM2の構成を説明する。リニアモータYLM1とYLM2はX軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータYLM1の構成について説明し、リニアモータYLM2の構成についてはリニアモータYLM1と同様であるとして説明を省略する。
リニアモータYLM1は、可動子と固定子とを含む。可動子は、天板3の底面側に連結された磁石列(可動子)YMA1、YMA2を有し、固定子は、天板2の上面に設けられたコイル列(固定子)YCAを有する。
磁石列YMA1、YMA2は、所定の間隔を隔てて対向するように支持部材22、23、24に支持される。磁石列YMA1、YMA2はそれぞれY軸方向に配列された複数の永久磁石(磁石)を有する。各磁石列を構成する複数の永久磁石は、下面がN極である永久磁石と、下面がS極である永久磁石とを有し、N極とS極が交互に配置されるように構成される。本実施形態では各磁石列は4個の永久磁石を有するが、永久磁石の個数はこれに限定されない。また、磁石列YMA1を構成する永久磁石と磁石列YMA2を構成する永久磁石は、異極が対面するように構成される。
支持部材は、磁石列YMA1の上面に固定されたヨーク22と、磁石列YMA2の下面に固定されたヨーク23と、ヨーク22とヨーク23のX軸方向の両端を連結する一対の連結部材24とで構成される。これらのヨーク22、23は、軟鉄板であり、磁石列YMA1、YMA2間の磁束を強化する。
コイル列YCAは、Y方向を長手方向としている。コイル列YCAはY軸方向に配列された複数のコイルを有し、複数のコイルの各々は、X軸方向に沿う直線状の2つの導体部分を有し、複数のコイルは、Y軸方向において、磁石列YMA1を構成する永久磁石の配置に関連づけられたピッチで配置される。複数のコイルは、X軸方向の両端において支持部材21によって支持され、支持部材21は、Y軸方向を長手方向とし、Y軸方向の両端において天板2に固定される。
このような構成により、磁石列YMA1、YMA2によって形成される磁束と、コイルの導体部に流れる電流との相互作用により、移動ユニットYMV(天板3)にY軸方向の推力を付与する。
リニアモータYLM1、YLM2は、ステージ制御部63により制御される。本実施形態では、多相励磁駆動式(本実施形態では2相)により制御され、ドライバは各相のコイルに移動ユニットYMVのY軸方向の位置に応じた電流を供給する。また、ステージ制御部63は、移動ユニットYMVのY軸方向の位置に応じて、複数のコイルの中で励磁コイルを切り替える切り替え回路64(切り替え手段)を有する。切り替え回路は、磁石列YMA1、YMA2あるいは天板3に対向するコイルのみに通電し、これにより、推力に寄与しないコイルあるいは天板3により覆われていないコイルから磁場が生じないようにしている。
また、リニアモータYLM1、YLM2が発生する推力を異ならせることで、移動ユニットYMVをθz方向に駆動することができる。
コイル列YCA1のY軸方向の長さは、ウエハ保持面のY軸方向の寸法(本実施形態では300mmウエハ)の2倍以上であり、例えば、600mm以上1500mm未満である。また、ステージ装置のサイズの小型化、キャリブレーションや搬送等の移動ストロークの観点から、好適には、700mm以上1200mm未満である。
(リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の構成)
図2(a)、図2(b)、図3、図4を参照しながら、リニアモータ(駆動手段)ZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の構成を説明する。リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4はX軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータZLM1の構成について説明し、リニアモータZLM1、ZLM3、ZLM4の構成についてはリニアモータZLM1と同様であるとして説明を省略する。
図2(a)、図2(b)、図3、図4を参照しながら、リニアモータ(駆動手段)ZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の構成を説明する。リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4はX軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータZLM1の構成について説明し、リニアモータZLM1、ZLM3、ZLM4の構成についてはリニアモータZLM1と同様であるとして説明を省略する。
リニアモータZLM1は、可動子と固定子とを含む。可動子は、天板3の底面側に設けられた磁石列(可動子)ZMA1、ZMA2を有し、固定子は、天板2の上面に設けられたコイル(固定子)ZCを有する。
磁石列ZMA1、ZMA2は、所定の間隔を隔てて対向するように支持部材28、29、30に支持されている。各磁石列ZMA1、ZMA2はそれぞれZ軸方向に配列された複数の永久磁石(磁石)を有する。各磁石列を構成する永久磁石は、右側面(+X側の側面)がN極である永久磁石と、左側面(−X側の側面)がS極である永久磁石とを有する。本実施形態では各磁石列は2個の永久磁石を有する。また、磁石列ZMA1を構成する永久磁石と磁石列ZMA2を構成する永久磁石は、異極が対面するように構成される。
支持部材は、磁石列ZMA1の右側面に固定されたヨーク28と、磁石列ZMA2の左側面に固定されたヨーク29と、ヨーク28とヨーク29のZ軸方向の両端を連結する一対の連結部材30とで構成される。これらのヨーク28、29は軟鉄板であり、磁石列ZMA1、ZMA2間の磁束を強化する。
コイルZCは、Y軸方向を長手方向としている。コイルZCは支持部材により支持され、支持部材は、コイルZCのY軸方向の両端において移動ユニットXMVに固定される。コイルZCは、Y軸方向に沿う直線状の2つの導体部分を有する。2つの導体部分の各々は、Z軸方向に配列された磁石列ZMA1(ZMA2)を構成する2個の永久磁石の各々と対向するように配置される。
このような構成により、磁石列ZMA1、ZMA2によって形成される磁束が鎖交するコイルZC1の導体部への通電により、移動ユニットYMV(天板3)にZ軸方向の推力を付与する。リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4による天板3のZ軸方向における移動ストロークは、リニアモータYLM1、YLM2による天板3のY軸方向における移動ストロークよりも短い。
(リニアモータXLM2の構成)
図2(a)、図3、図4を参照しながら、リニアモータ(駆動手段)XLM2の構成を説明する。
図2(a)、図3、図4を参照しながら、リニアモータ(駆動手段)XLM2の構成を説明する。
リニアモータXLM2は、可動子と固定子とを含む。可動子は、天板3の底面に設けられた磁石列(可動子)XMA1、XMA2を有し、固定子は、天板2の上面に設けられたコイル(固定子)XCを有する。
磁石列XMA1、XMA2は、所定の間隔を隔てて対向するように支持部材25、26、27に支持されている。各磁石列XMA1、XMA2はそれぞれX軸方向に配列された複数の永久磁石(磁石)を有する。各磁石列を構成する永久磁石は、上面がN極である永久磁石と、下面がS極である永久磁石とを有する。本実施形態では各磁石列は2個の永久磁石を有する。また、磁石列XMA1を構成する永久磁石と磁石列XMA2を構成する永久磁石は、異極が対面するように構成される。
支持部材は、磁石列XMA1の上面に固定されたヨーク25と、磁石列XMA2の下面に固定されたヨーク26と、ヨーク25とヨーク26のX軸方向の両端を連結する一対の連結部材27とで構成される。これらのヨーク25、26は軟鉄板であり、磁石列ZMA1、ZMA2間の磁束を強化する。
コイルXCは、Y軸方向を長手方向としている。コイルXCは支持部材により支持され、支持部材は、コイルXCのY軸方向の両端において移動ユニットXMVに固定される。コイルXCは、Y軸方向に沿う直線状の2つの導体部分を有する。2つの導体部分の各々は、X軸方向に配列された磁石列XMA1(XMA2)を構成する2個の永久磁石の各々と対向するように配置される。
このような構成により、磁石列XMA1、XMA2によって形成される磁束が鎖交するコイルXCの導体部への通電により、移動ユニットYMV(天板3)にX軸方向の推力を付与する。リニアモータXLM2による天板3のX軸方向における移動ストロークは、リニアモータYLM1、YLM2による天板3のY軸方向における移動ストロークよりも短い。
(磁気シールドユニットの構成)
磁気シールドユニットは、天板3に連結され、天板3と可動子群との間に配置された上板(第1の板)41と、可動子群の両側において上板41に連結され、Y軸方向に沿う端部を有する一対の側板42、43と、固定子群(固定子)に連結された天板(第2の板)2と有する。上板41及び天板3は、XY平面に沿う平面を有し、YZ平面に沿う平面を有する。上板41、側板42、43、天板2は磁性材で構成される。磁性材として、例えば、鉄やニッケルなどの高透磁率材料が用いられる。
磁気シールドユニットは、天板3に連結され、天板3と可動子群との間に配置された上板(第1の板)41と、可動子群の両側において上板41に連結され、Y軸方向に沿う端部を有する一対の側板42、43と、固定子群(固定子)に連結された天板(第2の板)2と有する。上板41及び天板3は、XY平面に沿う平面を有し、YZ平面に沿う平面を有する。上板41、側板42、43、天板2は磁性材で構成される。磁性材として、例えば、鉄やニッケルなどの高透磁率材料が用いられる。
天板2は、移動ユニットYMV(あるいは可動子)のY軸方向の移動範囲にわたって、リニアモータYLM1、YLM2、ZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4、XLM2の固定子群(固定子)の下方に設けられる。つまり、天板2は、天板3のY軸方向への移動に応じた複数の位置で、上板41と側板42、43とともに、可動子群と、固定子群の一部(可動子群と固定子群の少なくとも一部)を囲むように配置される。複数の位置は、例えば、移動部材の移動範囲(移動ストローク)の両端における位置である。また、Y軸方向において、リニアモータYLMの可動子の寸法をy1とし、磁気シールドユニットの上板の寸法をy2とし、リニアモータYLMの固定子の寸法をy3とした場合に、y1<y2<y3の関係を満たすように構成されている。
また、天板2は、天板3のY軸方向への移動に応じた複数の位置で、側板42、43の端部と隙間を介して対向するように配置される。上板41のX軸方向およびY軸方向の寸法は、可動子群が配置される領域の寸法よりも大きい。
(浮上支持ユニットZSU1、ZSU2の構成)
図2(a)、図3を参照しつつ、浮上支持ユニットZSU1、ZSU2の構成を説明する。浮上支持ユニットZSU1とZSU2はX軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータZSU1の構成について説明し、リニアモータZSU2の構成についてはリニアモータZSU1と同様であるとして説明を省略する。
図2(a)、図3を参照しつつ、浮上支持ユニットZSU1、ZSU2の構成を説明する。浮上支持ユニットZSU1とZSU2はX軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータZSU1の構成について説明し、リニアモータZSU2の構成についてはリニアモータZSU1と同様であるとして説明を省略する。
浮上支持ユニットZSU1は、磁気シールドユニットの側板42に取り付けられた磁性部材31、永久磁石ZM1、ZM2と、天板2に支持部材により支持された磁性部材32と、を有する。
磁性部材32は、Y軸方向に沿って延びており、移動ユニットYMVのY軸方向の移動ストロークにわたって設けられている。磁性部材32には、XY平面に沿う平面部が形成されている。永久磁石ZM1は上面がN極であり、永久磁石ZM2は上面がS極である。これらの磁極と平面部は微小隙間を介して対向しており、両者の間に磁気ギャップに応じた磁気吸引力を発生させることができる。
本実施形態の浮上支持ユニットによれば、磁気ギャップの二乗に応じて変化する磁気吸引力を用いて移動ユニットYMVに浮上力を付与することができる。そのため、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4のみで移動ユニットYMVに浮上力を付与する場合に比べて、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4の発熱量を低減することができる。
なお、浮上支持ユニットZSU1、ZSU2を構成する永久磁石の個数、磁極の配置は本実施形態の構成に限定されるものではない。
従来の、大気雰囲気で露光を行うリソグラフィ装置では、長ストロークで移動する移動ユニットを静圧軸受により浮上させる構成が一般的である。しかしながら、電子線描画装置のように真空雰囲気で露光を行う場合には、ステージ装置の周囲に気体が漏れてしまうと真空度が低下してしまう恐れがある。本実施形態の浮上支持ユニットZSU1、ZSU2は、磁気吸引力を用いて移動ユニットに浮上力を付与しているため、装置の信頼性を向上させることが可能となる。
(描画シーケンスにおける移動ユニットXMV、YMVの動作)
図5を参照しながら、描画シーケンスにおける移動ユニットXMV、YMVの動作を説明する。以下に説明する描画シーケンスは制御部60により実行される。
図5を参照しながら、描画シーケンスにおける移動ユニットXMV、YMVの動作を説明する。以下に説明する描画シーケンスは制御部60により実行される。
電子線描画装置100に搬入され、ウエハチャック4の保持面に載置されたウエハWに対して、描画シーケンスが実行される。
ステージ制御部63は、複数の電子線をウエハWに照射しながらY軸方向に移動ユニットYMVを走査し、1回の走査が終了すると、移動ユニットXMVと移動ユニットYMVをともにX軸方向に移動し、再び複数の電子線をウエハWに照射しながらY軸方向(先の走査とは反対方向)に移動ユニットYMVを走査する。このように、ウエハW(天板2)をY軸方向に走査する動作とX軸方向に走査する動作とを交互に行う(繰り返す)ことにより、ウエハWの全面にパターンを形成することが可能となる。
以上のように、本実施形態の磁気シールドユニットは、移動部材に連結された上板41と、上板に連結された一対の側板42、43と、固定子に連結された天板3と、を有する。さらに、天板3は、移動部材のY軸方向への移動に応じた複数の位置で側板42、43とともに、可動子と、固定子の一部を囲んでいる。このような構成により、固定子および可動子を個別に磁気シールドで覆う構成にした場合に比べて移動ユニットの重量を小さくすることができ、さらに、可動子と固定子の配置上の自由度を高くすることが可能となる。
本明細書において、「連結」なる用語は、2つの物体が直接的に(2つの物体が接触している状態で)連結される形態に限定されず、2つの物体が間接的に(物体間に他の部材を介在させた状態で)連結されている形態も含む意味で使用される。
本実施形態の磁気シールドユニットは、Y軸方向に直交する所定の平面内で、リニアモータYLM1、YLM2、ZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4、XLM2の可動子を囲んでいるが、いずれかのリニアモータの可動子を囲むようにしてもよい。例えば、リニアモータXLM2、リニアモータZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4のみを天板2と天板3の間に配置し、磁気シールドユニットがこれらのリニアモータを囲むように構成してもよい。駆動方向が異なる複数のリニアモータを1つの磁気シールドユニットで囲むことにより、移動ユニットの重量をさらに小さくすることができ、可動子と固定子の配置上の自由度をさらに高くすることが可能となる。
本実施形態の磁気シールドユニットの一対の側板の下端部は、下板の上面に対向しているため、側板と下板の間を通過する磁場の漏れを低減することができる。
本実施形態の磁気シールドユニットは、上板および側板が一体で形成されているが、独立した上板と側板を締結や接着により接合してもよい。
本実施例では、天板2を磁気シールドユニットの下板としたが、天板2の上面に別途、磁気シールドユニットの下板(第2の板)を設けてもよい。この場合には、天板2を磁性体以外の材質で構成することが可能となり、剛性・重量・加工性の面での自由度が向上する。
[変形例]
図6を参照しながら、磁気シールドユニットの変形例を説明する。上述の実施形態とは、磁気シールドユニットの側板および下板の構成が異なる。
図6を参照しながら、磁気シールドユニットの変形例を説明する。上述の実施形態とは、磁気シールドユニットの側板および下板の構成が異なる。
本変形例の磁気シールドユニット41a、42a、43a、44a、2aは、天板3の底面に設けられた上板41aと、上板に連結された一対の側板42a、43aと、天板2aと有する。上板41a、側板42a、43a、天板2aは、それぞれ、上述の実施形態における上板41、側板42、43、天板2に対応し、特に言及しない点については上述の実施形態と同様であるものとする。
天板2aには、側板42a、43aに対向する位置に溝60が形成されている。側板42a、43の下端部は、溝60に挿入されている。
(電子線描画装置を用いた物品の製造方法)
本発明の物品(半導体集積回路素子、液晶表示素子、CD−RW、フォトマスク、MEMS等)の製造方法は、前述の実施形態の荷電粒子線描画装置を用いてレジストが塗布された基板上にパターン潜像を形成する工程と、パターン潜像が形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、他の周知の加工工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含んでも良い。
本発明の物品(半導体集積回路素子、液晶表示素子、CD−RW、フォトマスク、MEMS等)の製造方法は、前述の実施形態の荷電粒子線描画装置を用いてレジストが塗布された基板上にパターン潜像を形成する工程と、パターン潜像が形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、他の周知の加工工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含んでも良い。
以上、本実施形態の電子線描画装置について説明したが、電子線にかぎらずイオンビームなどを用いてもよい。つまり荷電粒子線を用いて描画を行う荷電粒子線描画装置において適用可能である。また、マルチビーム型に限定されず、単一ビームを用いた描画装置にも適用可能である。
本実施形態の移動装置は、半導体デバイス製造の用途に限らず、基板を移動させながら所定の処理をする装置であって、基板周辺の磁場変動を低減すべき装置に適用可能である。「基板」は、ウエハ、ガラス基板などであってもよく、材質や厚さは限定されない。
50 ステージ装置
3 天板
YLM1、YLM2 リニアモータ
ZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4 リニアモータ
XLM2 リニアモータ
XC コイル
YCA コイル列
ZC コイル
XMA1、XMA2 磁石列
YMA1、YMA2 磁石列
ZMA1、ZMA2 磁石列
22、23、25、26、28、29 ヨーク
24、27、30 連結部材
41、42、43、44 シールド板
100 電子線描画装置
3 天板
YLM1、YLM2 リニアモータ
ZLM1、ZLM2、ZLM3、ZLM4 リニアモータ
XLM2 リニアモータ
XC コイル
YCA コイル列
ZC コイル
XMA1、XMA2 磁石列
YMA1、YMA2 磁石列
ZMA1、ZMA2 磁石列
22、23、25、26、28、29 ヨーク
24、27、30 連結部材
41、42、43、44 シールド板
100 電子線描画装置
Claims (9)
- 第1の方向に移動可能な移動部材と、
前記移動部材を駆動する駆動手段と、
磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁場遮蔽手段と、を備え、
前記駆動手段は、固定子と、前記移動部材に連結された可動子と、を含み、
前記磁場遮蔽手段は、
前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子との間に配置された第1の板と、
前記可動子の両側において前記第1の板に連結され、前記第1の方向に沿う端部を有する一対の側板と、
前記固定子に連結された第2の板と、を含み、
前記第2の板は、前記移動部材の前記第1の方向への移動に応じた複数の位置で、前記第1の板と前記一対の側板とともに前記可動子および前記固定子の少なくとも一部を囲むように、前記第1の方向に沿って配置されることを特徴とする移動装置。 - 前記固定子はコイルを含み、前記可動子は磁石を含むことを特徴とする請求項1に記載の移動装置。
- 前記第2の板は、前記移動部材の前記第1の方向への移動に応じた複数の位置で、前記端部と隙間を介して対向するように配置されることを特徴とする請求項1または2に記載の移動装置。
- 前記駆動手段は、前記移動部材を前記第1の方向とは異なる第2の方向に駆動し、
前記駆動手段による前記移動部材の前記第2方向における移動ストロークは、前記移動部材の前記第1方向における移動ストロークよりも短いことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の移動装置。 - 前記コイルは、前記第1の方向を長手方向とするコイルであることを特徴とする請求項2に記載の移動装置。
- 前記駆動手段は、前記移動部材を前記第1の方向に駆動し、
前記コイルは、前記第1の方向に沿って配列された複数のコイルを含み、
前記移動部材の前記第1方向における位置に応じて、前記複数のコイルの中で励磁コイルを切り替える切り替え手段を備えることを特徴とする請求項2に記載の移動装置。 - 前記駆動手段は、前記移動部材を前記第1の方向とは異なる第2の方向に駆動する駆動手段と、前記移動部材を前記第1および第2の方向とは異なる第3の方向に駆動する駆動手段と、を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の移動装置。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の移動装置を用いて、前記移動部材を前記第1の方向に走査する動作と、前記移動部材を前記第2の方向に走査する動作と、を交互に行い、前記被処理体上にパターンを描画することを特徴とする荷電粒子線描画装置。
- 請求項8に記載された荷電粒子線描画装置を用いて感光剤が塗布された基板上にパターン潜像を描画する工程と、
前記パターン潜像が描画された前記基板を現像する工程と、
現像された基板を加工してパターンを有する物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
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