JP2006036648A - フルオレン化合物およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 フルオレノン類と、多価フェノール類とを反応させる工程を経ることにより、下記式(1)で表される化合物を得る。
【化1】
(式中、R1a、R1b、R2aおよびR2bは置換基を示し、R3aおよびR3bはアルキレン基を示す。k1及びk2は同一又は異なって0又は1〜4の整数を示し、m1及びm2は同一又は異なって0又は1〜3の整数を示し、n1およびn2は同一又は異なって0又は1以上の整数を示し、p1およびp2は同一又は異なって1以上の整数を示す。ただし、m1+p1及びm2+p2は、1〜4の整数であり、ヒドロキシル基は塩を形成していてもよい)
【選択図】 なし
Description
前記式(1)において、R3aおよびR3bはC2-4アルキレン基(エチレン基、プロピレン基など)であってもよく、n1およびn2は0〜10(特に、0又は1)であってもよい。また、前記式(1)において、p1およびp2は、それぞれ1又は2(特に1)であってもよい。
前記フルオレン化合物の製造方法は、特に限定されないが、例えば、酸触媒の存在下で、下記式(3)で表されるフルオレノン類と、下記式(4)で表される多価フェノール類とを反応させる工程を少なくとも含む方法により製造してもよい。
代表的な前記フルオレン化合物の製造方法には、酸触媒(例えば、塩酸および硫酸から選択された少なくとも1種)およびメルカプトカルボン酸(チオ酢酸、β−メルカプトプロピオン酸など)の存在下で、前記式(3)で表されるフルオレノン類と、下記式(4a)で表されるレゾルシノール類とを反応させる方法などが含まれる。
また、前記式(1)においてn1およびn2が1以上のフルオレン化合物は、例えば、酸触媒の存在下で、前記式(3)で表されるフルオレノン類と、前記式(4)で表される多価フェノール類とを反応させる工程を少なくとも経て、下記式(1a)で表されるフルオレン化合物(すなわち、前記式(1)において、n1=n2=0の化合物)を生成したのち、さらに、アルキレンオキシド又はアルキレンカーボネートを反応させることにより製造してもよい。
基R1aおよびR1bで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1-6アルキル基(例えば、C1-4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。基R1aおよびR1bは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、基R1a(又はR1b)は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。なお、フルオレン骨格を構成するベンゼン環に対する基R1a(又はR1b)の結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数k1およびk2は、0又は1、特に、0である。なお、置換数k1及びk2は、異なっていてもよく、通常、同一である。
上記式(1a)において、好ましい置換基(R1a、R1b、R2a、R2b)、アルキレン基(R3a、R3b)、および置換数(k1、k2、m1、m2、n1、n2、p1、p2)は前記と同様である。例えば、R1aおよびR1bはC1-4アルキル基などであってもよく、R2aおよびR2bは、C1-6アルキル基(例えば、C1-4アルキル基)、C1-4アルコキシ基又はC6-8アリール基などであってもよく、R3aおよびR3bはC2-4アルキレン基などであってもよい。また、k1およびk2は0であってもよく、m1およびm2は0〜2程度(特に0)であってもよく、n1およびn2は0又は1〜4程度(特に0又は1)であってもよい。
前記式(1)で表されるフルオレン化合物の製造方法は、特に限定されないが、通常、酸触媒の存在下で、下記式(3)で表されるフルオレノン類と、下記式(4)で表される多価フェノール類とを反応させる工程を少なくとも含む。このような酸触媒(および後述する酸触媒)を用いた方法では、簡便にかつ効率よくフルオレン化合物を製造できる。
なお、上記式(4)において、R2は、前記R2a又はR2bに対応しており、mは前記m1又はm2に対応しており、pは前記p1又はp2に対応しており、好ましい態様などは前記例示のとおりである。
そして、(ii)前記式(1)において、n1及び/又はn2が1以上のフルオレン化合物は、前記工程を少なくとも経て、下記式(1a)で表されるフルオレン化合物を生成したのち、さらに、前記R3aおよびR3bに対応する化合物(通常、アルキレンオキシド又はアルキレンカーボネート)を反応させることにより製造できる。
前記式(3)で表されるフルオレノン類(以下、単にフルオレノン類という場合がある)は、前記式(1)で表される化合物のフルオレン骨格に対応しており、代表的なフルオレノン類は、9−フルオレノン(すなわち、前記式(1)において、k1=k2=0である化合物に対応するフルオレノン)である。なお、使用するフルオレノン類の純度は、特に限定されないが、通常、95重量%以上(例えば、95〜100重量%程度)、好ましくは99重量%以上(例えば、99〜99.8重量%程度)である。
多価フェノール類の使用量は、フルオレノン類1モルに対して、例えば、2〜20モル、好ましくは2.5〜10モル、さらに好ましくは3〜5モル程度であってもよい。
で表されるフルオレン化合物以外に、未反応のフルオレノン類、未反応の多価フェノール類、触媒(酸触媒、チオール類)、副反応生成物、溶媒などが含まれている。そのため、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。例えば、晶析溶媒を添加して、冷却して結晶化させ、次いで、濾過して分離することにより精製してもよい。
前記R3aおよびR3bに対応する化合物としては、アルキレンオキシド、アルキレンカーボネート、ハロアルカノール(例えば、3−クロロプロパノールなどのクロロアルカノール)などが例示でき、本発明では、通常、アルキレンオキシド、アルキレンカーボネート(特に、アルキレンオキシド)を使用する場合が多い。
本発明のフルオレン化合物(前記式(1)で表される化合物)は、フルオレン骨格を有し、しかも、このフルオレン骨格に置換した2つのフェニル基がエーテル結合を介して縮合環(キサンテン環)を形成しており、種々の特性(光学特性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐薬品性、電気特性、機械特性、寸法安定性、添加剤の分散性など)を向上又は改善できる。そのため、本発明のフルオレン化合物は、樹脂成分、添加剤(例えば、硬化剤などの樹脂添加剤、改質剤)、分子鋳型材料、吸着剤などとして好適に利用できる。特に、前記フルオレン化合物は、複数のヒドロキシル基含有基を有しているため、樹脂成分を構成すると(例えば、ポリオール成分などとして構成すると)、樹脂の特性を効率よく向上できる。
樹脂成分は、前記式(1)で表されるフルオレン化合物で構成されていればよい。例えば、前記樹脂成分は、前記式(1)で表されるフルオレン化合物の単位を有していればよく、例えば、(i)前記フルオレン化合物を樹脂の単量体成分(又は重合成分)として含む樹脂[又は前記フルオレン化合物をポリオール成分(特にジオール成分)とする樹脂、特に、フルオレン化合物を樹脂の単量体成分として重合した樹脂]で構成された樹脂成分(すなわち、樹脂骨格中にフルオレン骨格が導入された樹脂)、(ii)前記フルオレン化合物と樹脂とで構成された樹脂成分(又は樹脂組成物)などが挙げられる。
前記フルオレン化合物を重合成分として含むポリエステル系樹脂(特に、前記フルオレン化合物(通常、p1=p2=1の化合物)を樹脂の単量体成分として重合したポリエステル系樹脂)は、少なくとも前記フルオレン化合物と、ジカルボン酸成分との反応により得ることができ、ポリエステル系樹脂には、飽和又は不飽和ポリエステル系樹脂の他、芳香族ジカルボン酸を重合成分として用いたポリアリレート系樹脂も含まれる。
前記フルオレン化合物を重合成分(単量体成分)として含むポリウレタン系樹脂を構成するポリオール成分(ジオール成分)は、前記フルオレン化合物単独で構成してもよく、前記フルオレン化合物と共に、前記ポリエステル系樹脂の項で例示のジオール類と併用してもよい。さらに、前記フルオレン化合物を構成単位として含むジオール成分、例えば、前記式(1)においてp1=p2=1であるフルオレン化合物で構成されたジオール成分とジカルボン酸成分との反応により生成するポリエステルジオール、前記ジオール成分とアルキレンオキサイドとの反応により生成するポリエーテルジオールなども、ポリウレタン系樹脂のジオール成分として利用できる。ジオール成分も単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。なお、必要であれば、ジオール成分は、トリオールなどのポリオール成分と併用してもよい。
前記フルオレン化合物を重合成分として含むポリカーボネート系樹脂としては、慣用の方法に従って、例えば、少なくとも前記フルオレン化合物(通常、前記式(1)において、p1=p2=1である化合物)で構成されたポリオール成分(特に、ジオール成分)とホスゲンとの反応(ホスゲン法)、又は前記フルオレン化合物で構成されたポリオール成分(ジオール成分)と炭酸エステルとの反応(エステル交換法)により得られるポリカーボネート系樹脂が挙げられる。
エポキシ系樹脂を構成するジオール成分又はポリオール成分は、前記フルオレン化合物単独で構成してもよく、前記フルオレン化合物(通常、前記式(1)において、p1=p2=1である化合物)と、前記ポリエステル系樹脂の項で例示の他のジオール類(特に芳香族ジオールや脂環族ジオールなど)と組み合わせて構成してもよい。他のジオール類は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。ジオール類のうち、特に、ビスフェノールA、AD、Fなどのビスフェノール類などの芳香族ジオールが好ましい。前記フルオレン化合物とジオール類との割合は、前記ポリエステル系樹脂の場合と同様の範囲から選択できる。さらに、前記ビスフェノールフルオレン類と必要により他のジオール類は、ポリオール類(例えば、フェノールノボラックなど)と併用してもよい。
ビニルエステル系樹脂は、慣用の方法、例えば、前記エポキシ樹脂(前記フルオレン化合物を構成成分とするエポキシ樹脂)と、少なくともカルボキシル基を有する重合性単量体(不飽和モノカルボン酸)との反応により得ることができる。カルボキシル基を有する重合性単量体は、必要により前記ポリエステル系樹脂の項で例示のジカルボン酸(脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸や、芳香族ジカルボン酸(イソフタル酸、テレフタル酸など))と組み合わせて用いてもよい。
アクリル系樹脂の単量体は、前記フルオレン化合物とカルボキシル基を有する重合性単量体との反応により得てもよい。カルボキシル基を有する重合性単量体としては、通常、不飽和モノカルボン酸、特に(メタ)アクリル酸が使用でき、桂皮酸、クロトン酸、ソルビン酸、マレイン酸モノアルキルエステル(モノメチルマレートなど)などを用いてもよい。さらに、不飽和カルボン酸に代えて、酸クロライド、C1-2アルキルエステルなどの反応性誘導体を使用してもよい。これらの単量体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。
攪拌機、冷却管及びビュレットを備えた内容積1000mlの容器に純度99.5重量%のフルオレノン(大阪ガスケミカル(株)製)90g(0.5mol)とレゾルシン(三井化学(株)製)220g(2.0mol)を仕込み、β−メルカプトプロピオン酸0.4mlと95%の硫酸80mlを加えて、反応液を85℃で1時間撹拌して反応を完結させた。
赤外線吸収スペクトル(cm-1):745(フルオレン骨格);3500付近,1327,1199(フェノール);3065,1606,1514,1449(芳香環);1115,1036,864,807(ベンゼン環3置換体)
1H−NMR (CDCl3) δ:6.3ppm(2H,dd)、6.6ppm(4H,d)、7.3ppm(6H,m)、7.8ppm(2H,dd)
実施例1と同じ容器に、純度99.5重量%のフルオレノン90g(0.5mol)とレゾルシン(三井化学製)220g(2.0mol)を仕込み、チオ酢酸0.4mlと36%の塩酸80mlを加えて、反応液を85℃で1時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、反応液にイソプロピルアルコール360gを加えて60℃まで加温し、1時間撹拌を継続した。次に純水900gを加えて反応生成物(スピロ[フルオレン−9,9’−(3’,6’−ジヒドロキシキサンテン)])を析出させ、室温まで冷却した後、濾過を行って分離した。得られた固形物を濾過し、乾燥させた。得られた化合物の収量は112.8gであった。
実施例1と同じ容器に純度99.5重量%のフルオレノン90g(0.5mol)とレゾルシン(三井化学製)132g(1.2mol)、トルエン270gをそれぞれ仕込み、β−メルカプトプロピオン酸0.4mlと95%の硫酸80mlを加え、反応液を85℃で1時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、反応液にイソプロピルアルコール180gを加えて60℃まで加温し、1時間撹拌を継続した。次に純水900gを加えて反応生成物(スピロ[フルオレン−9,9’−(3’,6’−ジヒドロキシキサンテン)]を析出させ、室温まで冷却した後、濾過を行って分離した。得られた固形物を濾過し、乾燥させた。得られた化合物の収量は115.5gであった。
Claims (8)
- 式(1)において、R3aおよびR3bがC2-4アルキレン基であり、n1およびn2が0又は1である請求項1記載の化合物。
- 式(1)において、p1およびp2が、それぞれ1である請求項1記載の化合物。
- 式(1)において、R1aおよびR1bがC1-4アルキル基、k1およびk2が0又は1であり、R2aおよびR2bが、同一又は異なって、C1-6アルキル基、C1-4アルコキシ基又はC6-8アリール基、m1およびm2が0〜2である請求項1記載の化合物。
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---|---|
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103193755A (zh) * | 2013-03-28 | 2013-07-10 | 哈尔滨工程大学 | 螺芴氧杂蒽酚化合物及其制备方法 |
JP2014237605A (ja) * | 2013-06-07 | 2014-12-18 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン骨格を有するキサンテン化合物の製造方法 |
TWI491983B (zh) * | 2012-04-20 | 2015-07-11 | Ism Co Ltd | 包括二苯并哌喃結構之黏合劑樹脂及包含該樹脂之有機絕緣層組合物 |
CN104781306A (zh) * | 2012-11-07 | 2015-07-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚缩甲醛树脂共聚物及制造方法 |
US9316913B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-04-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Underlayer film-forming material for lithography, underlayer film for lithography, and pattern formation method |
EP3051350A2 (en) | 2011-08-12 | 2016-08-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound |
US9809601B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
US9828355B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
KR20170131667A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트패턴 형성방법, 및 이것에 이용하는 폴리페놀 화합물 |
US20170349564A1 (en) | 2014-12-25 | 2017-12-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
JP2019043897A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン骨格を有するビスフェノール類及び該ビスフェノール類から誘導されるポリアリレート樹脂 |
US10377734B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-08-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenol derivative for use in the composition |
JP2020114907A (ja) * | 2019-01-18 | 2020-07-30 | 東ソー株式会社 | ポリカーボネート樹脂および光学フィルム |
US11067889B2 (en) | 2015-09-03 | 2021-07-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, composition, and method for producing same, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, and purification method |
US11137686B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, and resist pattern forming method |
US11143962B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, pattern forming method, resin, and purification method |
US11243467B2 (en) | 2015-09-10 | 2022-02-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, method for forming circuit pattern, and purification method |
US11256170B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-02-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resist composition, and method for forming resist pattern using it |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5550244A (en) * | 1978-10-05 | 1980-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Color photographic material |
JPS5598222A (en) * | 1979-01-17 | 1980-07-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel epoxy resin and production thereof |
JPH04325508A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-13 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | プラスチックレンズ材料、プラスチックレンズおよび眼鏡用レンズ |
US5447960A (en) * | 1993-10-04 | 1995-09-05 | Dowelanco | Fungicidal use of phenolic aromatic compounds |
JPH08295646A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Teijin Ltd | ビス(ヒドロキシエトキシフェニル)化合物の製造方法 |
JPH09255609A (ja) * | 1996-03-21 | 1997-09-30 | Taoka Chem Co Ltd | 9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ ェニル)フルオレンの製造方法 |
JPH1036485A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
WO1999029761A2 (en) * | 1997-12-12 | 1999-06-17 | Alliedsignal Inc. | Poly(arylene ether) compositions and methods of manufacture thereof |
JP2001206862A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン化合物およびその製造方法 |
JP2002047227A (ja) * | 2002-01-29 | 2002-02-12 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導体の製造方法 |
JP2002121189A (ja) * | 2000-02-17 | 2002-04-23 | Sumika Fine Chemicals Co Ltd | シタロプラムの製造方法、およびその中間体とその製造方法 |
JP2003201333A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-07-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂組成物、その硬化物、新規エポキシ樹脂、新規フェノール化合物およびその製造方法 |
JP2003221352A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-08-05 | Osaka Gas Co Ltd | ビスフェノールフルオレン類の製造方法 |
JP2003313280A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | ポリアリレートの製造方法及びポリアリレート |
JP2004083855A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-03-18 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン含有樹脂 |
-
2004
- 2004-07-22 JP JP2004214692A patent/JP4966484B2/ja active Active
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5550244A (en) * | 1978-10-05 | 1980-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Color photographic material |
JPS5598222A (en) * | 1979-01-17 | 1980-07-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel epoxy resin and production thereof |
JPH04325508A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-13 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | プラスチックレンズ材料、プラスチックレンズおよび眼鏡用レンズ |
US5447960A (en) * | 1993-10-04 | 1995-09-05 | Dowelanco | Fungicidal use of phenolic aromatic compounds |
JPH08295646A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Teijin Ltd | ビス(ヒドロキシエトキシフェニル)化合物の製造方法 |
JPH09255609A (ja) * | 1996-03-21 | 1997-09-30 | Taoka Chem Co Ltd | 9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ ェニル)フルオレンの製造方法 |
JPH1036485A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
WO1999029761A2 (en) * | 1997-12-12 | 1999-06-17 | Alliedsignal Inc. | Poly(arylene ether) compositions and methods of manufacture thereof |
JP2001206862A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン化合物およびその製造方法 |
JP2002121189A (ja) * | 2000-02-17 | 2002-04-23 | Sumika Fine Chemicals Co Ltd | シタロプラムの製造方法、およびその中間体とその製造方法 |
JP2003201333A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-07-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂組成物、その硬化物、新規エポキシ樹脂、新規フェノール化合物およびその製造方法 |
JP2002047227A (ja) * | 2002-01-29 | 2002-02-12 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン誘導体の製造方法 |
JP2003221352A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-08-05 | Osaka Gas Co Ltd | ビスフェノールフルオレン類の製造方法 |
JP2003313280A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | ポリアリレートの製造方法及びポリアリレート |
JP2004083855A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-03-18 | Osaka Gas Co Ltd | フルオレン含有樹脂 |
Cited By (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3062151A1 (en) | 2011-08-12 | 2016-08-31 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
KR20190032616A (ko) | 2011-08-12 | 2019-03-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 이에 이용되는 폴리페놀 화합물 및 이로부터 유도될 수 있는 알코올 화합물 |
US9908831B2 (en) | 2011-08-12 | 2018-03-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
US9598392B2 (en) | 2011-08-12 | 2017-03-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
KR20190032618A (ko) | 2011-08-12 | 2019-03-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 이에 이용되는 폴리페놀 화합물 및 이로부터 유도될 수 있는 알코올 화합물 |
US9316913B2 (en) | 2011-08-12 | 2016-04-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Underlayer film-forming material for lithography, underlayer film for lithography, and pattern formation method |
US9540339B2 (en) | 2011-08-12 | 2017-01-10 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenolic compound for use in the composition, and alcoholic compound that can be derived therefrom |
EP3051350A2 (en) | 2011-08-12 | 2016-08-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound |
TWI491983B (zh) * | 2012-04-20 | 2015-07-11 | Ism Co Ltd | 包括二苯并哌喃結構之黏合劑樹脂及包含該樹脂之有機絕緣層組合物 |
US20150284510A1 (en) * | 2012-11-07 | 2015-10-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyformal resin copolymer and production method |
US9321887B2 (en) * | 2012-11-07 | 2016-04-26 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyformal resin copolymer and method for producing the same |
KR20150082427A (ko) * | 2012-11-07 | 2015-07-15 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리포르말 수지 공중합체 및 제조 방법 |
CN104781306B (zh) * | 2012-11-07 | 2017-11-14 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚缩甲醛树脂共聚物及制造方法 |
KR102112984B1 (ko) | 2012-11-07 | 2020-05-20 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리포르말 수지 공중합체 및 제조 방법 |
CN104781306A (zh) * | 2012-11-07 | 2015-07-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚缩甲醛树脂共聚物及制造方法 |
US9809601B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
US9828355B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and pattern forming method |
US10377734B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-08-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, polyphenol derivative for use in the composition |
CN103193755A (zh) * | 2013-03-28 | 2013-07-10 | 哈尔滨工程大学 | 螺芴氧杂蒽酚化合物及其制备方法 |
JP2014237605A (ja) * | 2013-06-07 | 2014-12-18 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン骨格を有するキサンテン化合物の製造方法 |
US20170349564A1 (en) | 2014-12-25 | 2017-12-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
US10745372B2 (en) | 2014-12-25 | 2020-08-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, material for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, pattern forming method, and purification method |
KR20170131667A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 레지스트 조성물, 레지스트패턴 형성방법, 및 이것에 이용하는 폴리페놀 화합물 |
US11256170B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-02-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resist composition, and method for forming resist pattern using it |
US11480877B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-10-25 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist composition, method for forming resist pattern, and polyphenol compound used therein |
US11137686B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, and resist pattern forming method |
US11143962B2 (en) | 2015-08-31 | 2021-10-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for forming underlayer film for lithography, composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography and production method thereof, pattern forming method, resin, and purification method |
US11067889B2 (en) | 2015-09-03 | 2021-07-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, composition, and method for producing same, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, and purification method |
US11243467B2 (en) | 2015-09-10 | 2022-02-08 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, method for forming circuit pattern, and purification method |
US11572430B2 (en) | 2015-09-10 | 2023-02-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, resist composition or radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, composition for underlayer film formation for lithography, method for forming circuit pattern, and purification method |
JP2019043897A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | 田岡化学工業株式会社 | フルオレン骨格を有するビスフェノール類及び該ビスフェノール類から誘導されるポリアリレート樹脂 |
JP2020114907A (ja) * | 2019-01-18 | 2020-07-30 | 東ソー株式会社 | ポリカーボネート樹脂および光学フィルム |
JP7346825B2 (ja) | 2019-01-18 | 2023-09-20 | 東ソー株式会社 | ポリカーボネート樹脂および光学フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4966484B2 (ja) | 2012-07-04 |
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