JP2006041338A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4440031B2 (ja) * 2004-07-29 2010-03-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2006261212A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Nikon Corp 露光装置
JP2006261605A (ja) * 2005-03-18 2006-09-28 Canon Inc 露光装置及び露光方法
DE102008014832A1 (de) * 2007-04-19 2008-10-23 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
NL1036957A1 (nl) * 2008-06-13 2009-12-15 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
JPWO2010044268A1 (ja) * 2008-10-15 2012-03-15 株式会社ニコン 露光装置及びその組立て方法、並びにデバイス製造方法
CN103809384B (zh) * 2012-11-12 2016-03-09 上海微电子装备有限公司 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机
JP6278427B1 (ja) * 2017-01-05 2018-02-14 レーザーテック株式会社 光学装置、及び除振方法
DE102019102215B3 (de) 2019-01-29 2020-06-25 Nanoscribe Gmbh System zum Aufbau einer Laserlithografievorrichtung und Modulträger hierfür
US11156926B2 (en) 2019-08-12 2021-10-26 Kla Corporation Vacuum actuator containment for molecular contaminant and particle mitigation

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3337906B2 (ja) * 1996-04-02 2002-10-28 キヤノン株式会社 空圧式振動絶縁除去装置、投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法
JP3231241B2 (ja) * 1996-05-01 2001-11-19 キヤノン株式会社 X線縮小露光装置、及び該装置を用いた半導体製造方法
JP3554186B2 (ja) * 1998-04-08 2004-08-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法
US6333775B1 (en) * 1999-01-13 2001-12-25 Euv Llc Extreme-UV lithography vacuum chamber zone seal
US6538720B2 (en) * 2001-02-28 2003-03-25 Silicon Valley Group, Inc. Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same
JP3977214B2 (ja) * 2002-09-17 2007-09-19 キヤノン株式会社 露光装置
JP3984898B2 (ja) * 2002-09-18 2007-10-03 キヤノン株式会社 露光装置
JP4458322B2 (ja) * 2003-01-14 2010-04-28 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US7184123B2 (en) * 2004-03-24 2007-02-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic optical system
US7126664B2 (en) * 2004-07-12 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and a device manufacturing method
JP4440031B2 (ja) * 2004-07-29 2010-03-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法

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