JP2006054430A - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 39
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 11
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 119
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/768—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
- H01L21/76838—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
- H01L21/76895—Local interconnects; Local pads, as exemplified by patent document EP0896365
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
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Abstract
【解決手段】 活性領域4aには、nMOSトランジスタ10の1対のソース/ドレイン領域11、11が形成されている。1対のソース/ドレイン領域11、11に挟まれる半導体基板の領域上にゲート酸化膜を介してゲート電極層13が形成されている。ゲート電極層13は、活性領域4a上および素子分離構造上の双方に延在し、かつ素子分離構造上にコンタクトパッド部13aを有し、かつ活性領域4aとコンタクトパッド13aとの平面的な間隔S1が0.5μm未満である。
【選択図】 図1
Description
とを有する半導体装置であって、半導体基板と、素子分離構造と、nMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域と、前記nMISトランジスタのゲート電極層と、pMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域と、前記pMISトランジスタのゲート電極層とを備えている。素子分離構造は、半導体基板の第1の活性領域と第2の活性領域との間を電気的に分離するように半導体基板の主表面に形成されている。nMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域は第1の活性領域に形成されている。nMISトランジスタのゲート電極層は、nMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域に挟まれる半導体基板の領域上に第1の絶縁層を介して形成されている。pMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域は第2の活性領域に形成されている。pMISトランジスタのゲート電極層は、pMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域に挟まれる半導体基板の領域上に第2の絶縁層を介して形成されている。nMISトランジスタのゲート電極層は、第1の活性領域上および素子分離構造上の双方に延在し、かつ素子分離構造上に第1の広幅部を有している。pMISトランジスタのゲート電極層は、第2の活性領域上および素子分離構造上の双方に延在し、かつ素子分離構造上に第2の広幅部を有している。第1の活性領域と第1の広幅部との平面的な間隔が第2の活性領域と第2の広幅部との平面的な間隔よりも小さい。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における半導体装置の構成を概略的に示す平面図である。また図2(a)は図1のIIa−IIa線に沿う概略断面図であり、図2(b)は図1のIIb−IIb線に沿う概略断面図である。また図3は図1のIII−III線に沿う概略断面図であり、図4は図1のIV−IV線に沿う概略断面図である。なお、図3および図4においては、コンタクトパッド部に導電層が接続された様子を示している。
まず本発明者は、SEM(Scanning Electron Microscope)によりゲート電極層におけるコーナーラウンディングについて調べた。その結果、図6に示すようにゲート電極層13におけるゲート部13bとコンタクトパッド部13aとの接続部の角やコンタクトパッド部13aの角がラウンディングしていた。これにより、ゲート部13bとコンタクトパッド部13aとの接続部付近のゲート部13bのゲート長L3は設計値より大きくなっており、ゲート部13bの他の部分のゲート長L1よりも大きくなっていた。
図11は、本発明の実施の形態2における半導体装置の構成を概略的に示す平面図である。また図12は図11のXII−XII線に沿う概略断面図である。図11および図12を参照して、本実施の形態においては、ゲート電極層113は全長にわたって一定の線幅を有している。このゲート電極層113を覆うように層間絶縁層31が形成されており、この層間絶縁層31にはゲート電極層113に達する孔31cが形成されている。
Claims (8)
- nMISトランジスタとpMISトランジスタとを有する半導体装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の活性領域間を電気的に分離するように前記半導体基板の主表面に形成された素子分離構造と、
前記活性領域に形成された前記nMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域と、
前記ソース領域および前記ドレイン領域に挟まれる半導体基板の領域上に絶縁層を介して形成された前記nMISトランジスタのゲート電極層とを備え、
前記ゲート電極層は、前記活性領域上および前記素子分離構造上の双方に延在し、かつ前記素子分離構造上に広幅部を有し、かつ前記活性領域と前記広幅部との平面的な間隔が0.5μm未満であることを特徴とする、半導体装置。 - 前記広幅部は、コンタクトパッド部を含み、
前記コンタクトパッド部は前記ゲート電極層のゲート部に対して片側にのみ張り出した平面形状を有することを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記広幅部は、コンタクトパッド部を含み、
前記コンタクトパッド部は前記ゲート電極層のゲート部に対して両側に張り出した平面形状を有することを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置。 - nMISトランジスタとpMISトランジスタとを有する半導体装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の第1の活性領域と第2の活性領域との間を電気的に分離するように前記半導体基板の主表面に形成された素子分離構造と、
前記第1の活性領域に形成された前記nMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域と、
前記nMISトランジスタの前記ソース領域および前記ドレイン領域に挟まれる半導体基板の領域上に第1の絶縁層を介して形成された前記nMISトランジスタのゲート電極層と、
前記第2の活性領域に形成された前記pMISトランジスタのソース領域およびドレイン領域と、
前記pMISトランジスタの前記ソース領域および前記ドレイン領域に挟まれる半導体基板の領域上に第2の絶縁層を介して形成された前記pMISトランジスタのゲート電極層とを備え、
前記nMISトランジスタの前記ゲート電極層は、前記第1の活性領域上および前記素子分離構造上の双方に延在し、かつ前記素子分離構造上に第1の広幅部を有し、
前記pMISトランジスタの前記ゲート電極層は、前記第2の活性領域上および前記素子分離構造上の双方に延在し、かつ前記素子分離構造上に第2の広幅部を有し、
前記第1の活性領域と前記第1の広幅部との平面的な間隔が前記第2の活性領域と前記第2の広幅部との平面的な間隔よりも小さいことを特徴とする、半導体装置。 - 前記nMISトランジスタの前記ゲート電極層は、前記第1の活性領域上に、幅が変化する第1の幅変化部を有し、
前記pMISトランジスタの前記ゲート電極層は、前記第2の活性領域上に、幅が変化する第2の幅変化部を有し、
前記第1の活性領域上に位置する前記第1の幅変化部の長さが、前記第2の活性領域上に位置する前記第2の幅変化部の長さよりも長い、請求項4に記載の半導体装置。 - 半導体基板と、
前記半導体基板の活性領域間を電気的に分離するように前記半導体基板の主表面に形成された素子分離構造と、
前記活性領域に形成された前記MISトランジスタのソース領域およびドレイン領域と、
前記ソース領域および前記ドレイン領域に挟まれる半導体基板の領域上に絶縁層を介し
て形成された前記MISトランジスタのゲート電極層と、
前記ゲート電極層上に位置し、かつ前記ゲート電極層の少なくとも上面に接続された導電層とを備え、
前記ゲート電極層は、全長にわたって一定の幅を有していることを特徴とする、半導体装置。 - 前記ゲート電極層の側面を覆う側壁絶縁層をさらに備えたことを特徴とする、請求項6に記載の半導体装置。
- 前記導電層は前記ゲート電極層上および前記側壁絶縁層上に位置しており、前記ゲート電極層の上面および側面に接続されていることを特徴とする、請求項7に記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005179192A JP2006054430A (ja) | 2004-07-12 | 2005-06-20 | 半導体装置 |
US11/178,606 US20060006474A1 (en) | 2004-07-12 | 2005-07-12 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004204884 | 2004-07-12 | ||
JP2005179192A JP2006054430A (ja) | 2004-07-12 | 2005-06-20 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006054430A true JP2006054430A (ja) | 2006-02-23 |
Family
ID=36031669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005179192A Pending JP2006054430A (ja) | 2004-07-12 | 2005-06-20 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060006474A1 (ja) |
JP (1) | JP2006054430A (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080620 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100526 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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