JP3749882B2 - リソグラフィ装置および前記装置で用いるモータ - Google Patents
リソグラフィ装置および前記装置で用いるモータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP3749882B2 JP3749882B2 JP2002237732A JP2002237732A JP3749882B2 JP 3749882 B2 JP3749882 B2 JP 3749882B2 JP 2002237732 A JP2002237732 A JP 2002237732A JP 2002237732 A JP2002237732 A JP 2002237732A JP 3749882 B2 JP3749882 B2 JP 3749882B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet
- main
- auxiliary
- magnets
- projection apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/035—DC motors; Unipolar motors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
- H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
- H02K41/035—DC motors; Unipolar motors
- H02K41/0352—Unipolar motors
- H02K41/0354—Lorentz force motors, e.g. voice coil motors
- H02K41/0356—Lorentz force motors, e.g. voice coil motors moving along a straight path
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Linear Motors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン形成するように使用されるパターン形成手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するための投影システムと、
モータの第1部分と装置の機械フレームとの間に少なくとも1つの方向の長距離運動に渡る力を発生させるための長行程モータと、モータの前記第1部分と第2部分との間に少なくとも1つの方向の短距離運動に渡る力を発生させ、前記第2部分は支持構造または基板に接続されるローレンツ駆動装置とを備えるモータとを備えるリソグラフィ投影装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ここで使用されるような「パターン形成手段」という用語は、基板の目標部分に作成すべきパターンに対応するパターン形成された断面を、入射放射ビームに与えるために使用することができる手段のことを言うものとして、広く解釈すべきである。また、用語「光弁」は、この背景で使用することができる。一般に、前記のパターンは、集積回路または他のデバイスのような目標部分に作られるデバイス内の特定の機能層に対応する(下を参照されたい)。そのようなパターン形成手段の実施例は、次のものを含む。すなわち、
マスク。マスクの概念は、リソグラフィではよく知られており、様々な混成マスクの種類はもちろんのこと、2進位相シフト、交番位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスクの種類が含まれる。そのようなマスクを放射ビーム内に配置することで、マスクのパターンに応じて、マスクに当る放射の選択的な透過(透過マスクの場合)または反射(反射マスクの場合)が起こる。マスクの場合、支持構造は一般にマスク・テーブルであり、このマスク・テーブルによって、マスクは、確実に入射放射ビーム内の所望の位置に保持することができるようになり、さらに、望むならば、マスクをビームに対して移動させることができるようになる。
プログラム可能ミラー・アレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス指定可能表面である。そのような装置の基本原理は、(例えば)反射表面のアドレス指定された領域は入射光を回折光として反射するが、アドレス指定されない領域は入射光を非回折光として反射する。適当なフィルタを使用して、前記の非回折光を、反射ビームからフィルタ除去して、後に回折光だけを残すことができる。このようにして、マトリックス・アドレス指定可能表面のアドレス指定パターンに従って、ビームはパターン形成されるようになる。必要なマトリックス・アドレス指定は、適当な電子的な手段を使用して行うことができる。ここで言及したようなミラー・アレイについて、例えば、米国特許第5,296,891号および米国特許第5,523,193号からより多くの情報を収集することができる。これらは参照して本明細書に組み込む。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記の支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具体化することができ、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
プログラム可能LCDアレイ。そのような構造の実施例は、米国特許第5,229,872号に与えられている。この特許は、参照して本明細書に組み込む。上記のように、この場合の支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具体化することができ、それは、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
簡単にするために、本明細書の残りは、ある場所で、特別に、マスクおよびマスク・テーブルを含む実施例に向けられる。しかし、そのような例で述べる一般的な原理は、上で述べたようなパターン形成手段のより広い背景の中で理解すべきである。
【0003】
リソグラフィ投影装置は、例えば、集積回路(IC)の製造で使用することができる。そのような場合、パターン形成手段は、ICの個々の層に対応する回路パターンを生成することができる。このパターンの像が、放射敏感材料(レジスト)の層で覆われた基板(シリコン・ウェーハ)上の目標部分(例えば、1つまたは複数のダイで構成される)に形成される。一般に、単一のウェーハは全体として網の目のような隣接する目標部分を含み、この隣接する目標部分が、投影システムにより、一度に1つずつ、連続的に放射を照射される。マスク・テーブルのマスクによるパターン形成を使用する現在の装置は、2つの異なる種類の機械に区別することができる。一方の種類のリソグラフィ投影装置では、全マスクパターンを一括して目標部分に露出させることで、各目標部分が放射を照射される。そのような装置は、通常、ウェーハ・ステッパと呼ばれる。走査ステップ式装置と通常呼ばれる他方の装置では、投影ビームの当るマスク・パターンを特定の基準方向(「走査」方向)に漸進的に走査し、同時に、同期して、この方向に対して平行または逆平行に基板テーブルを走査することで、各目標部分が放射を照射される。一般に、投影システムは、拡大率M(一般に、M<1)を持つので、基板テーブルが走査される速度Vは、マスク・テーブルが走査される速度の因数M倍となる。ここで説明したようなリソグラフィ装置に関して、例えば、米国特許第6,046,792号から、もっと多くの情報を収集することができる。この特許は、参照して本明細書に組み込む。
【0004】
リソグラフィ投影装置を使用する製造プロセスでは、放射敏感材料(レジスト)の層で少なくとも部分的に覆われた基板に、パターン(例えば、マスク内の)の像が作られる。この像形成ステップの前に、基板は、下塗り、レジスト被覆、およびソフト・ベークのような様々な手順を経る可能性がある。露出後に、基板は、露出後ベーク(PEB)、現像、ハード・ベーク、および形成された像の特徴の測定/検査のような他の手順に供される可能性がある。この手順の配列は、デバイス例えばICの個々の層をパターン形成する基礎として使用される。次に、そのようなパターン形成層は、エッチング、イオン打込み(ドーピング)、メタライゼーション、酸化、化学機械研磨などのような、全て個々の層を仕上げるために意図された、様々なプロセスを経る可能性がある。いくつかの層が必要な場合には、この全手順またはその変形を、新しい層ごとに繰り返さなければならない。最終的に、デバイスの配列が基板(ウェーハ)上に存在するようになる。次に、ダイシングまたは鋸引きのような方法で、これらのデバイスを互いに分離し、それから、個々のデバイスは、ピンなどに接続されたキャリアに取り付けることができる。そのようなプロセスに関するより多くの情報は、例えば、「Microchip Fabrication: A practical Guide to Semiconductor Processing(マイクロチップの製造:半導体処理への実用的入門書)」, Third Edition, by Peter van Zant, McGraw Hill Publishing Co., 1997, ISBN0−07−067250−4の本から得ることができる。この本を参照して本明細書に組み込む。
【0005】
簡単にするために、投影システムを以下で「レンズ」と呼ぶことがある。しかし、この用語は、例えば、屈折光学システム、反射光学システム、およびカタディオプトリック・システムなどの様々な種類の投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。また、放射システムは、これらの設計方式のいずれかに従って動作して放射の投影ビームを方向付け、整形し、または制御する部品を含むことができる。さらに、そのような部品もまた、下で一括してまたは単独で、「レンズ」と呼ぶことがある。さらに、リソグラフィ装置は、2以上の基板テーブル(および/または2以上のマスク・テーブル)を有する種類のものであることがある。そのような「マルチ・ステージ」の装置では、追加のテーブルは、並列に使用されることがあり、または、他の1つまたは複数の他のテーブルを露出に使用しながら、1つまたは複数のテーブルで準備ステップが行われることがある。ツイン・ステージ・リソグラフィ装置は、例えば、米国特許5,969,411号および国際公開WO98/40791に記載されている。この本を参照して本明細書に組み込む。
【0006】
前述した装置において、非常に重要であるのは、基板を保持する基板テーブルと、マスクを保持し得る支持構造とを、非常に高い精度で位置決めすることである。そのため、たとえば本明細書において参照により取り入れる米国特許公報第5,120,034号には、ベースに対して少なくとも2つの座標方向に変位可能なキャリッジ(carriage)を備える位置決め装置であって、キャリッジは、キャリッジに対して前記2つの座標方向に変位可能なテーブルを変位させるためのものであり、テーブルは前記2つの座標方向の磁石システムおよびコイルシステムのローレンツ力だけでキャリッジに接続されている位置決め装置を用いることが提案されている。
【0007】
ローレンツ駆動装置をリソグラフィ投影装置で用いる際の重大な問題は、使用中にローレンツ駆動装置のコイルが発生させる熱量である。特に、基板テーブルまたは支持構造の非常に近くに配置されるローレンツ駆動装置がわずかでも発生させる熱である。発生するわずかな熱も放散して、装置精度の低下をモータらす可能性のある基板テーブルおよび支持構造の温度変化を防がなければならない。
【0008】
ローレンツ駆動装置は、導電性要素たとえばコイルと、磁石アセンブリとからなる。磁石アセンブリから発生する磁界は、導電性要素を流れる電流と相互作用して、導電性要素と磁石アセンブリとの間にローレンツ力を発生させる。ローレンツ力の方向はその地点での電流および磁界の方向に垂直である。通常、磁石アセンブリは、導電性要素の両側の少なくとも1つの磁石からなり、ほぼ均一な磁界を導電体の周りに発生させる。ローレンツ駆動装置は、コイルの中に鉄を全く含まない。しかしローレンツ駆動装置の磁石アセンブリは、バック・アイアン(back iron)を備えている。バック・アイアンは、磁気飽和が高い材料から形成され、磁石の外側に配置される。バック・アイアンは通常、飽和を防止するために大きいことが必要とされるため、駆動装置の質量のかなりの部分を構成し、モータの効率が低下する原因となっている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、バック・アイアンの質量が低減されるが、駆動装置の性能は全く低下していないローレンツ駆動装置を有するリソグラフィ投影装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この目的およびその他の目的は、本発明によって、冒頭の段落で明記したリソグラフィ装置にさらに以下のものを備える装置で達成される。
モータの前記第1および第2の部分の一方に取り付けられ、前記力の方向に実質的に垂直な第1磁界を発生させるメイン磁石システム、
モータの前記一方の部分の他方に取り付けられる導電性要素であって、前記導電性要素を流れる電流と第1磁界との相互作用によって前記力を発生させるように配置される導電性要素、
モータの前記一方の部分に取り付けられて、ハルバック(Halbach)配置で配置され、第1磁界に実質的に垂直な第2磁界を発生させる補助磁石システム。
【0011】
この配置は、飽和を防止するために必要なバック・アイアンのサイズが低減されるため、好都合である。したがってこれは、駆動装置のバック・アイアンの質量が減少して駆動装置の効率がさらに高まることを意味する。というのは、駆動装置の移動質量が減少すると、所定の加速度を発生させるために必要な力が減少するからである。また駆動装置のkファクタ(モータ定数とも言われる)も増加する。これは、コイルを流れる所定の電流に対して発生される力が増加することを意味する。これらの効果が組み合わさる結果、所定の加速度を発生させるための電流が著しく減少し、その結果コイルに発生する熱量が減少する。
【0012】
本発明の好ましい実施形態においては、補助磁石システムは、第1および第2の補助磁石を備え、メイン磁石システムはメイン磁石を備えており、メイン磁石の少なくとも一部は2つの補助磁石の間に配置される。これらの磁石の配置は、第1補助磁石の磁気分極が第2補助磁石の磁気分極と実質的に反平行となり、メイン磁石の磁気分極がこれら2つの補助磁石の磁気分極と実質的に垂直になるように行う。
【0013】
本発明のさらに好ましい実施形態においては、ローレンツ駆動装置は2つの磁石アセンブリを備える。第1磁石アセンブリは、第1メイン磁石システム・サブ・アセンブリと第1補助磁石システム・サブ・アセンブリとを備える。第2磁石アセンブリは、第2メイン磁石システム・サブ・アセンブリと第2補助磁石システム・サブ・アセンブリとを備える。導電性要素の少なくとも一部が、第1および第2の磁石アセンブリの間に配置される。
【0014】
本発明のさらに好ましい実施形態においては、各磁石アセンブリは、第1および第2のメイン磁石を備え、これらはその磁気分極が互いに実質的に反平行になるように配置される。磁気アセンブリはさらに、第1、第2、および第3の補助磁石を備え、これらの配置は、第1メイン磁石の少なくとも一部が第1および第2の補助磁石の間に配置され、第2メイン磁石の少なくとも一部が第2および第3の補助磁石の間に配置されるように行われる。導電性要素は、第1磁石アセンブリの第1メイン磁石と第2アセンブリの第1メイン磁石との間に配置される第1部分と、第1磁石アセンブリの第2メイン磁石と第2磁石アセンブリの第2メイン磁石との間に配置される第2部分とを備える。導電性要素の配置は、この要素に電流を流したときに、第1部分の電流の方向が第2部分の電流の方向と実質的に反平行になるように行われる。
【0015】
また本発明は、リソグラフィ投影装置で用いるモータに関する。モータは、モータの第1部分とリソグラフィ投影装置の機械フレームとの間に少なくとも1つの方向の長距離運動に渡る力を発生させるための長行程モータと、モータの前記第1部分と第2部分との間に少なくとも1つの方向の短距離運動に渡る力を発生させるためのローレンツ駆動装置とを備え、ローレンツ駆動装置は以下のものを備える。
モータの前記第1および第2の部分の一方に取り付けられ、前記力の方向に実質的に垂直な第1磁界を発生させるメイン磁石システム、
モータの前記一方の部分の他方に取り付けられる導電性要素であって、前記導電性要素を流れる電流と第1磁界との相互作用によって前記力を発生させるように配置される導電性要素、
モータの前記一方の部分に取り付けられて、ハルバック配置で配置され、第1磁界に実質的に垂直な第2磁界を発生させる補助磁石システム。
【0016】
この明細書で、ICの製造において本発明に従った装置を使用することに特に言及するが、そのような装置は他の多くの可能な用途を有することをはっきりと理解すべきである。例えば、集積光システム、磁気ドメイン・メモリのための誘導および検出パターン、液晶表示パネル、薄膜磁気ヘッドなどの製造で使用することができる。当業者は理解するであろうが、そのような他の背景では、本明細書の「レチクル」、「ウェハー」または「ダイ」の用語の使用は、それぞれ、より一般的な用語「マスク」、「基板」および「目標部分」で置き換えられるものとして考えるべきである。
【0017】
本文献において、「放射」および「ビーム」の用語は、紫外線放射(例えば、波長が365、248、193、157、または126nmである)およびEUV(極端紫外放射、たとえば、波長が5〜20nmの範囲である)ならびにイオン・ビームまたは電子ビーム等の粒子ビームを含んだ、あらゆる種類の電磁放射を包含するように使用される。
【0018】
ここで本発明の実施形態は、実施例としてのみ添付の模式図を参照して説明する。
【0019】
図において、対応する参照符号は対応する部分を示す。
【0020】
【発明の実施の形態】
実施形態1
図1は、リソグラフィ投影装置を模式的に示す。本装置は、
放射(例えば、EUV放射)の投影ビームPBを供給するための、この場合に放射源LAを備える放射システムEx、ILと、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備え、かつ要素PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1の物体テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジスト被覆シリコン・ウェーハ)を保持するための基板ホルダを備え、かつ要素PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2の物体テーブル(基板テーブル)WTと、
マスクMAの放射照射部分の像を、基板Wの目標部分C(例えば、1つまたは複数のダイで構成される)に形成するための投影システム(レンズ)PL(レンズ群)とを備える。
ここに示すように、本装置は、透過型(すなわち、透過マスクを有する)である。しかし、一般に、本装置は、例えば、反射型(反射マスクを有する)であることもある。もしくは、本装置は、上で言及したような種類のプログラム可能ミラー・アレイのような、他の種類のパターン形成手段を使用することができる。
【0021】
放射源LA(例えば、Hgランプまたはエキシマ・レーザ)は、放射のビームを生成する。このビームは、直接か、または、例えばビーム拡大器Exなどのコンディショニング手段を通り抜けた後かいずれかで、照明システム(照明装置)ILに送られる。照明装置ILは、ビーム内の強度分布の外側半径範囲および/または内側半径範囲(通常、それぞれ、σ−outer、σ−innerと呼ばれる)を設定するための調整手段AMを備えることができる。さらに、照明装置は、一般に、積分器IN、集光器COなどの様々な他の部品を備える。このようにして、マスクMAに当っているビームPBは、その断面内に所望の一様強度分布を持つ。
【0022】
図1に関して留意すべきことであるが、放射源LAは、リソグラフィ投影装置のハウジング内にあることがあるが(例えば、放射源LAが水銀ランプの場合、そうであることが多い)、また、放射源LAがリソグラフィ投影装置から遠く離れており、それの生成する放射ビームが装置の中に導かれることがある(例えば、適当な方向付けミラーを使用して)。この後者のシナリオは、放射源LAがエキシマ・レーザである場合に多い。本発明および特許請求の範囲は、これらのシナリオの両方を含む。
【0023】
ビームPBは、その後、マスク・テーブルMTに保持されているマスクMAと交差する。マスクMAを通り抜けたビームPBは、レンズPLを通り抜ける。このレンズPLは、基板Wの目標部分CにビームPBを収束させる。第2の位置決め手段(および干渉測定手段IF)を使って、基板テーブルWTは、例えばビームPBの経路内に異なった目標部分Cを位置決めするように、正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決め手段を使用して、例えば、マスク・ライブラリからマスクMAを機械的に取り出した後で、または走査中に、ビームPBの経路に対してマスクMAを正確に位置決めすることができる。一般に、物体テーブルMT、WTの移動は、長行程モジュール(粗い位置決め)と短行程モジュール(精密位置決め)を使って行われる。
【0024】
長行程LSの移動部分は、WO01/18944に記載されているように平面モータによって移動する。この文献は、本明細書において参照により取り入れられている。磁気プレートMPがリソグラフィ投影装置の機械フレームに固定され、長行程LSには第1のコイル・セットSP1が設けられている。電流をコイルSP1に流すと、SP1は力を発生する。この力によって長行程LSを浮揚させて、磁気プレートMPに沿って移動させることができる。基板テーブルWTは、第2のコイルSP2と磁石MSとを備えるローレンツ駆動装置によって、長行程LSに対して移動する。電流を第2のコイルSP2に流すと、長行程LSと磁石MS(基板テーブルWTに設けられている)との間に力が発生して、基板テーブルWTを微細に位置決めすることができる。基板テーブルWTは、長行程LSに対して、6自由度(X、Y、Z、Rz、Ry、およびRx)まで移動させることができる。
【0025】
図示の装置は、2つの異なるモードで使用することができる。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTは基本的に静止したままであり、全マスク像が一括して(すなわち、単一「フラッシュ」で)目標部分Cに投影される。次に、異なる目標部分CがビームPBで照射されるように、基板テーブルWTがxおよび/またはy方向に移動される。
2.走査モードでは、基本的に同じシナリオが当てはまるが、ただ、特定の目標部分Cが単一「フラッシュ」で露出されないことが異なる。代わりに、マスク・テーブルMTが、特定の方向(いわゆる「走査方向」、例えば、y方向)に速度vで移動可能であり、その結果、投影ビームPBはマスク像全体を走査することができるようになる。これと並行して、基板テーブルWTが、速度V=Mvで、同じまたは反対方向に同時に移動する。ここで、MはレンズPLの拡大率である(一般に、M=1/4または1/5)。このようにして、分解能で妥協する必要なく、比較的大きな目標部分Cを露出させることができる。
【0026】
図2aに、本発明の好ましい実施形態による駆動装置の断面を示す。図3に、同じ駆動装置を斜視図で示す。使用時に、駆動装置は第1の方向(またはその反対)に力を発生させる。この力を用いて短行程ドライブ・モジュール(第2部分)を駆動して、マスク・テーブルMTまたは基板テーブルWTを位置決めすることができる。図2aでは、この第1の方向は図の面内の水平方向である。駆動装置は、第1磁石サブ・アセンブリ1、第2磁石サブ・アセンブリ11(図1のMS)、およびコイル21(図1のSP2)を備える。第1および第2の磁石サブ・アセンブリ1、11によって、それらの間のスペース(第1の方向に垂直な第2の方向にある)が規定される。このスペースにコイル21が配置される。
【0027】
第1および第2の磁石サブ・アセンブリ1、11の組み合わせによって、磁石アセンブリ(基板テーブルWTまたはマスク・テーブルMT上に配置され、駆動装置によって駆動される)が形成される。コイル21は、長行程モジュール(図示せず)に配置されるか、または(前述したように)長行程モジュールがないウェハ・ステッパ装置のマスク・テーブルMTの場合には、装置の固定部分に配置される。
【0028】
代替的に、磁石アセンブリを長行程モジュール上に配置して、コイルを基板テーブルまたはマスク・テーブル上に配置しても良いが、本構成が好ましい。その理由は、コイルへの電力および冷却の付与が容易になるからである。
【0029】
第1磁石サブ・アセンブリ1は、第1メイン磁石2、第2メイン磁石7、第1補助磁石5、第2補助磁石4、および第3補助磁石3からなる。第2磁石アセンブリ11は、対応して、第1メイン磁石12、第2メイン磁石17、第1補助磁石15、第2補助磁石14、および第3補助磁石13からなる。好ましい配置においては、メイン磁石は永久磁石であってNiコーテッド・ヴァコジム(Vacodym)722R(残留磁気Br=1.47テスラ(T))からなり、補助磁石はNiコーテッド・ヴァコジム362TP(残留磁気Br=1.30テスラ(T)、高保持力強度を有する)からなる(たとえばVacuumschmelze 有限責任会社で製造される)。
【0030】
各磁石サブ・アセンブリの配置は、要素磁石が上で定義した第1の方向において互いに隣接するように行う。この配置において、補助磁石は各メイン磁石の両側に配置される。たとえば、第1磁石サブ・アセンブリ1の第1メイン磁石2は、第1磁石アセンブリの第1補助磁石5と第3補助磁石4との間に配置される。同様に、第1磁石サブ・アセンブリ1の第2メイン磁石7は、第2補助磁石4と第3補助磁石3との間に配置される。第2磁石サブ・アセンブリも同様に配置して、完全な磁石アセンブリにおいて2つのサブ・アセンブリ1、11の対応する磁石が互いに面するようにする。
【0031】
各磁石サブ・アセンブリは、バック・アイアン6、16をそれぞれ備える。各サブ・アセンブリにおいて、バック・アイアンは、磁石サブ・アセンブリ間に規定されたスペースに対して磁石の反対側に配置される。バック・アイアンは、サブ・アセンブリの各メイン磁石および各補助磁石に隣接し、好ましくは磁石表面を完全に覆っている。またバック・アイアンは好ましくは、磁石サブ・アセンブリ間のスペースから離れる方向に、少なくとも部分的にテーパになっている。バック・アイアンは好ましくは、CoFeで形成されている。
【0032】
コイル21(図1のSP2)は、図2aにしめされるように2つのサイド21aと21bを有し、磁石サブ・アセンブリ1、11(図1のMS)の間に配置され、直角環状式巻き線(orthocyclic windings)からなる。コイルの配置は、コイルが第1および第2の磁石サブ・アセンブリ間に配置されたときに、コイルを構成するワイヤが、上で定義した第1および第2の両方向に垂直になるように行われる。図2aに示すように、ワイヤは図の面に垂直な方向に配置される。
【0033】
第1および第2の磁石サブ・アセンブリ1、11の磁石の配置は、第1磁石サブ・アセンブリの第1メイン磁石2の磁気分極が、第2磁石サブ・アセンブリの第1メイン磁石12の磁気分極と平行で、上で定義した第1の方向と垂直な方向になるように、すなわち駆動装置が発生する力の方向と垂直な方向になるように行われる。第2メイン磁石7、17の配置は、それらの磁気分極が互いに平行で、第1メイン磁石2、12の磁気分極と反平行になるように行われる。
【0034】
磁石サブ・アセンブリの補助磁石の配置は、いわゆるハルバック配置で行われる。補助磁石の配置は、それらの磁気分極がメイン磁石の磁気分極と垂直になるように行われる。前述したように、各メイン磁石は、磁石サブ・アセンブリの2つの補助磁石の間に配置される。これらの補助磁石の組は、それらの磁気分極が互いに反平行になるように配置される。また第1および第2の磁石サブ・アセンブリの対応する補助磁石の組(前述したように、2つの磁石サブ・アセンブリ間の分離箇所を越えて互いに面する)、たとえば第1磁石サブ・アセンブリの第1補助磁石5および第2磁石サブ・アセンブリ第1補助磁石15も、それらの磁気分極が互いに反平行になるように配置される。
【0035】
図2bに示すように、この配置から結果として生じる磁界によって、2組のメイン磁石の間のほぼ均一な磁界の領域が発生する。コイル21a、21bの2つのサイドが、この領域内に位置している。電流がコイルを流れるとき、コイルの2つのサイドを流れる電流は反対方向である。したがって、コイル21a、21bの2つのサイドが配置される2つの領域での磁界の方向も反対であるため、コイルの2つのサイドに及ぼされる力は同じ方向(磁界および電流の両方に垂直)となる。
【0036】
図4に、本発明の代替的な駆動装置の構成の断面を示す。この構成は、2つのコイル81、82を備える。したがって磁石サブ・アセンブリ51、71の構造は、図2aに示したものとは異なっている。各磁石サブ・アセンブリは、第1メイン磁石57、77、第2メイン磁石55、75、第3メイン磁石53,73、第1補助磁石56、76、第2補助磁石54、74、および前の構成と同様にバック・アイアン52、72からなる。
【0037】
メイン磁石の配置は、第1磁石サブ・アセンブリの第1メイン磁石57の磁気分極が、第2磁石サブ・アセンブリの第1メイン磁石77の磁気分極と平行になり、第1磁石サブ・アセンブリの第2メイン磁石55の磁気分極が第2磁石サブ・アセンブリ第2メイン磁石75の磁気分極と平行になり、第1磁石サブ・アセンブリの第3メイン磁石53の磁気分極が第2磁石サブ・アセンブリの第3メイン磁石73の磁気分極と平行になるように行う。図2aの構成と場合と同様に、全てのメイン磁石の配置は、それらの磁気分極が、駆動装置が発生させる力の方向と垂直になるように行う。加えて、第1メイン磁石57、77および第3メイン磁石53、73の配置は、それらの磁気分極が、第2メイン磁石55、75の磁気分極と反平行になるように行う。
【0038】
第1補助磁石56、76は、第1メイン磁石57、77と第2メイン磁石55、75との間に配置される。第2補助磁石54、74は、第2メイン磁石55、75と第3メイン磁石53、73との間に配置される。その結果、第2メイン磁石は、各磁石サブ・アセンブリの補助磁石の間に配置される。
【0039】
第1磁石サブ・アセンブリ51の補助磁石の配置は、それらの磁気分極が、互いに反平行で、第2メイン磁石55の磁気分極と垂直になるように行われる。第2磁石サブ・アセンブリの補助磁石も、対応する仕方で配置して、第1磁石サブ・アセンブリ51の第1補助磁石56の磁気分極が第2磁石サブ・アセンブリ71の第1補助磁石76の磁気分極と反平行になり、第1磁石サブ・アセンブリ51の第2補助磁石54の磁気分極が第2磁石サブ・アセンブリ71の第2補助磁石74の磁気分極と反平行になるようにする。結果として生じる2つの磁石サブ・アセンブリのメイン磁石の間の磁界は、ほぼ均一となる。
【0040】
コイルの配置は、第1コイル81の第1部分81aが第3メイン磁石53、73の間に位置し、第1コイル81の第2部分81bと第2コイル82の第1部分82aとが第2磁石55、75の間に位置し、第2コイル82の第2部分82bが第3メイン磁石57、77の間に位置するように行う。電流がコイル81、82を流れるときに、第1コイル81の第2部分81bと第2コイル82の第1部分82aとを流れる電流の方向は、互いに平行であり、第1コイル81の第1部分81aと第2コイル82の第2部分82bとを流れる電流の方向とは反平行である。第2メイン磁石55、75間の磁界の方向は、第1メイン磁石57、77間の磁界の方向および第2メイン磁石53、73間の磁界の方向と反対であるため、コイルの各部分81a、81b、82a、82bに発生する力(電流および磁界の両方の方向に垂直な方向)は同じ方向である。
【0041】
本発明の特定の実施形態を上で説明したが、本発明は、説明と違ったように実施することができる。説明は本発明を制限する意図ではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】リソグラフィ投影装置を示す図である。
【図2a】本発明による駆動装置の構成を示す断面図である。
【図2b】図2aの構成に対して計算された磁界線を示す図である。
【図3】図2aの構成を示す斜視図である。
【図4】本発明による代替的な駆動装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
LS 長行程
MS 磁石
MP 磁気プレート
SP1 第1のコイル
SP2 第2のコイル
1、11、51、71 磁石サブ・アセンブリ
2、7、12、17、53、55、57、73、75、77 メイン磁石
3、4、5、13、14、15、54、56、74、76 補助磁石
6、16、52、72 バック・アイアン
21、22、81a、81b、82a、82b コイル
Claims (15)
- リソグラフィ投影装置であって、
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、
所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン形成するように使用されるパターン形成手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影システムと、
モータの第1部分と装置の機械フレームとの間に少なくとも1つの方向の長距離運動に渡る力を発生させるための長行程モータと、モータの前記第1部分と第2部分との間に少なくとも1つの方向の短距離運動に渡る力を発生させ、前記第2部分は支持構造または基板テーブルに接続されるローレンツ駆動装置とを備えるモータとを備え、ローレンツ駆動装置は、
モータの前記第1および第2の部分の一方に取り付けられ、前記力の方向に実質的に垂直な第1磁界を発生させるメイン磁石システムと、
モータの前記一方の部分の他方に取り付けられる導電性要素であって、前記導電性要素を流れる電流と第1磁界との相互作用によって前記力を発生させるように配置される導電性要素と、
モータの前記一方の部分に取り付けられて、ハルバック配置で配置され、第1磁界に実質的に垂直な第2磁界を発生させて低減された質量のバック・アイアンを有する補助磁石システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 前記補助磁石システムが2つの補助磁石を備え、前記メイン磁石システムがメイン磁石を備え、メイン磁石の少なくとも一部が前記2つの補助磁石の間に配置され、補助磁石の磁気分極が、実質的に互いに反平行となりかつメイン磁石の磁気分極に実質的に垂直となるように配置される請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記メイン磁石システムが第1および第2のメイン磁石システム・サブ・アセンブリからなり、前記補助磁石システムが第1および第2の補助磁石システム・サブ・アセンブリからなり、前記導電性要素の少なくとも一部分が、前記第1の磁石システム・サブ・アセンブリからなる第1磁石アセンブリと、前記第2の磁石システム・サブ・アセンブリからなる第2磁石アセンブリとの間に配置される請求項1または請求項2に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記導電性要素の前記部分は、この部分を流れる電流の方向がモータの2つの部分間の力の方向と実質的に垂直となるように配置される請求項3に記載のリソグラフィ投影装置
- 前記メイン磁石システムは少なくとも1つの磁石を備え、この磁石は、その磁気分極が、装置の2つの部分間の力の方向と実質的に垂直となりかつ導電性要素の前記部分を流れる電流の方向と実質的に垂直となるように配置される請求項3または請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記メイン磁石システム・サブ・アセンブリはそれぞれ第1および第2のメイン磁石を備え、第1および第2のメイン磁石は、その磁気分極が実質的に互いに反平行となるように配置される請求項3から請求項5までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記補助磁石サブ・アセンブリはそれぞれ、第1、第2、および第3の補助磁石を備え、前記補助磁石アセンブリはそれぞれ、以下となるように配置される請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。
前記第1メイン磁石の少なくとも一部が第1および第2の補助磁石の間に配置され、
前記第2メイン磁石の少なくとも一部が第2および第3の補助磁石の間に配置され、
前記第1および第2の補助磁石は、それらの磁気分極が、実質的に互いに反平行となりかつ第1メイン磁石の磁気分極と実質的に垂直となるように配置され、
前記第2および第3の補助磁石は、それらの磁気分極が、実質的に互いに反平行となりかつ第2メイン磁石の磁気分極と実質的に垂直となるように配置される。 - 導電性要素は、
第1および第2のメイン磁石システム・サブ・アセンブリの第1メイン磁石の間に配置される第1部分と、
第1および第2のメイン磁石システム・サブ・アセンブリの第2メイン磁石の間に配置される第2部分とを備え、
導電性要素は、電流を流したときに、第1および第2の部分の電流の方向が実質的に互いに反平行となるように配置される請求項6または請求項7に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記メイン磁石サブ・アセンブリはそれぞれ、第1、第2、および第3のメイン磁石を備え、これらのメイン磁石は、前記第2メイン磁石の少なくとも一部が前記第1および第3のメイン磁石間に位置するように配置され、前記メイン磁石は、前記第2メイン磁石の磁気分極が、第1および第3のメイン磁石の磁気分極と実質的に反平行となるように配置される請求項3から請求項5までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記補助磁石サブ・アセンブリはそれぞれ、第1および第2の補助磁石を備え、前記補助磁石アセンブリはそれぞれ、以下となるように配置される請求項9に記載のリソグラフィ投影装置。
前記第2メイン磁石の少なくとも一部が第1および第2の補助磁石の間に位置し、
前記第1および第2の補助磁石は、それらの磁気分極が、実質的に互いに反平行となりかつ第2メイン磁石の磁気分極と実質的に反平行となるように配置される。 - 導電性要素は、
第1および第2のメイン磁石システム・サブ・アセンブリの第1メイン磁石の間に配置される第1部分と、
第1および第2のメイン磁石システム・サブ・アセンブリの第2メイン磁石の間に配置される第2および第3の部分と、
第1および第2のメイン磁石システム・サブ・アセンブリの第3メイン磁石の間に配置される第4部分とを備え、
導電性要素は、電流を流したときに、第1および第4の部分の電流の方向が、実質的に互いに平行となりかつ導電性要素の第2および第3の部分の電流の方向と実質的に反平行となるように配置される請求項9または請求項10に記載のリソグラフィ投影装置。 - 導電性要素がモータの第1部分に接続され、メイン磁石システムおよび補助磁石システムがモータの第2部分に接続される請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記短距離運動が、メイン磁石システムおよび補助磁石システムの総サイズの約10パーセントである請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 短距離運動が約1cmであり、長距離運動が30cmを上回る請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- リソグラフィ投影装置で用いるモータであって、モータの第1部分とリソグラフィ投影装置の機械フレームとの間に少なくとも1つの方向の長距離運動に渡る力を発生させるための長行程モータと、モータの前記第1部分と第2部分との間に少なくとも1つの方向の短距離運動に渡る力を発生させるためのローレンツ駆動装置とを備え、ローレンツ駆動装置は、
モータの前記第1および第2の部分の一方に取り付けられ、前記力の方向に実質的に垂直な第1磁界を発生させるメイン磁石システムと、
モータの前記部分の他方に取り付けられる導電性要素であって、前記導電性要素を流れる電流と第1磁界との相互作用によって前記力を発生させるように配置される導電性要素と、
モータの前記一方の部分に取り付けられて、ハルバック配置で配置され、第1磁界に実質的に垂直な第2磁界を発生させて低減された質量のバック・アイアンを有する補助磁石システムとを備えるモータ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP01307127.9 | 2001-08-22 | ||
EP01307127 | 2001-08-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003158865A JP2003158865A (ja) | 2003-05-30 |
JP3749882B2 true JP3749882B2 (ja) | 2006-03-01 |
Family
ID=8182209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002237732A Expired - Fee Related JP3749882B2 (ja) | 2001-08-22 | 2002-08-19 | リソグラフィ装置および前記装置で用いるモータ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6717296B2 (ja) |
JP (1) | JP3749882B2 (ja) |
KR (1) | KR100548714B1 (ja) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6828890B2 (en) | 2001-09-26 | 2004-12-07 | Engineering Matters, Inc. | High intensity radial field magnetic array and actuator |
US7291953B1 (en) * | 2002-02-21 | 2007-11-06 | Anorad Corporation | High performance motor and magnet assembly therefor |
US6803682B1 (en) * | 2002-02-21 | 2004-10-12 | Anorad Corporation | High performance linear motor and magnet assembly therefor |
WO2003088278A2 (en) * | 2002-04-11 | 2003-10-23 | Magtube, Inc | Shear force levitator and levitated ring energy storage device |
US6684794B2 (en) * | 2002-05-07 | 2004-02-03 | Magtube, Inc. | Magnetically levitated transportation system and method |
SE524861C2 (sv) * | 2002-08-14 | 2004-10-12 | Abb Ab | En elektrisk maskin samt användning därav |
US6876284B2 (en) | 2002-09-26 | 2005-04-05 | Engineering Matters, Inc. | High intensity radial field magnetic array and actuator |
US7352268B2 (en) * | 2002-09-26 | 2008-04-01 | Engineering Matters, Inc. | High intensity radial field magnetic actuator |
TWI254356B (en) * | 2002-11-29 | 2006-05-01 | Asml Netherlands Bv | Magnetic actuator under piezoelectric control |
JP4194383B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2008-12-10 | キヤノン株式会社 | リニアモータ |
EP1664587B1 (en) | 2003-09-05 | 2010-11-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Actuator arrangement for active vibration isolation comprising an inertial reference mass |
CN100465473C (zh) * | 2003-09-05 | 2009-03-04 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 包括惯性基准质量的用于主动隔振的致动器装置 |
US7145269B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, Lorentz actuator, and device manufacturing method |
US7135792B2 (en) * | 2004-05-12 | 2006-11-14 | Dexter Magnetic Technologies, Inc. | High field voice coil motor |
US7167234B2 (en) * | 2004-10-19 | 2007-01-23 | Asml Netherlands B.V. | Actuator assembly and lithographic apparatus comprising such an actuator assembly |
US7368838B2 (en) * | 2004-11-02 | 2008-05-06 | Nikon Corporation | High efficiency voice coil motor |
JP4566697B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置およびそれを用いた露光装置、デバイス製造方法 |
US7385679B2 (en) * | 2004-12-29 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and actuator |
US7307689B2 (en) * | 2004-12-29 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, reticle masking device for a lithographic apparatus, gas bearing and apparatus comprising such gas bearing |
JP2007019127A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Yaskawa Electric Corp | 周期磁界発生装置およびそれを用いたリニアモータ |
US7459808B2 (en) * | 2005-11-15 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and motor |
US7541699B2 (en) * | 2005-12-27 | 2009-06-02 | Asml Netherlands B.V. | Magnet assembly, linear actuator, planar motor and lithographic apparatus |
JP4617279B2 (ja) * | 2006-08-10 | 2011-01-19 | 信越化学工業株式会社 | 磁気回路および磁場印加方法 |
JP2009136136A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-06-18 | Asml Netherlands Bv | 合成キャリヤを有するローレンツアクチュエータを有するリソグラフィ装置 |
US8085119B2 (en) * | 2007-11-08 | 2011-12-27 | Engineering Matters Inc. | Flexible electromagnetic valve actuator modeling and performance |
TWI420254B (zh) * | 2008-10-07 | 2013-12-21 | Asml Netherlands Bv | 微影裝置及勞倫茲致動器 |
US9293951B2 (en) | 2008-10-07 | 2016-03-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and lorentz actuator |
NL2003776A (en) | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Asml Holding Nv | Linear motor magnetic shield apparatus. |
US8387945B2 (en) * | 2009-02-10 | 2013-03-05 | Engineering Matters, Inc. | Method and system for a magnetic actuator |
US7808133B1 (en) * | 2009-04-21 | 2010-10-05 | Asm Assembly Automation Ltd. | Dual-axis planar motor providing force constant and thermal stability |
NL2004680A (en) * | 2009-07-06 | 2011-01-10 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography apparatus. |
JP5465249B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2014-04-09 | 国立大学法人茨城大学 | 磁気浮上制御装置およびハイブリッド型磁気軸受け |
DE102010004642B4 (de) * | 2010-01-13 | 2012-09-27 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Magnetaktor sowie Verfahren zu dessen Montage |
TWI384510B (zh) * | 2010-11-12 | 2013-02-01 | Ind Tech Res Inst | 均勻磁場產生設備及其磁場產生單元 |
WO2014044496A2 (en) * | 2012-09-19 | 2014-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Method of calibrating a reluctance actuator assembly, reluctance actuator and lithographic apparatus comprising such reluctance actuator |
CN104682656B (zh) * | 2013-11-26 | 2018-04-27 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 平板音圈电机 |
NL2018848A (en) | 2016-06-09 | 2017-12-13 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN106130301B (zh) * | 2016-07-20 | 2018-10-30 | 瑞声科技(新加坡)有限公司 | 线性振动电机 |
CN111463987B (zh) * | 2020-05-11 | 2021-09-14 | 浙江省东阳市东磁诚基电子有限公司 | 一种多向振动马达及其实现方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6246204B1 (en) * | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
US6028376A (en) * | 1997-04-22 | 2000-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and exposure apparatus using the same |
US5886432A (en) | 1997-04-28 | 1999-03-23 | Ultratech Stepper, Inc. | Magnetically-positioned X-Y stage having six-degrees of freedom |
US6003230A (en) * | 1997-10-03 | 1999-12-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioner having a single moving part |
JP3215362B2 (ja) * | 1997-10-20 | 2001-10-02 | キヤノン株式会社 | リニアモータ、ステージ装置および露光装置 |
JP2000049066A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-18 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
EP1001512A3 (en) | 1998-11-10 | 2001-02-14 | Asm Lithography B.V. | Actuator and transducer |
US6104108A (en) * | 1998-12-22 | 2000-08-15 | Nikon Corporation | Wedge magnet array for linear motor |
EP1191580A1 (en) * | 1999-04-27 | 2002-03-27 | Nikon Corporation | Stage device and exposure device |
US6285097B1 (en) * | 1999-05-11 | 2001-09-04 | Nikon Corporation | Planar electric motor and positioning device having transverse magnets |
TWI248718B (en) | 1999-09-02 | 2006-02-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
JP2001118773A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
US6271606B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-08-07 | Nikon Corporation | Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber |
US6281655B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-08-28 | Nikon Corporation | High performance stage assembly |
-
2002
- 2002-08-19 JP JP2002237732A patent/JP3749882B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-08-19 US US10/222,975 patent/US6717296B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-08-19 KR KR1020020048838A patent/KR100548714B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-12-22 US US10/740,576 patent/US6943464B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030052548A1 (en) | 2003-03-20 |
US20040207269A1 (en) | 2004-10-21 |
US6943464B2 (en) | 2005-09-13 |
KR100548714B1 (ko) | 2006-02-02 |
US6717296B2 (en) | 2004-04-06 |
JP2003158865A (ja) | 2003-05-30 |
KR20030017337A (ko) | 2003-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3749882B2 (ja) | リソグラフィ装置および前記装置で用いるモータ | |
KR100609106B1 (ko) | 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 제조된 디바이스 | |
JP4317148B2 (ja) | リソグラフィ装置、ローレンツ・アクチュエータ及びデバイス製造方法 | |
US7292317B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating | |
JP6023334B2 (ja) | 電磁アクチュエータ、支持体、およびリソグラフィ装置 | |
JP5140268B2 (ja) | 磁石アセンブリ、リニアアクチュエータ、平面モータ、およびリソグラフィ装置 | |
KR100902644B1 (ko) | 평면 모터 구동 지지체를 갖는 리소그래피 장치 | |
TWI476540B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
KR20010082053A (ko) | 온도 제어된 열 차폐부를 구비한 전사투영장치 | |
KR100547438B1 (ko) | 리소그래피장치 및 디바이스제조방법 | |
JP4719729B2 (ja) | 渦電流ダンパおよび渦電流ダンパを有するリソグラフィ装置 | |
US7167234B2 (en) | Actuator assembly and lithographic apparatus comprising such an actuator assembly | |
JP4528260B2 (ja) | リソグラフィ装置およびアクチュエータ | |
US7259832B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US7081945B2 (en) | Device manufacturing method, device manufactured thereby and lithographic apparatus therefor | |
EP1286222A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
EP1475669A1 (en) | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby | |
US7193683B2 (en) | Stage design for reflective optics | |
JP4704403B2 (ja) | 位置決めデバイス、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2019517762A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050805 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081209 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091209 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |