CN108475979B

CN108475979B - 致动器

Info

Publication number: CN108475979B
Application number: CN201780007566.9A
Authority: CN
Inventors: 铃木健一; 进士忠彦; 藤原良元
Original assignee: TDK Corp; Tokyo Institute of Technology NUC
Current assignee: TDK Corp; Tokyo Institute of Technology NUC
Priority date: 2016-01-22
Filing date: 2017-01-19
Publication date: 2020-03-20
Anticipated expiration: 2037-01-19
Also published as: JP6749346B2; WO2017126577A1; CN108475979A; US11557953B2; US20210175788A1; JPWO2017126577A1

Abstract

本发明提供一种致动器，其具备：包含将第一磁铁(21)和第二磁铁(22)在x方向上交替排列的第一排列部分(Lx)和将第一磁铁(21)和第二磁铁(22)在y方向上交替排列的第二排列部分(Ly)的磁铁结构体(20)和第一及第二配线(30、40)。第一配线(30)在y方向上横穿包含在第一排列部分(Lx)的第一及第二磁铁(21、22)，第二配线(40)在x方向上横穿包含在第二排列部分(Ly)的第一及第二磁铁(21、22)。根据本发明，由于具备上述的结构，从而通在第一及第二配线(30、40)流通电流，能够实现二维的动作。而且，由于第一及第二配线(30、40)是横穿磁铁的平面的配线，因此，能够实现低高度化。

Description

致动器

技术领域

本发明涉及一种致动器，尤其是涉及一种可以二维动作的致动器。

背景技术

作为使用电磁力的致动器，通常是能够在1轴方向上往复运动的致动器，但在专利文献1中记载有能够通过将磁铁排列成矩阵状而进行二维动作的致动器。专利文献1中记载的致动器对1个磁铁分配4个线圈，通过控制在这些线圈中流通的电流的方向来实现二维动作。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平11－196560号公报

非专利文献

非专利文献1:薄膜钕磁铁的交替磁化和使用其的MEMS线性电动机的试作(精密工程杂志,Vol.79,No8,2013,p773-p778)

发明内容

发明所要解决的问题

但是，由于专利文献1所记载的致动器对1个磁铁分配4个线圈，因此，存在难以小型化的问题。尤其是难以缩小相对于驱动平面垂直的厚度方向上的尺寸，不适宜如便携式设备那样要求低高度化的用途。

作为可以低高度化的致动器，已知有非专利文献1记载的线性电动机。但是，非专利文献1记载的线性电动机仅在1轴方向上往复运动，不能进行二维动作。

因此，本发明的目的在于，提供一种能够二维动作的低高度型的致动器。

用于解决问题的技术方案

本发明提供一种致动器，其特征在于，具备：磁铁结构体，其包含位于在第一方向及与所述第一方向正交的第二方向上延伸的第一平面的磁极面为N极的多个第一磁铁和位于所述第一平面的磁极面为S极的多个第二磁铁；第一配线，其设置在与所述第一平面平行的第二平面上；第二配线，其设置在与所述第一平面平行的第三平面上，所述磁铁结构体包含：将所述第一磁铁和所述第二磁铁在所述第一方向上交替排列的第一排列部分和将所述第一磁铁和所述第二磁铁在所述第二方向上交替排列的第二排列部分，所述第一配线在所述第二方向上横穿包含在所述第一排列部分的所述第一及第二磁铁的至少一部分，所述第二配线在所述第一方向上横穿包含在所述第二排列部分的所述第一及第二磁铁的至少一部分。

根据本发明，能够通过在第一及第二配线流通的电流，实现二维动作。而且，由于第一及第二配线是横穿磁铁的平面的配线，因此，能够实现低高度化。

在本发明中，优选如下构成，所述第一配线包含：在所述第二方向上横穿所述第一磁铁的第一配线部分和在所述第二方向横穿所述第二磁铁的第二配线部分，所述第二配线包含：在所述第一方向横穿所述第一磁铁的第三配线部分和在所述第一方向横穿所述第二磁铁的第四配线部分，在所述第一配线部分和所述第二配线部分流通相互相反方向的电流，在所述第三配线部分和所述第四配线部分流通相互相反方向的电流。据此，能够得到更大的驱动力。

在本发明中，优选的是，所述多个第一磁铁和所述多个第二磁铁在所述第一及第二的方向上排列成矩阵状。据此，能够将第一排列部分和第二排列部分共通。

在本发明中，所述第二平面和所述第三平面也可以相互重叠。据此，能够将致动器的平面尺寸小型化。或者，所述第二平面和所述第三平面也可以为同一平面。据此，能够使用单层的配线层。

在本发明中，优选的是，所述第一配线在所述第二平面上形成为蜿蜒状，所述第二配线在所述第三平面上形成为蜿蜒状。据此，第一及第二配线能够横穿更多的磁铁，因此，能够得到大的驱动力。

优选的是，本发明的致动器还具备设置在与所述第一平面平行的第四平面上的第三配线，所述第三配线包含俯视图中围绕所述第一磁铁周围的至少一部分的第五配线部分。据此，通过使电流在第一～第三配线流通，能够实现三维动作。

这种情况下，优选如下构成，所述第三配线还包含俯视图中围绕所述第二磁铁周围的至少一部分的第六配线部分，在所述第五配线部分和所述第六配线部分流通向相互相反方向环绕的电流。据此，能够得到更大的驱动力。

在本发明中，优选的是，在所述第一及第二方向上的所述第一及第二磁铁的大小优选为1mm以下，在与所述第一及第二方向正交的第三方向上的所述磁铁结构体的厚度优选为1mm以下。据此，能够提供非常小型且低高度型的致动器。

优选的是，本发明的致动器还具备支撑所述磁铁结构体的支撑基板，所述支撑基板的热扩散率比所述磁铁结构体的热扩散率低。据此，容易制作小型且薄的磁铁结构体。

优选的是，本发明的致动器还具备光学透镜和支撑所述第一及第二配线的电路基板，所述光学透镜固定于所述电路基板及所述磁铁结构体的任一方。据此，能够作为照相机抖动修正用的致动器使用。

发明效果

这样，根据本发明，能够提供一种可以二维动作的低高度型的致动器。

附图说明

图1是表示本发明第一实施方式的致动器10A的主要部分的结构的大致俯视图。

图2是沿着图1所示的A－A线的大致剖视图。

图3是第一配线30的俯视图。

图4是第二配线40的俯视图。

图5是用于说明在第一配线30流通的电流给予磁铁结构体20的影响的图。

图6是用于说明在第二配线40流通的电流给予磁铁结构体20的影响的图。

图7是用于说明磁铁结构体20的制造方法的工序图。

图8是表示本发明的第二实施方式的致动器10B的主要部分的结构的大致俯视图。

图9是沿着图8所示的B－B线的大致剖视图。

图10是第三配线50的俯视图。

图11是用于说明在第三配线50流通的电流给予磁铁结构体20的影响的图。

图12是表示第三实施方式的致动器10C的主要部分的结构大致立体图。

图13是表示使用构成支撑基板23的玻璃的一部分作为光学透镜70的例的示意图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明优选的实施方式详细地进行说明。

＜第一实施方式＞

图1是表示本发明的第一实施方式的致动器10A的主要部分的结构的大致俯视图。另外，图2是沿着图1所示的A－A线的大致剖视图。

如图1及图2所示，本实施方式的致动器10A具备由在x方向及y方向上排列成矩阵状的多个第一及第二磁铁21、22构成的磁铁结构体20和相对于磁铁结构体20在z方向上重叠的第一配线30及第二配线40。

磁铁结构体20设置在由玻璃等构成的支撑基板23上，磁极面位于在xy方向上延伸的第一平面S1。另外，考虑附图的观察容易度，在图1中未图示支撑基板23。构成磁铁结构体20的磁铁21、22中，第一磁铁21位于第一平面S1的磁极面为N极，相反，第二磁铁22位于第一平面S1的磁极面为S极。而且，这些第一磁铁21和第二磁铁22矩阵状排列成方格图案。即，在x方向延伸的各行构成将第一磁铁21和第二磁铁在x方向上交替排列的第一排列部分Lx，在y方向延伸的各列构成将第一磁铁21和第二磁铁在y方向上交替排列的第二排列部分Ly。

如图2所示，在本实施方式中，邻接的第一磁铁21和第二磁铁22经由切缝SL分离，该切缝SL到达支撑基板23的表层。在本发明中，这样的切缝SL并非必须，但如后述，在磁铁结构体20的制造工序中，形成这样的切缝SL是有利的。另外，在未形成切缝SL的情况下，支撑基板23也不是必须的。

第一配线30及第二配线40层叠在电路基板60上。电路基板60的主面构成与第一平面S1平行的第二平面S2，第一配线30形成于电路基板60的主面上、即第二平面S2。第一配线30由绝缘膜61覆盖。绝缘膜61的表面构成与第一平面S1平行的第三平面S3，第二配线40形成于绝缘膜61的表面上、即第三平面S3。第二配线40由绝缘膜62覆盖。这样，第一配线30和第二配线40以在z方向上相互重叠的方式层叠在电路基板60上。

图3是表示抽出第一配线30的俯视图。在图3中，为了明确与磁铁结构体20的平面的位置关系，还表示了第一及第二磁铁21、22的位置。该点在后述的图4～图6、图10及图11中是相同的。

如图3所示，第一配线30是可以一笔写下的1根配线，具有蜿蜒状蛇行的平面形状。更具体地说明，第一配线30包含：在y方向上横穿第一磁铁21的第一配线部分31、在y方向上横穿第二磁铁22的第二配线部分32、以连接两者的方式在x方向延伸的连接部分33。

根据该结构，当在第一配线30流通电流时，在第一配线部分31和第二配线部分32流通相互相反方向的电流。在图3所示的例中，当从第一配线30的一端30a向另一端30b流通电流时，在第一配线部分31向下方向(－y方向)流通电流，在第二配线部分32向上方向(+y方向)流通电流。

图4是抽出第二配线40表示的俯视图。

如图4所示，第二配线40是可以一笔写下的1根配线，具有蜿蜒状蛇行的平面形状。更具体地说明，第二配线40包含：在x方向上横穿第一磁铁21的第三配线部分41、在x方向上横穿第二磁铁22的第四配线部分42、以连接两者的方式在y方向延伸的连接部分43。

根据该结构，当在第二配线40流通电流时，在第三配线部分41和第四配线部分42流通相互相反方向的电流。在图4所示的例中，当从第二配线40的一端40a向另一端40b流通电流时，在第三配线部分41向右方向(+x方向)流通电流，在第四配线部分42向左方向(－x方向)流通电流。

如图5所示，当在第一配线30流通电流I1或I2时，x方向的洛伦兹力F1或F2在磁铁结构体20和第一配线30之间起作用。

具体而言，在第一配线30流通电流I1的情况下，由于相对于第一磁铁21，电流的方向为下方向(－y方向)，因此，在第一配线30上作用右方向(+x方向)的洛伦兹力F1。另一方面，由于相对于第二磁铁22，电流的方向为上方向(+y方向)，因此，在第一配线30上作用右方向(+x方向)的洛伦兹力F1。即，相对于第一及第二磁铁21、22的任一个，均在第一配线30上作用右方向(+x方向)的洛伦兹力F1。

相反，在第一配线30流通电流I2的情况下，由于相对于第一磁铁21电流的方向为上方向(+y方向)，因此，在第一配线30上作用左方向(－x方向)的洛伦兹力F2。另一方面，由于相对于第二磁铁22电流的方向为下方向(－y方向)，因此，在第一配线30上作用左方向(－x方向)的洛伦兹力F2。即，相对于第一及第二磁铁21、22的任一个，均在第一配线30上作用左方向(－x方向)的洛伦兹力F2。

因此，通过流通电流I1或I2，能够使磁铁结构体20和第一配线30的x方向的相对位置关系变化。变化的速度由电流I1或I2的大小控制。

如图6所示，当在第二配线40流通电流I3或I4时，y方向的洛伦兹力F3或F4在磁铁结构体20和第二配线40之间起作用。

具体而言，在第二配线40流通电流I3的情况下，由于相对于第一磁铁21，电流的方向为右方向(+x方向)，因此，在第二配线40上作用上方向(+y方向)的洛伦兹力F3。另一方面，由于相对于第二磁铁22，电流的方向为左方向(－x方向)，因此，在第二配线40上作用上方向(+y方向)的洛伦兹力F3。即，相对于第一及第二磁铁21、22的任一个，均在第二配线40上作用上方向(+y方向)的洛伦兹力F3。

相反，在第二配线40流通电流I4的情况下，由于相对于第一磁铁21，电流的方向为左方向(－x方向)，因此，在第二的配线40上作用下方向(－y方向)的洛伦兹力F4。另一方面，由于相对于第二磁铁22，电流的方向为右方向(+x方向)，因此，在第二配线40上作用下方向(－y方向)的洛伦兹力F4。即，相对于第一及第二磁铁21、22的任一个，均在第二配线40上作用下方向(－y方向)的洛伦兹力F4。

因此，通过流通电流I3或I4，能够使磁铁结构体20和第二配线40的y方向的相对的位置关系变化。变化的速度由电流I3或I4的大小控制。

而且，由于第一配线30和第二配线40均形成在电路基板60上，因此，能够通过电流I1～I4使磁铁结构体20和电路基板60的平面的位置关系变化。因此，如果将电路基板60固定在预定的框体等，则能够通过电流I1～I4二维地驱动磁铁结构体20。相反，如果将磁铁结构体20固定于预定的框体等，则能够通过电流I1～I4二维地驱动电路基板60。

没有特别限定的，但本实施方式的致动器10A能够作为装入智能手机的照相机的抖动修正用的致动器来使用。这种情况下，如果将磁铁结构体20及电路基板60的任一方固定于智能手机的框体，将另一方固定于照相机的光学透镜，并且，通过内装于智能手机的加速度传感器等将得到的抖动信号变换为电流I1～I4，则能够根据抖动的方向及大小，在抵消此的方向上驱动光学透镜。

图7是用于说明磁铁结构体20的制造方法的工序图。

首先，如图7(a)所示，在由玻璃等构成的支撑基板23上粘接块状的磁铁20a。没有特别限定，但作为磁铁20a优选使用各向异性烧结钕磁铁。易磁化轴为厚度方向(z方向)。磁铁20a的厚度受装入本实施方式的致动器10A的设备限制。例如，在为了装入智能手机的照相机的抖动修正用而驱动光学透镜的用途中，要求非常地薄，因此，必然需要使用薄的磁铁20a。在这样的用途中，磁铁20a的厚度为1mm以下，例如，限制为500μm左右。在磁铁20a的厚度为500μm左右的情况下，只要支撑基板23的厚度为700μm左右即可。但，磁铁20a的表层部分的矫顽力低，因此，认为在使用各向异性烧结钕磁铁的情况下，难以使其厚度低于200μm。

接着，如图7(b)所示，通过在磁铁20a上形成切缝SL，分割成分别成为第一及第二磁铁21、22的多个块21a、22a。作为切缝SL的形成方法，能够使用切割法或电火花线切割加工法等。作为切缝SL的深度，优选达到支撑基板23的表层的深度，以使块21a和块22a完全分离。关于块21a、22a的尺寸，没有特别限定，但为了通过降低反磁场的影响而获得更强的磁力，优选尽可能小。但是，如上述，磁铁20a的表层部分的矫顽力低，因此，当将磁铁20a过于细的分割，相反矫顽力降低。若考虑这点，则块21a、22a的尺寸优选与磁铁20a的厚度同程度。即，优选将长宽比设为1左右。例如，在磁铁20a的厚度为500μm左右的情况下，关于x方向及y方向的尺寸，只要为500μm左右即可。由此，磁铁20a被分割为作为500μm见方的立方体的块21a、22a。

接着，如图7(c)所示，将多个块21a、22a在z方向上磁化。优选进行磁化直到通过施加脉冲磁场使块21a、22a磁饱和。

接着，如图7(d)，通过对成为第二磁铁22的块22a选择性地照射激光束24而局部加热，使该块22a的矫顽力降低。通过激光束24赋予的热一定程度的传导到成为第一磁铁21的块21a，但在平面方向上通过切缝SL分离，因此，热的传导少。另外，通过使用如玻璃那种比烧结磁铁热扩散率低的材料作为支撑基板23的材料，能够最小限地抑制经由支撑基板23的热传导。由此，维持块21a的矫顽力，同时能够选择地降低块22a的矫顽力。

如图7(e)所示，如果之后自然冷却，则从块21a的漏磁通通过块22a，通过该漏磁通使块22a向反方向磁化。由此，实现交替磁化，如图7(f)所示，能够得到将第一及第二磁铁21、22交替排列的磁铁结构体20。

而且，如果以使制作的磁铁结构体20的第一平面S1与电路基板60的第二及第三平面S2、S3面对面的方式将两者滑动自由地支撑在平面方向上，则本实施方式的致动器10A完成。

这样，由于本实施方式的致动器10A由设置在支撑基板23上的磁铁结构体20和设置在电路基板60上的平面的第一及第二配线30、40构成，因此，能够在非常薄型的同时进行二维的动作。

＜第二实施方式＞

图8是表示本发明的第二实施方式的致动器10B的主要部分的结构的大致俯视图。另外，图9是沿着图8所示的B－B线的大致剖视图。

如图8及图9所示，本实施方式的致动器10B在追加有相对于磁铁结构体20在z方向上重叠的第三配线50这一点上，与第一实施方式的致动器10A不同。其它基本结构与第一实施方式的致动器10A相同，因此，在相同的要素中添加相同的符号，并省略重复的说明。

第三配线50层叠在电路基板60上。具体而言，绝缘膜62的表面构成与第一平面S1平行的第四平面S4，第三的配线50形成在绝缘膜62的表面上、即第四平面S4。第三配线50由绝缘膜63覆盖。这样，第一～第三配线30、40、50层叠在电路基板60上以在z方向上相互重叠。

图10是抽出第三配线50表示的俯视图。

如图10所示，第三配线50是可一笔写下的1根配线，具有蜿蜒状蛇行的平面形状。更具体地说明，第三配线50包含在俯视图中围绕第一磁铁21的周围的一部分的第五配线部分51和在俯视图中围绕第二磁铁22的周围的一部分的第六配线部分52。另外，由于第三配线50为蜿蜒状，因此，难以在俯视图中环绕第一磁铁21或第二磁铁22的整个周围，如图10所示，沿着2边转1/2圈的情况及沿着3边转3/4圈的情况有很多。

而且，当在第三配线50流通电流时，在第五配线部分51和第六配线部分52流通在相互相反方向环绕的电流。在图10所示的例中，当从第三配线50的一端50a向另一端50b流通电流时，在第五配线部分51流通向右旋转(顺时针转)的电流，在第六配线部分52流通向左旋转(逆时针转)的电流。

当在第三配线50流通电流I5或I6时，在第五配线部分51和第六配线部分52包围的区域产生向z方向贯通的磁通量。

具体而言，在第三配线50流通电流I5的情况下，在第五配线部分51包围的区域产生向－z方向的磁通量，在第六配线部分52包围的区域产生向+z方向的磁通量。而且，由于第五配线部分51在俯视图中设置在围绕第一磁铁21的位置，因此，被第一磁铁21吸引，并在第三配线50上作用上方向(+z方向)的吸引力F5。另一方面，由于第六配线部分52在俯视图中设置在围绕第二磁铁22的位置，因此，被第二磁铁22吸引，并在第三配线50上作用上方向(+z方向)的吸引力F5。即，相对于第一及第二磁铁21、22的任一个，均在第三配线50上作用上方向(+z方向)的吸引力F5。

相反，在第三配线50流通电流I6的情况下，在第五配线部分51包围的区域产生向+z方向的磁通量，在第六配线部分52包围的区域产生向－z方向的磁通量。而且，由于第五配线部分51在俯视图中设置在围绕第一磁铁21的位置，因此，与来自第一磁铁21的磁通量排斥，并在第三配线50作用下方向(－z方向)的排斥力F6。另一方面，由于第六配线部分52在俯视图中设置在围绕第二磁铁22的位置，因此，与来自第二磁铁22的磁通量排斥，并在第三配线50作用下方向(－z方向)的排斥力F6。即，相对于第一及第二磁铁21、22的任一个，均在第三配线50作用下方向(－z方向)的排斥力F6。

因此，通过流通电流I5或I6，能够使磁铁结构体20和第三配线50的z方向的相对的位置关系变化。变化的速度能够通过电流I5或I6的大小控制。

而且，由于第一～第三配线30～50均形成在电路基板60上，因此，能够通过电流I1～I4使磁铁结构体20和电路基板60的平面的位置关系变化，并且，能够通过电流I5、I6使磁铁结构体20和电路基板60的距离变化。因此，如果将电路基板60固定于预定的框体等，则能够通过电流I1～I6三维地驱动磁铁结构体20。相反，如果将磁铁结构体20固定于预定的框体等，则能够通过电流I1～I6三维地驱动电路基板60。

没有特别限定，本实施方式的致动器10B能够作为装入智能手机的照相机的抖动修正用兼自动聚焦用的致动器来使用。这种情况下，将磁铁结构体20及电路基板60的任一方固定于智能手机的框体，将另一方固定于照相机的光学透镜，并且，如果将抖动信号变换为电流I1～I4，将聚焦信号变换为电流I5、I6，则能够进行抖动修正，并且，根据焦点的位置驱动光学透镜，可以实现自动聚焦。

＜第三实施方式＞

图12是表示第三实施方式的致动器10C的主要部分的结构的大致立体图。

如图12所示，本实施方式的致动器10C具有磁铁结构体20及电路基板60的中央部挖空成圆形的形状，在磁铁结构体20的中央部嵌入光学透镜70。这种情况下，电路基板60固定于未图示的框体。磁铁结构体20和光学透镜70也可以通过粘接剂等固定，如图13所示，使用构成支撑基板23的玻璃的一部分就这样作为光学透镜70，由此，也可以将两者一体化。

在电路基板60上形成有第一配线30及第二配线40，但在本实施方式中，第一配线30和第二配线40形成在电路基板60上的不同的平面位置，因此，两者构成相同平面。具体而言，在电路基板60的区域60A、60B形成有蜿蜒状的第一配线30，在电路基板60的区域60C、60D形成有蜿蜒状的第二配线40。

而且，在与电路基板60的区域60A、60B重叠的磁铁结构体20的区域20A、20B中，将第一磁铁21和第二磁铁22在x方向上交替排列而构成第一排列部分Lx。另一方面，在与电路基板60的区域60C、60D重叠的磁铁结构体20的区域20C、20D中，将第一磁铁21和第二磁铁22在y方向上交替排列而构成第二排列部分Ly。

根据该结构，本实施方式的致动器10C与第一实施方式的致动器10A相同，通过在第一及第二配线30、40流通电流I1～I4，能够控制相对于电路基板60的光学透镜70的二维的位置关系。即，作为照相机的抖动修正用的致动器起作用。

这样，在本发明中，第一配线30和第二配线40不需要在z方向上重叠，这些也可以形成在同一平面上。这种情况下，能够将形成在电路基板60上的配线层设为单层构造，因此，能够使电路基板60的制造成本降低。

此外，在图12所示的例中，在磁铁结构体20的中央部嵌入光学透镜70，但也可以在电路基板60的中央部嵌入光学透镜70代替此。这种情况下，只要将磁铁结构体20固定于未图示的框体即可。进而，也可以在磁铁结构体20的中央部和电路基板60的中央部的两方嵌入光学透镜70。

以上，对本发明优选的实施方式进行了说明，但本发明不限定于上述的实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内可以进行各种变更，不用说这些也包含在本发明的范围内。

例如，在上述实施方式中，第一及第二配线30、40分配给所有第一及第二磁铁21、22，但在本发明中，不需要成为这样的结构。因此，第一配线30只要在y方向上横穿构成第一排列部分Lx的第一磁铁21及第二磁铁的至少一部分即可，第二配线40只要在x方向上横穿构成第二排列部分Ly的第一磁铁21及第二磁铁的至少一部分即可。第三配线50也一样，只要围绕第一及第二磁铁21、22的一部分即可。

符号说明

10A～10C 致动器

20 磁铁结构体

20A～20D 区域

20a 块状的磁铁

21 第一磁铁

22 第二磁铁

21a、22a 块

23 支撑基板

24 激光束

30 第一配线

30a 第一配线的一端

30b 第一配线的另一端

31 第一配线部分

32 第二配线部分

33 连接部分

40 第二配线

40a 第二配线的一端

40b 第二配线的另一端

41 第三配线部分

42 第四的配线部分

43 连接部分

50 第三配线

50a 第三配线的一端

50b 第三配线的另一端

51 第五线部分

52 第六配线部分

60 电路基板

60A～60D 区域

61～63 绝缘膜

70 光学透镜

F1～F4 洛伦兹力

F5 吸引力

F6 排斥力

I1～I6 电流

Lx 第一排列部分

Ly 第二排列部分

S1 第一平面

S2 第二平面

S3 第三平面

S4 第四平面

SL 切缝

Claims

1.一种致动器，其特征在于，

具备：

磁铁结构体，其包含位于在第一方向及与所述第一方向正交的第二方向上延伸的第一平面的磁极面为N极的多个第一磁铁和位于所述第一平面的磁极面为S极的多个第二磁铁；

第一配线，其设置在与所述第一平面平行的第二平面上；以及

第二配线，其设置在与所述第一平面平行的第三平面上，

所述磁铁结构体包含：将所述第一磁铁和所述第二磁铁在所述第一方向上交替排列的第一排列部分和将所述第一磁铁和所述第二磁铁在所述第二方向上交替排列的第二排列部分，

所述第一配线在所述第二方向上横穿包含于所述第一排列部分的所述第一及第二磁铁的至少一部分，

所述第二配线在所述第一方向上横穿包含于所述第二排列部分的所述第一及第二磁铁的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的致动器，其特征在于，

所述第一配线包含：在所述第二方向上横穿所述第一磁铁的第一配线部分和在所述第二方向上横穿所述第二磁铁的第二配线部分，

所述第二配线包含在所述第一方向上横穿所述第一磁铁的第三配线部分和在所述第一方向上横穿所述第二磁铁的第四配线部分，

在所述第一配线部分和所述第二配线部分流通相互相反方向的电流，

在所述第三配线部分和所述第四配线部分流通相互相反方向的电流。

3.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

所述多个第一磁铁和所述多个第二磁铁在所述第一及第二方向上排列成矩阵状。

4.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

所述第二平面和所述第三平面相互重叠。

5.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

所述第二平面和所述第三平面为相同平面。

6.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

所述第一配线在所述第二平面上形成为蜿蜒状，所述第二配线在所述第三平面上形成为蜿蜒状。

7.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

还具备设置在与所述第一平面平行的第四平面上的第三配线，

所述第三配线包含俯视图中围绕所述第一磁铁的周围的至少一部分的第五配线部分。

8.根据权利要求7所述的致动器，其特征在于，

所述第三配线还包含俯视图中围绕所述第二磁铁的周围的至少一部分的第六配线部分，

在所述第五配线部分和所述第六配线部分流通向相互相反方向环绕的电流。

9.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

所述第一及第二方向上的所述第一及第二磁铁的大小为1mm以下。

10.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

与所述第一及第二方向正交的第三方向上的所述磁铁结构体的厚度为1mm以下。

11.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

还具备支撑所述磁铁结构体的支撑基板，

所述支撑基板的热扩散率比所述磁铁结构体的热扩散率低。

12.根据权利要求1或2所述的致动器，其特征在于，

还具备：

光学透镜；和

支撑所述第一及第二配线的电路基板，

所述光学透镜固定于所述电路基板及所述磁铁结构体的任一方。