JP2006135109A - 電子デバイス、電子デバイスの製造方法および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薄膜トランジスタ1は、互いに分離して設けられたソース電極20aおよびドレイン電極20bと、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの表面に形成された有機膜60と、ソース電極20aおよびドレイン電極20bを覆い、かつ、有機膜60と接触するように設けられた有機半導体層30と、有機半導体層30上に設けられたゲート絶縁層40と、ゲート絶縁層40上に設けられたゲート電極60とを有する。有機膜60は、好ましくは一般式:CF3(CF2)m(CH2)nSH(ただし、mは1〜35の整数を示し、nは2〜33の整数を示す。)で表される非共役系有機化合物を含む有機化合物を、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの表面に結合させてなるものである。
【選択図】図1
Description
このような薄膜トランジスタでは、ソース電極およびドレイン電極に接触するようにして、有機半導体層が設けられている。
一般に、ソース電極およびドレイン電極は、金属材料で構成されているため、活性(有機物との反応性)が高い。このため、これらの電極と有機半導体層を構成する有機半導体材料との間で反応が生じ、有機半導体材料が変質・劣化し、その結果、薄膜トランジスタの特性が経時的に劣化するという問題がある。
本発明の電子デバイスは、一対の電極と有機半導体層とを有する電子デバイスであって、
前記一対の電極のうちの少なくとも一方の電極の表面に、非共役系有機化合物を含む有機化合物を結合させてなる有機膜を有することを特徴とする。
これにより、特性に優れ、かつ、特性が経時的に劣化するのを防止し得る電子デバイスが得られる。
さらに、前記有機半導体層に電界をかけるゲート電極を備えるトランジスタであることが好ましい。
本発明の電子デバイスは、各種のものに適用可能であるが、特に、トランジスタへ適用するのが好適である。
前記有機膜が形成された電極の表面には、前記結合基が結合していない部分を有することが好ましい。
これにより、電極と有機半導体層との間での有機膜を介した荷電の受け渡しが、効率よく行われるようになる。
前記有機膜が形成された電極の表面には、さらに前記結合基が結合し得る部分が残存することが好ましい。
これにより、電極と有機半導体層との間での有機膜を介した荷電の受け渡しが、効率よく行われるようになる。
該結合基は、SH基であることが好ましい。
SH基は、金属との間に特に強い結合を形成し得るため、結合基としてSH基を有する有機化合物を用いることにより、電極に対して密着性の高い有機膜が得られる。
本発明の電子デバイスでは、前記有機化合物は、前記結合基と反対側に前記有機半導体層に荷電を供給し得る置換基を有することが好ましい。
これにより、電極と有機半導体層との間での有機膜を介した荷電の受け渡しが、さらに効率よく行われるようになる。
前記有機膜の最大厚さは、前記有機化合物の前記結合基から前記置換基までの長さより小さいことが好ましい。
これにより、有機膜の絶縁性が比較的高くなる場合でも、その膜厚が薄くなることから、薄膜トランジスタの特性が劣化するのを防止することができる。
これにより、電子デバイスを、例えば大気中等、比較的湿度の高い環境に曝した場合でも、電極の表面に水分等が付着するのを防止することができるようになる。その結果、電極の表面へ水分が付着することに起因する電子デバイスの特性の劣化を防止することができる。
かかる非共役系有機化合物を主材料として有機膜を構成することにより、電子デバイスは、優れた特性を有するものとなるとともに、比較的湿度の高い環境に曝した場合でも、その優れた特性をより確実に維持することができるようになる。
これにより、前記一般式で表される非共役系有機化合物は、この分子構造中に占めるフルオロ基の割合が十分に高くなり、特に高い撥水性を発揮するようになる。
本発明の電子デバイスでは、前記非共役系有機化合物は、その総炭素数が4〜45であることが好ましい。
これにより、電極と有機半導体層とが接触するのを確実に防止しつつ、有機膜の絶縁性が不要に高くなるのを防止することができ、結果として、電子デバイスの特性の劣化を防止することができる。
これにより、電極と有機半導体層との間での有機膜を介した荷電の受け渡しが、より効率よく行われるようになる。
これにより、有機半導体層を構成する有機半導体材料と、電極との間で反応が生じるのを防止して、有機半導体層の変質・劣化を防止することができる。その結果、薄膜トランジスタの特性が経時的に劣化するのを好適に防止することができる。
本発明の電子デバイスでは、前記有機膜が形成された電極は、Au、Ag、Cu、Ptまたはこれらを含む合金を主材料として構成されていることが好ましい。
これらのものは、有機膜を構成する有機化合物との結合を形成し易い材料であることから好ましい。
前記一対の電極の少なくとも一方の電極の表面に、非共役系有機化合物を含む有機化合物を結合させることにより有機膜を形成する第1の工程と、
前記有機膜に接触するように、前記有機半導体層を形成する第2の工程とを有することを特徴とする。
これにより、特性に優れ、かつ、特性が経時的に劣化するのを防止し得る電子デバイスを製造することができる。
前記洗浄を酸素プラズマ処理により行うことが好ましい。
電極の表面に酸素プラズマ処理を施すと、電極の表面に、例えば、有機膜を構成する有機化合物が結合し難い凹凸部や欠陥部が形成され、これにより、電極の表面への有機化合物の結合速度(反応速度)や結合密度等を容易に制御することができるようになる。
これにより、電極と有機半導体層との間での有機膜を介した荷電の受け渡しが、より効率よく行われるようになる。
本発明の電子機器は、本発明の電子デバイスを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
<第1実施形態>
まず、本発明の電子デバイスを薄膜トランジスタに適用した場合を代表に説明する。
図1は、本発明の電子デバイスを薄膜トランジスタに適用した場合の第1実施形態を示す概略図(図1中(a)は縦断面図、(b)は平面図)、図2および図3は、それぞれ、図1に示す薄膜トランジスタの製造方法を説明するための図(縦断面図)である。
以下、各部の構成について、順次説明する。
基板10には、例えば、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリイミド(PI)等で構成されるプラスチック基板(樹脂基板)、石英基板、シリコン基板、金属基板、ガリウム砒素基板等を用いることができる。
基板10上には、ソース電極20aおよびドレイン電極20b(一対の電極)が設けられている。すなわち、ソース電極20aおよびドレイン電極20bは、ほぼ同一平面上に設けられている。
これらの中でも、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの構成材料としては、それぞれ、Au、Ag、Cu、Ptまたはこれらを含む合金を主とするものが好ましい。これらのものは、後述する有機化合物との結合を形成し易い材料であることから好ましい。また、これらのものは、比較的仕事関数が大きいため、後述するように、有機半導体層30がp型である場合には、ソース電極20aをこれらの材料で構成することにより、有機半導体層30への正孔(キャリア)の注入効率を向上させることができる。
これらのソース電極20aおよびドレイン電極20b(以下、これらを総称して「電極20」と言うことがある。)の表面には、それぞれ、有機膜60が形成されている。
なお、有機膜60は、好ましくは非共役系有機化合物を主とする有機化合物で構成される。
また、分子レベルで均一な表面の有機膜60を形成することができるため、製造される薄膜トランジスタ1毎において、特性にバラツキが生じるのを防止することができ、かかる薄膜トランジスタ1を組み込んだ電子機器(後述する表示装置等)の信頼性の向上を図ることができる。
このような有機膜60は、次の条件IおよびIIの一方を満足するのが好ましく、双方を満足するのがより好ましい。
すなわち、I:有機膜60は、濃度0.01〜10mMで有機化合物を含有する処理液(20℃)を、電極20の表面に、好ましくは0.1〜200分間程度、より好ましくは1〜150分間程度、さらに好ましくは5〜60分間程度接触させることにより形成されたものであること。
このような条件を満足することにより、有機膜60は、電極20と有機半導体層30との接触を十分に防止することができ、また、有機膜60を介した電極20と有機半導体層30との間での正孔(キャリア)の受け渡しが、より効率よく行われるようになる。
また、有機化合物は、その電極20の表面に結合する側(結合基)と反対側に撥水性を示す構造を有するのが好ましい。これにより、薄膜トランジスタ1を、例えば大気中等、比較的湿度の高い環境に曝した場合でも、電極20の表面に水分等が付着するのを防止することができるようになる。その結果、電極20の表面へ水分が付着することに起因する薄膜トランジスタ1の特性の劣化(特に、OFF電流値の上昇)を防止することができる。
また、非共役系有機化合物は、その分子中に分岐状構造や環状構造を有するものであってもよいが、これらの構造を有さないもの、すなわち、直鎖状(直鎖状構造)をなすものであるのが好ましい。これにより、非共役有機化合物は、特に規則正しく、電極20の表面に結合するようになり、さらに良好な膜質の有機膜60を得ることができる。
なお、非共役系有機化合物には、その他、例えば、SH基を有する飽和炭化水素類またはその誘導体を用いることができる。この誘導体としては、SH基と反対側の端部に、例えば、OH基、NH2基、COOH基等が導入されたものが挙げられる。
基板10上には、各ソース電極20aおよびドレイン電極20bを覆い、かつ、有機膜60に接触するように、有機半導体層30が設けられている。
ポリマー有機半導体材料としては、例えば、ポリ(3−アルキルチオフェン)、(ポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)(PTV)、ポリ(パラ−フェニレンビニレン)(PPV)、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン)(PFO)、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−コ−ビス−N,N’−(4−メトキシフェニル)−ビス−N,N’−フェニル−1,4−フェニレンジアミン)(PFMO)、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−コ−ベンゾチアジアゾール)(BT)、フルオレン−トリアリルアミン共重合体、トリアリルアミン系ポリマー、フルオレン−ビチオフェン共重合体(F8T2)等が挙げられる。
また、有機半導体層30が有機膜60に直接接触していることにより、電極20と有機半導体層30との間での正孔(キャリア)の受け渡しがより効率よく行われるようになる。その結果、薄膜トランジスタ1の特性をより向上させることができる。
この有機半導体層30の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜1000nm程度であるのが好ましく、1〜500nm程度であるのがより好ましく、1〜100nm程度であるのがさらに好ましい。
このゲート絶縁層40は、ソース電極20aおよびドレイン電極20bに対して、後述するゲート電極(第3の電極)50を絶縁するものである。
ゲート絶縁層40の構成材料としては、公知のゲート絶縁体材料であれば、種類は特に限定されるものではなく、有機材料、無機材料のいずれも使用可能である。
一方、無機材料としては、シリカ、窒化珪素、酸化アルミ、酸化タンタル等の金属酸化物、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウムチタン酸鉛等の金属複合酸化物が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、ゲート絶縁層40は、単層構成のものに限定されず、複数層の積層構成のものであってもよい。
このゲート電極50の構成材料としては、公知の電極材料であれば、種類は特に限定されるものではない。具体的には、Cr、Al、Ta、Mo、Nb、Cu、Ag、Au、Pd、In、Ni、Nd、Coまたはこれらを含む合金のような金属材料、およびそれらの酸化物等を用いることができる。
また、ゲート電極50は、導電性有機材料で構成することもできる。
このような薄膜トランジスタ1では、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの間に電圧を印加した状態で、ゲート電極50にゲート電圧を印加すると、有機半導体層30のゲート絶縁層40との界面付近にチャネルが形成され、チャネル領域をキャリア(正孔)が移動することで、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの間に電流が流れる。
一方、ゲート電極50に電圧が印加されているON状態では、有機半導体層30のゲート絶縁層40に面した部分に電荷が誘起され、チャネル(キャリアの流路)が形成される。この状態でソース電極20aおよびドレイン電極20bの間に電圧を印加すると、チャネル領域を通って電流が流れる。
以上のような薄膜トランジスタ1は、例えば、次のようにして製造することができる。
まず、基板10上に、ソース電極20aおよびドレイン電極20bを形成する(図2(a)参照。)。
このソース電極20aおよびドレイン電極20bは、例えば、エッチング法、リフトオフ法等を用いて形成することができる。
次に、有機膜60を、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの表面に形成する(図2(b)参照。)。
まず、ソース電極20aおよびドレイン電極20bが形成された基板10を洗浄する。
基板10(電極20)の洗浄方法としては、例えば、洗浄液による洗浄、酸素プラズマ処理、アルゴンプラズマ処理、紫外線オゾン処理等が挙げられる。これら洗浄方法は、単独で行ってもよく、任意の2種類以上の方法を組み合わせて行うようにしてもよい。
これらの中でも、基板10(電極20)の洗浄方法としては、酸素プラズマ処理が好ましい。電極20の表面に酸素プラズマ処理を施すと、電極20の表面に、例えば、有機膜60を構成する有機化合物が結合し難い凹凸部や欠陥部が形成される。これにより、電極20の表面への有機化合物の結合速度(反応速度)や結合量(結合密度)等を容易に制御することができるようになり、有機化合物の結合数を前述したような範囲に容易に設定することができる。その結果、薄膜トランジスタ1の特性の向上を図ることができる。
この酸素プラズマ処理における条件は、例えば、次のように設定するのが好ましい。
処理ガスとしては、純酸素ガスを用いるのが好ましい。
また、RFパワーは、0.005〜0.2W/cm2程度であるのが好ましく、0.05〜0.1W/cm2程度であるのがより好ましい。
また、酸素プラズマ処理における時間(処理時間)は、1〜600秒程度であるのが好ましく、180〜360秒程度であるのがより好ましい。
また、酸素プラズマ処理における雰囲気の圧力(雰囲気圧力)は、減圧状態(例えば、1×10−1Pa程度)とするのが好ましい。
次に、電極20の表面に、前述したような有機化合物を含む有機膜形成用液を接触させる。これにより、電極20を構成する金属材料と有機化合物が有する結合基とが反応し、有機化合物が電極20の表面に結合して、有機膜60が形成される。
処理液を調整するのに用いる溶媒としては、例えば、エタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、ジメチルホルムアミド、1,4−ジオキサン、酢酸ブチル、キシレン、プロパノール、水等が挙げられ、これらを単独または混合して用いることができる。
次に、有機膜60が形成されたソース電極20aおよびドレイン電極20bを覆い、かつ、有機膜60に接触するように、有機半導体層30を形成する(図2(c)参照。)。 このとき、ソース電極20aおよびドレイン電極20bとの間には、チャネル領域が形成される。
また、有機半導体層30は、低分子系有機半導体材料で構成する場合、例えば、蒸着法や、低分子系有機半導体材料の前駆体を含む溶液を、スピンコート法やディップコート法にような塗布法、インクジェット印刷法やスクリーン印刷法のような印刷法等を用いて塗膜を形成した後、この塗膜に対してアニール処理を施すことにより形成することができる。
次に、有機半導体層30上に、ゲート絶縁層40を形成する(図3(d)参照。)。
例えば、ゲート絶縁層40を有機高分子材料で構成する場合、ゲート絶縁層40は、有機高分子材料またはその前駆体を含む溶液を、有機半導体層30上を覆うように塗布(供給)した後、必要に応じて、この塗膜に対して後処理(例えば加熱、赤外線の照射、超音波の付与等)を施すことにより形成することができる。
また、ゲート絶縁層40を無機材料で構成する場合、ゲート絶縁層40は、例えば、熱酸化法、CVD法、SOG法により形成することができる。また、原材料にポリシラザンを用いることにより、ゲート絶縁層40として、シリカ膜、窒化珪素膜を湿式プロセスで成膜することが可能となる。
次に、ゲート絶縁膜40上に、ゲート電極50を形成する(図3(e)参照。)。
まず、金属膜(金属層)を形成する。
これは、例えば、プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDのような化学蒸着法(CVD)、蒸着、スパッタリング(低温スパッタリング)、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等により形成することができる。
この金属膜の除去には、例えば、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウェットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、ゲート電極50は、ゲート絶縁層40上に、例えば、導電性粒子や、導電性有機材料を含む導電性材料を塗布(供給)して塗膜を形成した後、必要に応じて、この塗膜に対して後処理(例えば加熱、赤外線の照射、超音波の付与等)を施すことにより形成することもできる。
また、導電性有機材料を含む導電性材料としては、導電性有機材料の溶液または分散液が挙げられる。
ゲート絶縁層40上に導電性材料を塗布(供給)する方法としては、例えば、前記工程[A3]で挙げた塗布法、印刷法等を用いることができる。
なお、本実施形態では、ソース電極20aおよびドレイン電極20bの表面の双方に、有機膜60を形成する場合について示したが、ドレイン電極20bの表面には、有機膜60を形成せず、ソース電極20aの表面に選択的に有機膜60を形成するようにしてもよい。
また、例えば、有機膜60を構成する有機化合物の種類を選択することにより、有機半導体層30として、n型の有機半導体層を用いることもできる。
次に、本発明の電子デバイスを薄膜トランジスタに適用した場合の第2実施形態について説明する。
図4は、本発明の電子デバイスを薄膜トランジスタに適用した場合の第2実施形態を示す概略断面図である。
以下、第2実施形態の薄膜トランジスタについて、前記第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
すなわち、図4に示す薄膜トランジスタ1は、ゲート電極50がゲート絶縁層40を介して、ソース電極20aおよびドレイン電極20bより基板10側に位置するボトムゲート型の薄膜トランジスタである。
このような薄膜トランジスタ1も、前記第1実施形態の薄膜トランジスタ1と同様にして製造することができる。
このような第2実施形態の薄膜トランジスタ1によっても、前記第1実施形態の薄膜トランジスタ1と同様の作用・効果が得られる。
なお、本発明の電子デバイスは、前述したような薄膜トランジスタへの適用に限定されるものではなく、例えば有機EL素子や光電変換素子等に適用することもできる。
次に、前述したような薄膜トランジスタ1を備えるアクティブマトリクス装置が組み込まれた表示装置について、電気泳動表示装置を一例に説明する。
図5は、電気泳動表示装置の実施形態を示す縦断面図、図6は、図5に示す電気泳動表示装置が備えるアクティブマトリクス装置の構成を示すブロック図である。
図6に示すように、アクティブマトリクス装置300は、互いに直交する複数のデータ線301と、複数の走査線302と、これらのデータ線301と走査線302との各交点付近に設けられた薄膜トランジスタ1とを有している。
図5に示すように、電気泳動表示部400は、基板500上に、順次積層された、画素電極401と、マイクロカプセル402と、透明電極(共通電極)403および透明基板404とを有している。
画素電極401は、マトリクス状に、すなわち、縦横に規則正しく配列するように分割されている。
各カプセル402内には、それぞれ、特性の異なる複数種の電気泳動粒子、本実施形態では、電荷および色(色相)の異なる2種の電気泳動粒子421、422を含む電気泳動分散液420が封入されている。
これにより、かかる薄膜トランジスタ1に接続されているデータ線301と画素電極401とは、実質的に導通する。このとき、データ線301に所望のデータ(電圧)を供給した状態であれば、このデータ(電圧)は画素電極401に供給される。
一方、この状態から、走査線302への選択信号(選択電圧)の供給を停止すると、薄膜トランジスタ1はOFFとなり、かかる薄膜トランジスタ1に接続されているデータ線301と画素電極401とは非導通状態となる。
特に、本実施形態の電気泳動表示装置200では、電気泳動粒子421、422の色を異ならせていることにより、多階調の画像を表示することが可能となっている。
なお、前述したような薄膜トランジスタ1を備えるアクティブマトリクス装置が組み込まれた表示装置は、このような電気泳動表示装置200への適用に限定されるものではなく、例えば、液晶表示装置、有機または無機EL表示装置等に適用することもできる。
このような電気泳動表示装置200は、各種電子機器に組み込むことができる。以下、電気泳動表示装置200を備える本発明の電子機器について説明する。
<<電子ペーパー>>
まず、本発明の電子機器を電子ペーパーに適用した場合の実施形態について説明する。
この図に示す電子ペーパー600は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシートで構成される本体601と、表示ユニット602とを備えている。
このような電子ペーパー600では、表示ユニット602が、前述したような電気泳動表示装置200で構成されている。
次に、本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態について説明する。
図8は、本発明の電子機器をディスプレイに適用した場合の実施形態を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。
この図に示すディスプレイ800は、本体部801と、この本体部801に対して着脱自在に設けられた電子ペーパー600とを備えている。なお、この電子ペーパー600は、前述したような構成、すなわち、図7に示す構成と同様のものである。
このようなディスプレイ800では、電子ペーパー600は、本体部801に着脱自在に設置されており、本体部801から取り外した状態で携帯して使用することもできる。
なお、本発明の電子機器は、以上のようなものへの適用に限定されず、例えば、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、電子新聞、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等を挙げることができ、これらの各種電子機器の表示部に、電気泳動表示装置200を適用することが可能である。
また、本発明の電子デバイスおよび電子機器の各部の構成は、同様の機能を発揮し得る任意のものと置換することができ、あるいは、任意の構成のものを付加することもできる。
まず、有機化合物として、以下に示す化合物(1)〜(13)を用意した。
1−1.薄膜トランジスタの製造
以下に示すようにして、サンプルNo.1A〜17Aの薄膜トランジスタを、それぞれ、200個ずつ製造した。
((サンプルNo.1A))
まず、ガラス基板(NECコーニング社製、「OA10」)を用意し、水を用いて洗浄した後、乾燥した。
そして、ガラス基板のレジスト層側の面に、蒸着法により金の薄膜を形成した後、レジスト層を剥離した。
これにより、平均厚さ100nmのソース電極およびドレイン電極を形成した。
なお、酸素プラズマ処理の条件は、以下に示す通りである。
処理ガス :純酸素ガス
処理ガスの流量:100sccm
RFパワー :0.05W/cm2
処理時間 :300秒
雰囲気温度 :25℃
雰囲気圧力 :1×10−1Pa
次に、ソース電極およびドレイン電極を形成したガラス基板を、化合物(1)の0.1mMクロロホルム溶液(有機膜形成用液)中に0.05分間浸漬した。
これにより、ソース電極およびドレイン電極の表面に有機膜を形成した。
なお、ソース電極およびドレイン電極の表面に結合した化合物(1)の数は、0.01×1015個/cm2であった。
このソース電極およびドレイン電極の表面に結合した有機化合物の数の測定は、QCM(Quarts Crystal Microbalance)、SPM(Scanning Probe Microscope)等の装置を用いて行った。
次に、ガラス基板上に、フルオレン−ビチオフェン共重合体(F8T2)の1%wt/volトルエン溶液を、スピンコート法(2400rpm)により塗布した後、60℃×10分間で乾燥した。
これにより、平均厚さ50nmの有機半導体層を形成した。
次に、ゲート絶縁層上の、ソース電極とドレイン電極との間の領域に対応する領域に、Ag微粒子水分散液を、インクジェット法により塗布した後、80℃×10分間で乾燥した。
これにより、平均厚さ100nm、平均幅30μmのゲート電極を形成した。
以上の工程により、サンプルNo.1Aの薄膜トランジスタを得た。
有機膜形成用液の種類、有機膜形成用液へ基板の浸漬時間を、それぞれ、表1に示すように変更した以外は、前記サンプルNo.1Aと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
((サンプルNo.17A))
有機膜の形成を省略した以外は、前記サンプルNo.1Aと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
なお、サンプルNo.1A〜14Aで形成された有機膜の最大厚さは、それぞれ、各有機膜の形成に用いた化合物(1)、(2)および(7)〜(11)が有するメチレン基の繰り返し構造の長さより小さいものであった。
各サンプルNo.の薄膜トランジスタについて、それぞれ、窒素囲気下において、ドレイン電流値Id、しきい電圧値Vth、S値を測定した。
ここで、しきい電圧Vthとは、ゲート電圧とId1/2との関係を表す近似式(関係式)の値が0となるときのゲート電圧であり、ドレイン電流が流れ始めるのに要するゲート電圧とみなすことができる。
なお、これらの値は、それぞれ、薄膜トランジスタを製造した直後および窒素雰囲気下で3週間放置した後に測定した。
また、ドレイン電流値Idは、ソース電極−ドレイン電極間の電位差を40Vとし、ゲート電圧の値を変化させて測定した。
この結果を表1に示す。
なお、表1中のドレイン電流値Idは、ゲート電圧が−40Vでの値である。
また、表1中の各数値は、200個の薄膜トランジスタの平均値である。
また、有機膜を構成する有機化合物として、フルオロ基を4つ以上有するものを用いること(サンプルNo.1A〜9A)により、特性に優れるものとなった。
これに対し、サンプルNo.15A〜17Aの薄膜トランジスタ(比較例)は、いずれも、特性が劣り、特に、有機膜を設けなかったサンプルNo.17Aの薄膜トランジスタでは、3週間経過後において、著しい特性の劣化が認められた。
2−1.薄膜トランジスタの製造
以下に示すようにして、サンプルNo.1B〜4Bの薄膜トランジスタを、それぞれ、200個ずつ製造した。
((サンプルNo.1B))
前記サンプルNo.5Aと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
ソース電極およびドレイン電極の表面に対して、酸素プラズマ処理に代えてアルゴンプラズマ処理を行った以外は、前記サンプルNo.1Bと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
なお、アルゴンプラズマ処理の条件は、以下に示す通りである。
処理ガスの流量:100sccm
RFパワー :0.05W/cm2
処理時間 :300秒
雰囲気温度 :25℃
雰囲気圧力 :1×10−1Pa
ソース電極およびドレイン電極の表面に対して、酸素プラズマ処理に代えて紫外線オゾン処理を行った以外は、前記サンプルNo.1Bと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
なお、紫外線オゾン処理の条件は、以下に示す通りである。
紫外線の強度 :0.01W/cm2
処理時間 :900秒
雰囲気 :大気雰囲気(紫外線照射によりオゾンが発生)
雰囲気温度 :25℃
雰囲気圧力 :大気圧
ソース電極およびドレイン電極の表面に対する酸素プラズマ処理を省略した以外は、前記サンプルNo.1Bと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
なお、サンプルNo.1B〜4Bで形成された有機膜の最大厚さは、それぞれ、化合物(1)が有するメチレン基の繰り返し構造の長さより小さいものであった。
各サンプルNo.の薄膜トランジスタについて、それぞれ、窒素囲気下において、ドレイン電流値Id、しきい電圧値Vth、S値を測定した。
なお、これらの値は、それぞれ、薄膜トランジスタを製造した直後に測定した。
また、ドレイン電流値Idは、ソース電極−ドレイン電極間の電位差を40Vとし、ゲート電圧の値を変化させて測定した。
この結果を表2に示す。
なお、表2中のドレイン電流値Idは、ゲート電圧が−40Vでの値である。
また、表2中の各数値は、200個の薄膜トランジスタの平均値である。
(実施例3)
3−1.薄膜トランジスタの製造
以下に示すようにして、サンプルNo.1C〜7Cの薄膜トランジスタを、それぞれ、200個ずつ製造した。
前記サンプルNo.5Aと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
((サンプルNo.2C〜6C))
有機膜形成用液の種類を、それぞれ、表3に示すように変更した以外は、前記サンプルNo.1Cと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
有機膜の形成を省略した以外は、前記サンプルNo.1Cと同様にして、薄膜トランジスタを製造した。
なお、サンプルNo.1C〜6Cで形成された有機膜の最大厚さは、それぞれ、各有機膜の形成に用いた化合物(1)〜(6)が有するメチレン基の繰り返し構造の長さより小さいものであった。
各サンプルNo.の薄膜トランジスタについて、それぞれ、ドレイン電流値Idを測定した。
なお、ドレイン電流値は、それぞれ、薄膜トランジスタを製造した直後に窒素雰囲気中において、および、大気中に1日放置した後に大気中において測定した。
また、ドレイン電流値Idは、ソース電極−ドレイン電極間の電位差を40Vとし、ゲート電圧の値を変化させて測定した。
この結果を表3に示す。
また、表3中の各数値は、200個の薄膜トランジスタの平均値である。
また、これらのものは、いずれも、大気中に放置した後の特性の劣化が、サンプルNo.7の薄膜トランジスタ(比較例)に比べて明らかに低いものであった。
また、有機膜を構成する有機化合物の(CF2)ユニットの数と(CH2)ユニットの数とを適宜設定することにより、大気中に放置した後の特性の劣化が抑制される傾向を示し、サンプルN0.1Cおよび2Cの薄膜トランジスタにおいて、特に高い抑制効果が認められた。
Claims (18)
- 一対の電極と有機半導体層とを有する電子デバイスであって、
前記一対の電極のうちの少なくとも一方の電極の表面に、非共役系有機化合物を含む有機化合物を結合させてなる有機膜を有することを特徴とする電子デバイス。 - 前記一対の電極が、それぞれ、ソース電極およびドレイン電極を構成し、
さらに、前記有機半導体層に電界をかけるゲート電極を備えるトランジスタである請求項1に記載の電子デバイス。 - 前記有機化合物は、前記電極に結合する結合基を有し、
前記有機膜が形成された電極の表面には、前記結合基が結合していない部分を有する請求項1または2に記載の電子デバイス。 - 前記有機化合物は、前記電極に結合する結合基を有し、
前記有機膜が形成された電極の表面には、さらに前記結合基が結合し得る部分が残存する請求項1または2に記載の電子デバイス。 - 前記有機化合物は、前記電極に結合する結合基を有し、
該結合基は、SH基である請求項1ないし4のいずれかに記載の電子デバイス。 - 前記有機化合物は、前記結合基と反対側に前記有機半導体層に荷電を供給し得る置換基を有する請求項3ないし5のいずれかに記載の電子デバイス。
- 前記有機化合物は、直鎖状をなし、
前記有機膜の最大厚さは、前記有機化合物の前記結合基から前記置換基までの長さより小さい請求項6に記載の電子デバイス。 - 前記有機化合物は、前記結合基と反対側に撥水性を示す構造を有する請求項3ないし7のいずれかに記載の電子デバイス。
- 前記非共役系有機化合物は、一般式:CF3(CF2)m(CH2)nSHで表され、mは1〜35の整数を示し、nは2〜33の整数を示す請求項8に記載の電子デバイス。
- 前記一般式において、m/nが0.25〜18なる関係を満たす請求項9に記載の電子デバイス。
- 前記非共役系有機化合物は、その総炭素数が4〜45である請求項1ないし12のいずれかに記載の電子デバイス。
- 前記有機膜が形成された電極において、当該電極の表面へ結合した前記有機化合物の数は、0.05×1015〜0.96×1015個/cm2である請求項1ないし11のいずれかに記載の電子デバイス。
- 前記有機膜が形成された電極は、前記有機膜の存在により前記有機半導体層と直接接触するのが防止されている請求項1ないし12のいずれかに記載の電子デバイス。
- 前記有機膜が形成された電極は、Au、Ag、Cu、Ptまたはこれらを含む合金を主材料として構成されている請求項1ないし13のいずれかに記載の電子デバイス。
- 一対の電極と有機半導体層とを有する電子デバイスの製造方法であって、
前記一対の電極の少なくとも一方の電極の表面に、非共役系有機化合物を含む有機化合物を結合させることにより有機膜を形成する第1の工程と、
前記有機膜に接触するように、前記有機半導体層を形成する第2の工程とを有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記第1の工程に先立って、少なくとも前記有機膜を形成する電極の表面を洗浄する工程を有し、
前記洗浄を酸素プラズマ処理により行う請求項15に記載の電子デバイスの製造方法。 - 前記第1の工程において、濃度0.01〜10mMで前記有機化合物を含有する有機膜形成用液を、前記有機膜を形成する電極の表面に0.1〜200分間接触させることにより、前記有機膜を形成する請求項16または17に記載の電子デバイスの製造方法。
- 請求項1ないし14のいずれかに記載の電子デバイスを備えることを特徴とする電子機器。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008085315A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP2008141197A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-19 | Xerox Corp | 薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタ |
JP2009004396A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Hitachi Ltd | 有機薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法 |
JP2009218244A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Hitachi Ltd | 有機薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP2010531055A (ja) * | 2007-06-22 | 2010-09-16 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 有機薄膜トランジスタ、有機発光素子及び有機発光ディスプレイ |
JP2011505065A (ja) * | 2007-11-27 | 2011-02-17 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 有機薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
WO2014104224A1 (ja) | 2012-12-26 | 2014-07-03 | Nakajima Toshihiro | PGC-1β蛋白質の機能調整剤,ミトコンドリア機能の調節剤,抗肥満剤及びそれらスクリーニング方法 |
JP2015185585A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
WO2020189322A1 (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-24 | 株式会社Screenホールディングス | 有機半導体素子の製造方法 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100787438B1 (ko) * | 2005-12-12 | 2007-12-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 박막 트랜지스터, 이의 제조방법 및 이를 구비한 유기발광 디스플레이 장치 |
US8138075B1 (en) | 2006-02-06 | 2012-03-20 | Eberlein Dietmar C | Systems and methods for the manufacture of flat panel devices |
KR100795801B1 (ko) * | 2006-07-19 | 2008-01-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전기 영동 디스플레이 장치 |
JP2008218869A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Seiko Epson Corp | 有機トランジスタ、有機トランジスタの製造方法並びに電子機器 |
US20080296562A1 (en) * | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Murduck James M | Methods and apparatus for fabricating carbon nanotubes and carbon nanotube devices |
JP5200443B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2013-06-05 | セイコーエプソン株式会社 | 有機トランジスタ及びアクティブマトリックス基板 |
TWI425639B (zh) * | 2007-10-22 | 2014-02-01 | Au Optronics Corp | 一種薄膜電晶體及其製造方法 |
US9520563B2 (en) * | 2007-11-21 | 2016-12-13 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Patterning of organic semiconductor materials |
GB0724774D0 (en) | 2007-12-19 | 2008-01-30 | Cambridge Display Tech Ltd | Organic thin film transistors, active matrix organic optical devices and methods of making the same |
US20090250731A1 (en) * | 2008-04-02 | 2009-10-08 | Tsung-Yeh Yang | Field-effect transistor structure and fabrication method thereof |
WO2010051258A1 (en) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | The Regents Of The University Of Michigan | Inverted organic photosensitive devices |
TWI578543B (zh) * | 2014-10-20 | 2017-04-11 | 群創光電股份有限公司 | 薄膜電晶體基板及包含其之顯示裝置 |
US10923656B2 (en) * | 2016-07-12 | 2021-02-16 | Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University | Switching atomic transistor and method for operating same |
WO2021102134A1 (en) | 2019-11-20 | 2021-05-27 | E Ink Corporation | Spatially variable hydrophobic layers for digital microfluidics |
CN111106241B (zh) * | 2019-12-06 | 2023-11-10 | 华东师范大学 | 聚苯乙烯在有机薄膜晶体管抗辐照中的应用 |
US11554374B2 (en) | 2020-01-17 | 2023-01-17 | Nuclera Nucleics Ltd. | Spatially variable dielectric layers for digital microfluidics |
US11946901B2 (en) | 2020-01-27 | 2024-04-02 | Nuclera Ltd | Method for degassing liquid droplets by electrical actuation at higher temperatures |
KR20220141862A (ko) | 2020-02-18 | 2022-10-20 | 뉴클라 뉴클레익스 리미티드 | 전기습윤 장치 구동을 위한 적응형 게이트 구동 |
CN115135413A (zh) | 2020-02-19 | 2022-09-30 | 核酸有限公司 | 用于EWoD阵列的高频AC驱动的锁存晶体管驱动 |
WO2021222061A1 (en) | 2020-04-27 | 2021-11-04 | Nuclera Nucleics Ltd. | Segmented top plate for variable driving and short protection for digital microfluidics |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4125534A (en) * | 1977-02-25 | 1978-11-14 | Allied Chemical Corporation | Carbazolyl diacetylenic compounds |
US5477360A (en) * | 1993-04-23 | 1995-12-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Liquid crystal display device |
SE506019C2 (sv) | 1994-05-17 | 1997-11-03 | Forskarpatent I Linkoeping Ab | Ljuskälla av konjugerade polymerer med spänningsstyrd färg samt metod för tillverkning av ljuskällan |
DE69710781T2 (de) * | 1996-07-29 | 2002-10-31 | Cambridge Display Tech Ltd | Elektrolumineszierende anordnungen mit elektrodenschutz |
US6423428B1 (en) * | 1996-07-29 | 2002-07-23 | Cambridge Display Technology Limited | Conjugated copolymers for use in luminescent devices |
JP2002543570A (ja) * | 1999-04-23 | 2002-12-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | エレクトロルミネッセントデバイス |
BR0011888A (pt) * | 1999-06-21 | 2004-03-09 | Univ Cambridge Tech | Processo para formar um dispositivo eletrônico, dispositivo eletrônico, circuito lógico, visor de matriz ativa, e, transistor de polímero |
TW503255B (en) * | 1999-09-27 | 2002-09-21 | Ciba Sc Holding Ag | Electroluminescent devices comprising diketopyrrolopyrroles |
EP1243034A1 (en) * | 1999-12-21 | 2002-09-25 | Plastic Logic Limited | Solution processed devices |
US6605904B2 (en) * | 2000-01-31 | 2003-08-12 | University Of Rochester | Tunable multicolor electroluminescent device |
KR20010095437A (ko) * | 2000-03-30 | 2001-11-07 | 윤덕용 | 발광물질/점토 나노복합소재를 이용한 유기 전기 발광 소자 |
JP4763912B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2011-08-31 | 富士通株式会社 | 有機発光材料及び有機発光素子 |
US20030113229A1 (en) * | 2000-09-22 | 2003-06-19 | Natalia Briones | Method for adhesion of polymers to metal-coated substrates |
WO2003016599A1 (fr) * | 2001-08-09 | 2003-02-27 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Element a semi-conducteur organique |
EP1291932A3 (en) * | 2001-09-05 | 2006-10-18 | Konica Corporation | Organic thin-film semiconductor element and manufacturing method for the same |
JP2004006782A (ja) | 2002-04-11 | 2004-01-08 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機半導体材料、これを用いた有機トランジスタ、電界効果トランジスタ及びスイッチング素子 |
US7285440B2 (en) * | 2002-11-25 | 2007-10-23 | International Business Machines Corporation | Organic underlayers that improve the performance of organic semiconductors |
JP2004217913A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-08-05 | Nof Corp | 水酸基変性エチレン−α−オレフィン系共重合体及びその組成物並びに水酸基変性エチレン−α−オレフィン系共重合体の製造方法 |
JP2004288836A (ja) | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Toshiba Corp | 有機薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP4997688B2 (ja) * | 2003-08-19 | 2012-08-08 | セイコーエプソン株式会社 | 電極、薄膜トランジスタ、電子回路、表示装置および電子機器 |
JP4550389B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2010-09-22 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
US6989290B2 (en) * | 2003-11-15 | 2006-01-24 | Ari Aviram | Electrical contacts for molecular electronic transistors |
KR20080040119A (ko) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | 삼성전자주식회사 | 디클로로포스포릴기를 함유하는 자기조립단분자막 형성화합물을 이용한 유기박막 트랜지스터의 제조방법 |
-
2004
- 2004-11-05 JP JP2004322976A patent/JP4341529B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008085315A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP2008141197A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-19 | Xerox Corp | 薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタ |
JP2009004396A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Hitachi Ltd | 有機薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法 |
JP2010531055A (ja) * | 2007-06-22 | 2010-09-16 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 有機薄膜トランジスタ、有機発光素子及び有機発光ディスプレイ |
JP2011505065A (ja) * | 2007-11-27 | 2011-02-17 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 有機薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP2009218244A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Hitachi Ltd | 有機薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
WO2014104224A1 (ja) | 2012-12-26 | 2014-07-03 | Nakajima Toshihiro | PGC-1β蛋白質の機能調整剤,ミトコンドリア機能の調節剤,抗肥満剤及びそれらスクリーニング方法 |
JP2015185585A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
WO2020189322A1 (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-24 | 株式会社Screenホールディングス | 有機半導体素子の製造方法 |
Also Published As
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Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4341529B2 (ja) | 電子デバイス、電子デバイスの製造方法および電子機器 | |
US7180108B2 (en) | Transistor, circuit board, display and electronic equipment | |
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