JP2006058497A5 - - Google Patents
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- 基板に有機材料層を形成する工程と、
前記有機材料層上に中間層を形成する工程と、
前記中間層上に感光性レジスト材料を塗布することでレジスト材料層を形成する工程と、
現像液に浸漬することで前記レジスト材料層の露光部又は非露光部を溶解してパターニングする工程と、
前記感光性レジスト層をマスクとして中間層をパターニングする工程と、
前記感光性レジスト層及び／又は中間層をマスクとして有機材料層をパターニングする工程とを有することを特徴とする有機材料のパターン形成方法。 - 前記中間層は、水溶性材料、アルコール可溶性ナイロン、光吸収材料のいずれか１の材料からなることを特徴とする請求項１記載の有機材料のパターン形成方法。
- 前記有機材料のパターニング工程は、前記有機材料を溶解する溶媒又はプラズマエッチングを用いることを特徴とする請求項１または２に記載の有機材料のパターン形成方法。
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