JP2006101480A - プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法 - Google Patents

プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006101480A
JP2006101480A JP2005202144A JP2005202144A JP2006101480A JP 2006101480 A JP2006101480 A JP 2006101480A JP 2005202144 A JP2005202144 A JP 2005202144A JP 2005202144 A JP2005202144 A JP 2005202144A JP 2006101480 A JP2006101480 A JP 2006101480A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
matching network
plasma chamber
active
capacitive element
load
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005202144A
Other languages
English (en)
Inventor
A Sorensen Carl
エー. ソレンセン カール
M White John
ジョン エム. ホワイト
Suhail Anwar
アンワー スハイル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of JP2006101480A publication Critical patent/JP2006101480A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • H01J37/32183Matching circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract


【課題】プラズマチャンバーに関連した電気インピーダンスとプラズマチャンバーを駆動させるために必要な電圧量とを減少させること。
【解決手段】プラズマチャンバーを駆動する固定インピーダンス変換回路網を設けるための装置には、能動RF整合回路網306とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロード320とを連結するように適合された予備整合回路網308を含む。予備整合回路網308には、第1容量性素子310、第1容量性素子310に平行に接続されて、増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロード320を駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網306の出力部に与える平行回路を形成する誘導性素子312、および上記平行回路に連結されかつプラズマチャンバーロード320に連結されるように適合された第2容量性素子314を含む。
【選択図】図1

Description

発明の内容
この出願は、2004年7月12日に提出されて発明の名称が“APPARATUS AND METHODS FOR A LOW INDUCTANCE PLASMA CHAMBER AND/OR A FIXED IMPEDANCE TRANSFORMATION NETWORK FOR USE IN CONNECTION WITH THE SAME”(低インダクタンスプラズマチャンバーおよび/またはこのプラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網のための装置および方法)であり、その全体を参照として本明細書に組み入れる出願番号60/587,195の米国仮特許出願の優先権を主張するものである。
発明の分野
この発明は、電子デバイス製造に関するものであり、さらに詳しくは、プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法に関するものである。
発明の背景
プラズマチャンバーは典型的には、半導体ウェハー、ガラス基板、ポリマー基板などの基板を処理するために使用される。プラズマチャンバーには、無線周波(RF)信号によって作動されると、コイルまたはチョークのような導体のように、かつ/またはコンデンサーのように作用する導電性素子が含まれていてもよい。これらの「実効」インダクタンスおよび/または「実効」キャパシタンスは、RF信号によって駆動されると、プラズマチャンバーおよびその構成要素によって画成された電気回路にリアクタンス構成要素を生成する。これらのリアクタンス構成要素は、プラズマチャンバーに関連した電気インピーダンスとプラズマチャンバーを駆動するために必要な電圧量とを実質的に増大させることがある。その結果、プラズマチャンバーは非効率なものになり、また、信頼性の問題に直面することがある。
発明の概要
この発明の特定の実施形態では、プラズマチャンバーを駆動する固定インピーダンス変換回路網を設けるための装置には、能動RF整合回路網とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロードとを連結するように適合された予備整合回路網が含む。この予備整合回路網には、(1)第1容量性素子、(2)この第1容量性素子に平行に接続されて、増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロードを駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網の出力部に与える平行回路を形成する誘導性素子、および(3)上記平行回路に連結されかつプラズマチャンバーロードに連結されるように適合された第2容量性素子が含む。この第2容量性素子は、プラズマチャンバーロードに関連したインダクタンスに対応しているリアクタンスを少なくとも一部、減少させるか、または無効にする。
この発明の特定の実施形態では、プラズマチャンバーを駆動する固定インピーダンス変換回路網を設けるための方法には、(1)能動RF整合回路網とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロードとの間に予備整合回路網を連結するステップ、(2)予備整合回路網の第1回路素子のあるプラズマチャンバーロードのリアクタンスを一部、減少させるステップおよび無効にするステップのうちの少なくとも一方のステップ、および(3)予備整合回路網の第2回路素子のある能動RF整合回路網の出力部によって認められたインピーダンスを段階的に増大させるステップが含む。
特定の実施形態では、プラズマチャンバーを駆動するための固定インピーダンス変換回路網を設けるための装置には、能動RF整合回路網とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロードとを連結するように適合された予備整合回路網が含む。この予備整合回路網は、(1)プラズマチャンバーロードに関連したインダクタンスに対応しているリアクタンスを少なくとも一部、減少させるか、または無効にし、かつ、(2)増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロードを駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網の出力部に与えるように適合されている。多くの他の態様が提供される。
この発明の他の特徴および観点は、以下の詳細な説明、付加された特許請求の範囲および添付された図面から一層明らかになる。
詳細な説明
この発明によれば、(1)能動RF整合回路網の出力部によって認められたインピーダンスを増大し、かつ/または、(2)プラズマチャンバーを駆動しあるいはこれに電力を供給するのに必要な電圧の量を減少させるために、能動RF整合回路網およびプラズマチャンバーとともに使用するための固定インピーダンス変換回路網または予備整合回路網が提供される。
この発明による予備整合回路網は、プラズマチャンバーロードを駆動するのに必要な電圧と電流との位相角が減少しかつ回路網の力率が増大し、それによって、プラズマチャンバーロードを駆動するのに必要な電圧の減少が引き起こされるように、プラズマチャンバーロードのリアクタンス構成要素を減少させるように作用する。この発明による予備整合回路網はまた、能動RF整合回路網の出力部で認められる高いまたは「増大した」インピーダンスを与えるように作用する。その結果、能動RF整合回路によって、プラズマチャンバーロードを低い電圧で駆動することができる。これによって、能動RF整合回路網の一層効率的で信頼性のある作動がもたらされ、また、能動RF整合回路網の必要な作動範囲が減少する。
図1には、この発明による代表的な固定構成要素インピーダンス変換回路網または予備整合回路網が図示されている。図1によれば、参照符号300によって全体が表示されたこの発明の装置には、RF信号発生器302、RF伝送線304、および能動RF整合回路網306が含む。RF信号発生器302によって発生したRF信号は、RF伝送線304を経て能動RF整合回路網306へ伝送される。
RF信号発生器302は、RF信号をプラズマチャンバーロードへ提供するように適合された任意の適切なRF信号発生器であってもよい。能動RF整合回路網306は、この発明の装置300によって駆動されるプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロード320のためのインピーダンス整合をもたらすように適合された任意の能動回路であってもよい。代表的な能動RF整合回路網は、図2を参照して以下に説明されているが、任意の適切な能動RF整合回路網を採用することができる。
装置300には予備整合回路網308もまた含まれており、予備整合回路網308には、図1の代表的な実施形態ではタップ付きチョークである誘導性素子(例えばインダクター312)に平行に接続されて示された第1容量性素子(例えば第1コンデンサー310)が含む。別の代表的な実施形態では、インダクター312はコイルである。
コンデンサー310/インダクター312回路と直列に第2容量性素子(例えば第2コンデンサー314)が接続されて示されており、また、それは予備整合回路網308のための出力コンデンサーである。コンデンサー310および314の容量値およびインダクター312のインダクタンス値は、装置300またはその構成要素(以下でさらに説明されるように)のための所望のインピーダンス整合をもたらすことと一致して、任意の適値であるように選択することができる。
装置300には、予備整合回路網308が連結されるプラズマチャンバー(例えば図3を参照)のプラズマチャンバーロード320の「実効」インダクタンスであるインダクター316と、プラズマチャンバーロード320の「実効」抵抗である抵抗器318とがさらに含む。インダクター316と抵抗器318とは、示されたように、予備整合回路網308の出力部と直列に接続されている。
プラズマチャンバーロード320は、この装置300が利用される任意のプラズマチャンバーに関連したロードであってもよい。別の代表的な実施形態では、プラズマチャンバーロード320は任意の集中構成要素プラズマチャンバーロードであってもよい。
プラズマチャンバーロード320の「実効」抵抗には、プラズマチャンバーの作動および使用の間にプラズマチャンバーの中に形成されたそれぞれのプラズマ体の抵抗および/またはそれぞれのプラズマチャンバーの任意の構成要素におけるその他の抵抗が含まれる。
一例として、プラズマチャンバー(図示略)の寸法は、「実効」インダクタンス、すなわち、およそ12〜15オーム(ohm)(誘導性)の誘導性リアクタンスを有するインダクター316の値になり、かつ、「実効」抵抗、すなわち、先に組み入れられた2004年7月12日付け出願の米国仮特許出願第60/587,195号に記載されたように、およそ0.3〜2.0オームの抵抗器318の値になるようなものである。このような実施形態では、第1コンデンサー310には約200ピコファラッド(picoFarad)のキャパシタンスがあり、インダクター312には約0.729マイクロヘンリー(microHenry)のインダクタンスがあり、第2コンデンサー314には約1250ピコファラッドのキャパシタンスがあるが、これらは他の数値であってもよい。
予備整合回路網308は、能動RF整合回路網306の出力部における電圧および電流の両方を減少させるために利用することができる。例えば、第2コンデンサー314は、能動RF整合回路網306からもたらされたRF信号によって作動されると、プラズマチャンバーロード320のインダクター316によって生成された誘導性リアクタンスを一部無効にするか、または減少させるように作用する容量性リアクタンスを作り出す。プラズマチャンバーロードの容量性リアクタンス構成要素が減少すると、プラズマチャンバーロード320を駆動するために用いられた電圧と電流との間の位相角θが減少して、力率、すなわち、それぞれのプラズマチャンバーロード320を駆動したりこれに電力供給したりするために必要である電圧と電流との間におけるθのコサインの値の増大がもたらされる。
予備整合回路網308は、インピーダンスを「改善された」ロードに変換する(例えば、第1コンデンサー310とインダクター312との平行な組み合わせによって)ように、能動RF整合回路網によって認められたロードのインピーダンスを増大させるようにも作用する。
1つの代表的な実施形態では、第1コンデンサー310は、選択された作動周波数でインダクター312と共鳴するように選択される。1つの代表的な実施形態ではちょうどまたはおよそ13.56メガヘルツ(MHz)である選択された作動周波数で、第1コンデンサー310とインダクター312との平行な組み合わせによって、能動RF整合回路網306の出力部へ、高いすなわち「増大した」インピーダンスが与えられる。能動RF整合回路網306の出力部で認められたこの高いすなわち「増大した」インピーダンスは、それぞれのプラズマチャンバーロード320を駆動するために必要な電圧の量を減少させるように作用する。それぞれのプラズマチャンバーロード320を駆動するために必要な電圧が減少すると、能動RF整合回路網306の一層効率的で信頼性のある作動がもたらされる。
1つの代表的な実施形態では、予備整合回路網308の構成要素(例えば、第1コンデンサー310、第2コンデンサー314および/またはインダクター312)は、約3:1のインピーダンス増大比がもたらされるように選択することができる。別の代表的な実施形態では、予備整合回路網308の構成要素は、約4:1のインピーダンス増大比がもたらされるように選択することができる。例えば、インダクター312はインピーダンスの実数部分を(タップの位置を通して)高めることができ、第2コンデンサー314はインピーダンスの虚数部分を高くなりすぎないように維持することができる。このようにして、予備整合回路網308は、能動RF整合回路網306によって認められたインピーダンスを能動RF整合回路網306の適切な作動のための通常のまたは予想の範囲内に納めることができる。
以上の説明はこの発明の代表的な実施形態だけを開示するものである。この発明の範囲に属する、上記開示の装置および方法の変形例は、当業者にとってすぐに明らかである。例えば別の実施形態では、能動RF整合回路網306は、予備整合回路網308の構成要素がそれと一体であるか、またはその中にあるように、設計することができる。
図2には、一体型能動RF整合/予備整合回路網322のこのような代表的な実施形態が図示されている。この一体型整合回路網322には、示されたように、予備整合回路網308に連結された能動RF整合回路網306が含む。図2の代表的な実施形態では、能動RF整合回路網306には、整調分路コンデンサー324と整調直列コンデンサー326とが含む。制御器328が、それぞれの整調コンデンサー324,326に連結されており、能動RF整合回路網306によって(例えば接続点330で)認められたロードインピーダンスを周期的に抽出するとともに、ロードインピーダンスの変化に基づいて整調コンデンサー324,326を調整することができる。例えば、制御器328は、10分の1秒ごとに、または他の何らかの時間間隔で、ロードインピーダンスの変化を調整することができる。能動RF整合回路網306には作動の規制範囲があるので、予備整合回路網308は、ロードインピーダンスを能動RF整合回路網306の作動範囲内に納めるために採用することができる。
図3には、この発明によって設けられた第1の代表的プラズマ処理システム350が図示されている。図3によれば、第1処理システム350にはプラズマチャンバー352が含まれており、プラズマチャンバー352には、基板支持体356から所定距離だけ離れて配設されたシャワーヘッド354が含む。基板支持体356は、処理の間に基板Sをプラズマチャンバー352の内部に支持するように適合されている。RF電力は、RF電源358から、能動RF整合回路網306および予備整合回路網308(先に説明された)の使用によって、プラズマチャンバー352へ供給することができる。プラズマチャンバー352へのRF電力(例えば、ある実施形態では20〜25キロワット(kW)であるが、他の電力範囲も使用することができる)の供給の間における望ましくない放射線の広がりを防止するために、ファラデーケージのようなRFカバーボックス360を採用することができる。
プラズマは、適切なガスをプラズマチャンバー352の中へ(シャワーヘッド354を介して)流し、かつ、RF電力をRF電源358、能動RF整合回路網306および予備整合回路網308を介してシャワーヘッド354へ供給することによって、プラズマチャンバー352の内部に生成することができる。図3に示された実施形態では、予備整合回路網はRFカバーボックス360の内部に配置されている。この予備整合回路網は他の箇所に配置してもよいことはわかる。例えば、図4には、この発明によって設けられた第2の代表的プラズマ処理システム370が図示されており、その処理システムでは、プラズマチャンバー352の内部に予備整合回路網308が配置されている。図5には、この発明によって設けられた第3の代表的プラズマ処理システム380が図示されており、その処理システムでは、能動RF整合回路網306の内部にまたはこれと一体に予備整合回路網308が配置されている。
以上のように、この発明はその代表的な実施形態に関して開示されたが、他の実施形態も、請求の範囲によって定義されたようなこの発明の精神および範囲の内部に納まる、ということを理解すべきである。
プラズマチャンバーを駆動するために使用される能動RF整合とともに使用するインピーダンス変換回路網または予備整合回路網を設ける、この発明の代表的な実施形態を図示している。 この発明によって設けられた集積型能動RF整合/予備整合回路網の代表的な実施形態を図示している。 図3は、この発明によって設けられた第1の代表的プラズマ処理システムを図示している。 図4は、この発明によって設けられた第2の代表的プラズマ処理システムを図示している。 この発明によって設けられた第3の代表的プラズマ処理システムを図示している。
符号の説明
300…装置、302…RF信号発生器、304…RF伝送線、306…能動RF整合回路網、308…予備整合回路網、310…コンデンサー、312…インダクター、314…第2コンデンサー、316…インダクター、318…抵抗器
320…プラズマチャンバーロード、322…予備整合回路網、324…整調分路コンデンサー、326…整調直列コンデンサー、328…制御器、330…接続点、350…プラズマ処理システム、352…プラズマチャンバー、354…シャワーヘッド、356…基板支持体、358…RF電源、360…RFカバーボックス、380…プラズマ処理システム。

Claims (37)

  1. プラズマチャンバーを駆動する固定インピーダンス変換回路網を設けるための装置であって、
    能動RF整合回路網とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロードとを連結するように適合された予備整合回路網を備え、
    前記予備整合回路網が、
    第1容量性素子と、
    前記第1容量性素子に平行に接続されて、増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロードを駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網の出力部に与える平行回路を形成する誘導性素子と、
    前記平行回路に連結されかつプラズマチャンバーロードに連結されるように適合され、プラズマチャンバーロードに関連したインダクタンスに対応しているリアクタンスを少なくとも一部、減少させるか、または無効にする第2容量性素子と、
    を備える装置。
  2. 第1容量性素子および第2容量性素子の少なくとも一方が、コンデンサーを含む、請求項1に記載の装置。
  3. 誘導性素子が、コイルを含む、請求項1に記載の装置。
  4. 誘導性素子が、タップ付きチョークを含む、請求項1に記載の装置。
  5. 予備整合回路網が、約3:1のインピーダンス増大比をもたらす、請求項1に記載の装置。
  6. 予備整合回路網が、約4:1のインピーダンス増大比をもたらす、請求項1に記載の装置。
  7. 予備整合回路網が、能動RF整合回路網と一体化されているか、またはその中にある、請求項1に記載の装置。
  8. 予備整合回路網が、プラズマチャンバーと一体化されているか、またはその中にある、請求項1に記載の装置。
  9. 予備整合回路網が、プラズマチャンバーに関連したRF供給ボックスと一体化されているか、またはその中にある、請求項1に記載の装置。
  10. プラズマチャンバーを駆動する固定インピーダンス変換回路網を設けるための方法であって、
    能動RF整合回路網とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロードとの間に予備整合回路網を連結するステップと、
    予備整合回路網の第1回路素子のあるプラズマチャンバーロードのリアクタンスを一部、減少させるステップおよび無効にするステップのうちの少なくとも一方のステップと、
    予備整合回路網の第2回路素子のある能動RF整合回路網の出力部によって認められたインピーダンスを段階的に増大させるステップと、
    を含む方法。
  11. 予備整合回路網を能動RF整合回路網と一体化するか、またはその中に入れるステップをさらに含む、請求項10に記載の方法。
  12. 予備整合回路網をプラズマチャンバーと一体化するか、またはその中に入れるステップをさらに含む、請求項10に記載の方法。
  13. 予備整合回路網をプラズマチャンバーに関連したRF供給ボックスと一体化するか、またはその中に入れるステップをさらに含む、請求項10に記載の方法。
  14. プラズマチャンバーを駆動する固定インピーダンス変換回路網を設けるための装置であって、
    能動RF整合回路網とプラズマチャンバーに関連したプラズマチャンバーロードとを連結するように適合された予備整合回路網を備え、前記予備整合回路網が、
    プラズマチャンバーロードに関連したインダクタンスに対応しているリアクタンスを少なくとも一部、減少させるか、または無効にし、かつ
    増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロードを駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網の出力部に与えるように適合されている装置。
  15. 予備整合回路網が、
    第1容量性素子と、
    前記第1容量性素子に平行に接続されて平行回路を形成する誘導性素子と、
    前記平行回路に連結されかつプラズマチャンバーロードに連結されるように適合された第2容量性素子と、
    を備える、請求項14に記載の装置。
  16. 第1容量性素子および第2容量性素子の少なくとも一方が、コンデンサーを含む、請求項15に記載の装置。
  17. 誘導性素子が、コイルを含む、請求項15に記載の装置。
  18. 誘導性素子が、タップ付きチョークを含む、請求項15に記載の装置。
  19. 予備整合回路網が、約3:1のインピーダンス増大比をもたらす、請求項14に記載の装置。
  20. 予備整合回路網が、約4:1のインピーダンス増大比をもたらす、請求項14に記載の装置。
  21. 予備整合回路網が、能動RF整合回路網と一体化されているか、またはその中にある、請求項14に記載の装置。
  22. 予備整合回路網が、プラズマチャンバーと一体化されているか、またはその中にある、請求項14に記載の装置。
  23. 予備整合回路網が、プラズマチャンバーに関連したRF供給ボックスと一体化されているか、またはその中にある、請求項14に記載の装置。
  24. システムであって
    RF電源と、
    前記RF電源に連結されかつRF電源からのRF信号を受信するように適合された能動RF整合回路網と、
    プラズマチャンバーロードを有するプラズマチャンバーと、
    能動RF整合回路網とプラズマチャンバーロードとの間に連結され、
    プラズマチャンバーロードに関連したインダクタンスに対応しているリアクタンスを少なくとも一部、減少させるか、または無効にし、かつ
    増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロードを駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網の出力部に与えるように適合されている予備整合回路網と、
    を備えるシステム。
  25. 予備整合回路網が、
    第1容量性素子と、
    前記第1容量性素子に平行に接続されて平行回路を形成する誘導性素子と、
    前記平行回路に連結されかつプラズマチャンバーロードに連結されるように適合された第2容量性素子と、
    を備える、請求項24に記載のシステム。
  26. 第1容量性素子および第2容量性素子の少なくとも一方が、コンデンサーを含む、請求項25に記載のシステム。
  27. 誘導性素子が、コイルを含む、請求項25に記載のシステム。
  28. 誘導性素子が、タップ付きチョークを含む、請求項25に記載のシステム。
  29. 予備整合回路網が、約3:1のインピーダンス増大比をもたらす、請求項24に記載のシステム。
  30. 予備整合回路網が、約4:1のインピーダンス増大比をもたらす、請求項24に記載のシステム。
  31. 予備整合回路網が、能動RF整合回路網と一体化されているか、またはその中にある、請求項24に記載のシステム。
  32. 予備整合回路網が、プラズマチャンバーと一体化されているか、またはその中にある、請求項24に記載のシステム。
  33. 予備整合回路網が、プラズマチャンバーに関連したRF供給ボックスと一体化されているか、またはその中にある、請求項24に記載のシステム。
  34. システムであって、
    RF電源と、
    前記RF電源に連結されかつRF電源からのRF信号を受信するように適合された能動RF整合回路網と、
    プラズマチャンバーロードを有するプラズマチャンバーと、
    能動RF整合回路網とプラズマチャンバーロードとの間に連結された予備整合回路網と、
    を備え、
    前記予備整合回路網が、
    第1容量性素子と、
    前記第1容量性素子に平行に接続されて、増大したインピーダンスを、プラズマチャンバーロードを駆動するために必要な電圧が減少するように、能動RF整合回路網の出力部に与える平行回路を形成する誘導性素子と、
    前記平行回路に連結されかつプラズマチャンバーロードに連結されるように適合され、プラズマチャンバーロードに関連したインダクタンスに対応しているリアクタンスを少なくとも一部、減少させるか、または無効にする第2容量性素子と、
    を備えるシステム。
  35. 第1容量性素子および第2容量性素子の少なくとも一方が、コンデンサーを含む、請求項34に記載のシステム。
  36. 誘導性素子が、コイルを含む、請求項34に記載のシステム。
  37. 誘導性素子が、タップ付きチョークを含む、請求項34に記載のシステム。
JP2005202144A 2004-07-12 2005-07-11 プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法 Pending JP2006101480A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US58719504P 2004-07-12 2004-07-12

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010232873A Division JP5670694B2 (ja) 2004-07-12 2010-10-15 プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006101480A true JP2006101480A (ja) 2006-04-13

Family

ID=35898855

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005202144A Pending JP2006101480A (ja) 2004-07-12 2005-07-11 プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法
JP2005202150A Pending JP2006032954A (ja) 2004-07-12 2005-07-11 低インダクタンスプラズマチャンバーのための装置及び方法
JP2010232873A Expired - Fee Related JP5670694B2 (ja) 2004-07-12 2010-10-15 プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005202150A Pending JP2006032954A (ja) 2004-07-12 2005-07-11 低インダクタンスプラズマチャンバーのための装置及び方法
JP2010232873A Expired - Fee Related JP5670694B2 (ja) 2004-07-12 2010-10-15 プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20060027327A1 (ja)
JP (3) JP2006101480A (ja)
KR (2) KR100648336B1 (ja)
CN (2) CN100511357C (ja)
TW (2) TWI356656B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021503689A (ja) * 2017-11-17 2021-02-12 エヴァテック・アーゲー 真空プラズマ処理へのrfパワーの伝送

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006101480A (ja) 2004-07-12 2006-04-13 Applied Materials Inc プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法
US20070080141A1 (en) * 2005-10-07 2007-04-12 Applied Materials, Inc. Low-voltage inductively coupled source for plasma processing
CN101374381B (zh) * 2007-08-20 2011-07-27 清华大学 实现射频阻抗匹配的方法及射频阻抗匹配系统
US20100139562A1 (en) * 2008-12-10 2010-06-10 Jusung Engineering Co., Ltd. Substrate treatment apparatus
US8992723B2 (en) * 2009-02-13 2015-03-31 Applied Material, Inc. RF bus and RF return bus for plasma chamber electrode
US9305750B2 (en) * 2009-06-12 2016-04-05 Lam Research Corporation Adjusting current ratios in inductively coupled plasma processing systems
KR200476124Y1 (ko) * 2009-09-29 2015-01-30 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Rf­전력공급 샤워헤드를 위한 편심 접지 복귀
PL2854561T3 (pl) * 2012-06-01 2019-09-30 Dsm Ip Assets B.V. Suplementacja napojów w minerały
JP2015162266A (ja) * 2014-02-26 2015-09-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
WO2017205178A1 (en) * 2016-05-27 2017-11-30 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck impedance evaluation
US20180175819A1 (en) * 2016-12-16 2018-06-21 Lam Research Corporation Systems and methods for providing shunt cancellation of parasitic components in a plasma reactor
CN207811869U (zh) * 2018-01-09 2018-09-04 京东方科技集团股份有限公司 Pecvd设备
EP3896792A4 (en) * 2018-12-29 2021-12-29 Huawei Technologies Co., Ltd. Multi-band radio frequency front-end device, multi-band receiver, and multi-band transmitter
CN114121581B (zh) * 2020-08-27 2024-04-05 中微半导体设备(上海)股份有限公司 等离子体处理装置
US11508563B1 (en) 2021-05-24 2022-11-22 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for processing a substrate using improved shield configurations

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10241894A (ja) * 1996-11-04 1998-09-11 Applied Materials Inc 周波数サーボ及び電力、電圧、電流又はdI/dtのコントロールを用いた高周波プラズマリアクタのための高周波同調方法
JP2003282542A (ja) * 2002-03-25 2003-10-03 Mitsubishi Electric Corp プラズマ処理装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61174633A (ja) * 1985-01-29 1986-08-06 Ulvac Corp スパッタエッチング装置
JP3101420B2 (ja) * 1992-04-28 2000-10-23 東京エレクトロン株式会社 ドライエッチング装置
US5815047A (en) * 1993-10-29 1998-09-29 Applied Materials, Inc. Fast transition RF impedance matching network for plasma reactor ignition
US5695619A (en) * 1995-05-25 1997-12-09 Hughes Aircraft Gaseous pollutant destruction method using self-resonant corona discharge
US5907221A (en) * 1995-08-16 1999-05-25 Applied Materials, Inc. Inductively coupled plasma reactor with an inductive coil antenna having independent loops
US5654679A (en) * 1996-06-13 1997-08-05 Rf Power Products, Inc. Apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance
US5952896A (en) * 1997-01-13 1999-09-14 Applied Materials, Inc. Impedance matching network
JP3710081B2 (ja) * 1997-11-30 2005-10-26 アルプス電気株式会社 プラズマ処理装置
WO2000068985A1 (fr) 1999-05-06 2000-11-16 Tokyo Electron Limited Appareil de traitement au plasma
JP4467667B2 (ja) 1999-05-21 2010-05-26 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
US6363882B1 (en) * 1999-12-30 2002-04-02 Lam Research Corporation Lower electrode design for higher uniformity
JP3377773B2 (ja) * 2000-03-24 2003-02-17 三菱重工業株式会社 放電電極への給電方法、高周波プラズマ発生方法および半導体製造方法
JP4718093B2 (ja) 2000-03-28 2011-07-06 東京エレクトロン株式会社 複合セグメント電極に供給される電力を制御するための方法並びにシステム
TW502264B (en) 2000-08-26 2002-09-11 Samsung Electronics Co Ltd RF matching unit
KR100842947B1 (ko) 2000-12-26 2008-07-01 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 플라즈마 처리 방법 및 플라즈마 처리 장치
JP4024053B2 (ja) * 2002-02-08 2007-12-19 キヤノンアネルバ株式会社 高周波プラズマ処理方法及び高周波プラズマ処理装置
JP3966788B2 (ja) 2002-08-30 2007-08-29 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP4753276B2 (ja) 2002-11-26 2011-08-24 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
JP4553247B2 (ja) 2004-04-30 2010-09-29 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP2006101480A (ja) 2004-07-12 2006-04-13 Applied Materials Inc プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10241894A (ja) * 1996-11-04 1998-09-11 Applied Materials Inc 周波数サーボ及び電力、電圧、電流又はdI/dtのコントロールを用いた高周波プラズマリアクタのための高周波同調方法
JP2003282542A (ja) * 2002-03-25 2003-10-03 Mitsubishi Electric Corp プラズマ処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021503689A (ja) * 2017-11-17 2021-02-12 エヴァテック・アーゲー 真空プラズマ処理へのrfパワーの伝送
JP7330182B2 (ja) 2017-11-17 2023-08-21 エヴァテック・アーゲー 真空プラズマ処理へのrfパワーの伝送

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006032954A (ja) 2006-02-02
TWI303954B (en) 2008-12-01
JP2011066907A (ja) 2011-03-31
TW200608842A (en) 2006-03-01
JP5670694B2 (ja) 2015-02-18
TWI356656B (en) 2012-01-11
KR20060050031A (ko) 2006-05-19
TW200608841A (en) 2006-03-01
KR100767812B1 (ko) 2007-10-17
CN100511357C (zh) 2009-07-08
KR100648336B1 (ko) 2006-11-23
US20060027327A1 (en) 2006-02-09
CN1770238A (zh) 2006-05-10
KR20060050086A (ko) 2006-05-19
CN100426941C (zh) 2008-10-15
US20060017386A1 (en) 2006-01-26
US7570130B2 (en) 2009-08-04
CN1770950A (zh) 2006-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5670694B2 (ja) プラズマチャンバーとともに使用する固定インピーダンス変換回路網用の装置および方法
US20230170190A1 (en) Rf grounding configuration for pedestals
US10450653B2 (en) High impedance RF filter for heater with impedance tuning device
US9584090B2 (en) RF impedance matching network
TWI627653B (zh) 使用處理腔室中之調諧電極以調諧電漿分佈之設備及方法
KR102069923B1 (ko) 플라즈마 처리 장치 및 필터 유닛
US7100532B2 (en) Plasma production device and method and RF driver circuit with adjustable duty cycle
TW202131379A (zh) 用於電漿系統的奈秒級脈衝產生器射頻隔離
TW494711B (en) Integrated power oscillator RF source for plasma immersion ion implantation system
CN110416049B (zh) 可调节边缘射频等离子体分布的ccp刻蚀装置及其方法
JP2010521041A (ja) 無線周波数電力増幅器安定化回路網
JP2007524963A (ja) プラズマ生成装置及び方法並びに可変デューティサイクルの高周波駆動回路
US6954033B2 (en) Plasma processing apparatus
US6879870B2 (en) Method and apparatus for routing harmonics in a plasma to ground within a plasma enhanced semiconductor wafer processing chamber
JP5244123B2 (ja) プラズマ封じ込みのための電界低減装置
JP2006134606A (ja) 高周波給電装置及びプラズマ処理装置
JPH0888097A (ja) プラズマ装置用マッチング回路
CN112017842A (zh) 具有阻抗匹配网络的电感器组件和装置
TWI839393B (zh) 用於調變電漿的電漿處理系統及操作其之方法
KR102298032B1 (ko) 고 주파수 무선 주파수에 대한 전극 임피던스를 튜닝하고 저 주파수 무선 주파수를 접지로 종단하기 위한 장치 및 방법
JP2003217887A (ja) 無電極放電灯装置
JPH0555289A (ja) 半導体集積回路装置
JP2006148443A (ja) 高周波増幅器
JP2011188329A (ja) アクティブミキサー回路

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080909

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090818

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091105

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100615

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20101120

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101209