JP2006013338A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006013338A JP2006013338A JP2004191532A JP2004191532A JP2006013338A JP 2006013338 A JP2006013338 A JP 2006013338A JP 2004191532 A JP2004191532 A JP 2004191532A JP 2004191532 A JP2004191532 A JP 2004191532A JP 2006013338 A JP2006013338 A JP 2006013338A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- insulating film
- semiconductor device
- fuse element
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 159
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 22
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 7
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 292
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 34
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 27
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 23
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 14
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 11
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 11
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 arsenic ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 8
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 7
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 6
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 5
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/525—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body with adaptable interconnections
- H01L23/5256—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body with adaptable interconnections comprising fuses, i.e. connections having their state changed from conductive to non-conductive
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明のヒューズ素子4は、回路を遮断する部分である第1の領域4aと、第1の領域4aの両端に接し、第1の領域4aよりもパターン幅の広い第2の領域4bおよび第3の領域4cとからなる。ヒューズ素子4のうち第2の領域4b、第1の領域4aおよび第3の領域4cのうちの一部は厚膜絶縁膜2の上に設けられているのに対し、第3の領域4cのうちの他部は薄膜絶縁膜3の上に設けられている。ヒューズ素子4で発生した熱は、厚膜絶縁膜2を介して半導体基板1へ放熱しにくいのに対し薄膜絶縁膜3を介して放熱しやすいため、ヒューズ素子4内の温度変化および温度勾配が大きくなるため、第1の領域4aが電気的に切断されやすくなる。
【選択図】図1
Description
以下に、従来の電気ヒューズ素子に電流を流した場合の温度分布等を解析した結果について、図8(a), (b)を参照しながら説明する。図8(a), (b)は、従来のヒューズ素子に電流を流したときの温度分布の計算結果を示す斜視図であり、(a)はヒューズ素子内部を温度範囲ごとにハッチングで区別して示す斜視図であり、(b)は(a)のC−C線に沿った温度分布および温度勾配をグラフにして示す図である。図8(a)は、電気ヒューズ素子103としてポリシリコン層を用い、電気ヒューズ素子103に電圧1.25V、電流0.5mAを印加し、電気ヒューズ素子103内部の最高温度が800℃(1073K)になったときの温度分布を示しており、図8(b)は、この温度分布および温度勾配を示している。なお、図8(b)において、実線で示すプロファイルは温度分布であり、点線で示すプロファイルは温度勾配である。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置を示し、(a)は平面図、(b)は図1(a)のA−A線に沿った断面図である。なお、図1(a)では、図1(b)における第1の層間絶縁膜5および第2の層間絶縁膜9の図示は省略してあり、また、金属配線13a, 13bは点線で示してある。
図4は、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置を示し、(a)は平面図、(b)は図1(a)のB−B線に沿った断面図である。なお、図4(a)では、図4(b)における第1の層間絶縁膜5および第2の層間絶縁膜9の図示は省略してあり、また、金属配線13a, 13bは点線で示してある。
1a 第1の溝部
1b 第2の溝部
2 厚膜絶縁膜
2a 素子分離絶縁膜
3 薄膜絶縁膜
3A ゲート絶縁膜
4 ヒューズ素子
4A ゲート電極
4a 第1の領域
4b 第2の領域
4c 第3の領域
5 第1の層間絶縁膜
6a,6b,6c コンタクトホール
7a, 7b, 7c コンタクトプラグ
8a, 8b 配線溝
9 第2の層間絶縁膜
10 不純物拡散層
10A n型エクステンション拡散層
11 第1のサイドウォール
11A 第2のサイドウォール
12 不純物拡散層
12A n型ソース・ドレイン拡散層
13a,13b,13c 金属配線
Claims (26)
- 半導体基板の上に設けられた第1の絶縁膜と、
前記半導体基板の上における前記第1の絶縁膜に隣接する領域に設けられ、前記第1の絶縁膜よりも膜厚の薄い第2の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜の上及び前記第2の絶縁膜の上に亘って設けられており、ヒューズ部となる第1の領域と、前記第1の領域の一方側に接して設けられた第2の領域と、前記第1の領域の他方側に接して設けられた第3の領域とを有するヒューズ素子と、
前記ヒューズ素子の上に設けられた層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜を貫通し、前記ヒューズ素子における前記第2の領域と接する少なくとも1つの第1のコンタクトプラグと、
前記層間絶縁膜を貫通し、前記ヒューズ素子における前記第3の領域と接する少なくとも1つの第2のコンタクトプラグと、
前記層間絶縁膜の上に設けられ、前記第1のコンタクトプラグと接続される第1の配線と、
前記層間絶縁膜の上に設けられ、前記第2のコンタクトプラグと接続される第2の配線と
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記第1の領域の幅は、前記第2の領域および前記第3の領域の幅よりも狭いことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1または2に記載の半導体装置であって、
前記第2の領域全体が前記第1の絶縁膜の上に設けられ、前記第3の領域の少なくとも一部は前記第2の絶縁膜の上に設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置であって、
前記第2のコンタクトプラグの平面積の合計は、前記第1のコンタクトプラグの平面積の合計よりも大きいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の上に設けられた素子分離絶縁膜と、
前記半導体基板において側方を前記素子分離絶縁膜によって囲まれる領域の上に設けられたゲート絶縁膜および前記ゲート絶縁膜の上に設けられたゲート電極を有するMISトランジスタとをさらに備え、
前記第1の絶縁膜と前記素子分離絶縁膜とは、実質的に同じ膜厚を有し、
前記第2の絶縁膜と前記ゲート絶縁膜とは、実質的に同じ膜厚を有し、
前記ヒューズ素子と前記ゲート電極とは、同じ導電体材料で構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板の上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜の上に設けられており、ヒューズ部となる第1の領域と、前記第1の領域の一方側に接して設けられた第2の領域と、前記第1の領域の他方側に接して設けられた第3の領域とを有するヒューズ素子と、
前記ヒューズ素子の上に設けられた層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜を貫通し、前記ヒューズ素子における前記第2の領域と接する少なくとも1つの第1のコンタクトプラグと、
前記層間絶縁膜を貫通し、前記ヒューズ素子における前記第3の領域と接する少なくとも1つの第2のコンタクトプラグと、
前記層間絶縁膜の上に設けられ、前記第1のコンタクトプラグと接続される第1の配線と、
前記層間絶縁膜の上に設けられ、前記第2のコンタクトプラグと接続される第2の配線とを備え、
前記第2のコンタクトプラグの平面積の合計が、前記第1のコンタクトプラグの平面積の合計よりも大きいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項6に記載の半導体装置であって、
前記第2のコンタクトプラグの数は、前記第1のコンタクトプラグの数よりも多いことを特徴とする半導体装置。 - 請求項6または7に記載の半導体装置であって、
前記第2のコンタクトプラグの1つあたりの平面積は、前記第1のコンタクトプラグの1つあたりの平面積よりも大きいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項6〜8のうちいずれか1項に記載の半導体装置であって、
前記第1のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第1の距離は、前記第2のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第2の距離よりも大きいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項9に記載の半導体装置であって、
前記第1のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第1の距離は、前記第1のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値であり、
前記第2のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第2の距離は、前記第2のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項6〜10のうちいずれか1項に記載の半導体装置であって、
前記第1の領域の幅は、前記第2の領域および前記第3の領域の幅よりも狭いことを特徴とする半導体装置。 - 請求項6〜11のうちいずれか1項に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の上に設けられた素子分離絶縁膜と、
前記半導体基板において側方を前記素子分離絶縁膜によって囲まれる領域の上に設けられたゲート絶縁膜および前記ゲート絶縁膜の上に設けられたゲート電極を有するMISトランジスタとをさらに備え、
前記ヒューズ素子と前記ゲート電極とは、同じ導電体材料で構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板の上に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜の上に設けられており、ヒューズ部となる第1の領域と、前記第1の領域の一方側に接して設けられた第2の領域と、前記第1の領域の他方側に接して設けられた第3の領域とを有するヒューズ素子と、
前記ヒューズ素子の上に設けられた層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜を貫通し、前記ヒューズ素子における前記第2の領域と接する少なくとも1つの第1のコンタクトプラグと、
前記層間絶縁膜を貫通し、前記ヒューズ素子における前記第3の領域と接する少なくとも1つの第2のコンタクトプラグと、
前記層間絶縁膜の上に設けられ、前記第1のコンタクトプラグと接続される第1の配線と、
前記層間絶縁膜の上に設けられ、前記第2のコンタクトプラグと接続される第2の配線とを備え、
前記第1のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第1の距離は、前記第2のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第2の距離よりも大きいことを特徴とする半導体装置。 - 請求項13に記載の半導体装置であって、
前記第1のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第1の距離は、前記第1のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値であり、
前記第2のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第2の距離は、前記第2のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜14のうちいずれか1項に記載の半導体装置であって、
前記ヒューズ素子は、ポリシリコン膜からなることを特徴とする半導体装置。 - ヒューズ部となる第1の領域と、前記第1の領域の一方側に接続される第2の領域と、前記第1の領域の他方側に接続される第3の領域とを有するヒューズ素子を備えた半導体装置の製造方法であって、
半導体基板の上に第1の絶縁膜を形成する工程(a)と、
前記半導体基板の上に、前記第1の絶縁膜よりも膜厚の薄い第2の絶縁膜を前記第1の絶縁膜に隣接させて形成する工程(b)と、
前記工程(a)および前記工程(b)の後に、前記第1の絶縁膜の上及び前記第2の絶縁膜の上に亘る前記ヒューズ素子を形成する工程(c)と、
前記工程(c)の後に、前記ヒューズ素子の上に層間絶縁膜を形成する工程(d)と、
前記工程(d)の後に、前記層間絶縁膜を貫通して、前記第2の領域に到達する少なくとも1つの第1のコンタクトプラグと前記第3の領域に到達する少なくとも1つの第2のコンタクトプラグとを形成する工程(e)と、
前記工程(e)の後に、前記層間絶縁膜の上に、前記第1のコンタクトプラグに到達する第1の配線と、前記第2のコンタクトプラグに到達する第2の配線とを形成する工程(f)とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項16に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(c)では、前記第1の領域の幅が、前記第2の領域および前記第3の領域の幅よりも狭い前記ヒューズ素子を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項16または17に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(c)では、前記第2の領域全体が前記第1の絶縁膜の上に配置し、前記第3の領域の少なくとも一部が前記第2の絶縁膜の上に配置するように前記ヒューズ素子を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - ヒューズ部となる第1の領域と、前記第1の領域の一方側に接続される第2の領域と、前記第1の領域の他方側に接続される第3の領域とを有するヒューズ素子を備えた半導体装置の製造方法であって、
半導体基板の上に絶縁膜を形成する工程(a)と、
前記工程(a)の後に、前記絶縁膜の上に前記ヒューズ素子を形成する工程(b)と、
前記工程(b)の後に、前記ヒューズ素子の上に層間絶縁膜を形成する工程(c)と、
前記工程(c)の後に、前記層間絶縁膜を貫通して、前記第2の領域に到達する少なくとも1つの第1のコンタクトプラグと前記第3の領域に到達する少なくとも1つの第2のコンタクトプラグとを形成する工程(d)と、
前記工程(d)の後に、前記層間絶縁膜の上に、前記第1のコンタクトプラグに到達する第1の配線と、前記第2のコンタクトプラグに到達する第2の配線とを形成する工程(e)とを備え、
前記工程(d)では、前記第2のコンタクトプラグの平面積の合計を、前記第1のコンタクトプラグの平面積の合計よりも大きくすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項19に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(d)では、前記第2のコンタクトプラグを、前記第1のコンタクトプラグよりも多く形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項19または20に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(d)では、前記第2のコンタクトプラグの1つあたりの平面積を、前記第1のコンタクトプラグの1つあたりの平面積よりも大きくすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項19〜21のうちいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(d)では、前記第1のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第1の距離を、前記第2のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第2の距離よりも大きくすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項22に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(d)では、前記第1のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第1のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値を前記第1の距離とし、前記第2のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第2のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値を前記第2の距離とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項19〜23のうちいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記工程(b)では、前記第1の領域の幅が、前記第2の領域および前記第3の領域の幅よりも狭い前記ヒューズ素子を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - ヒューズ部となる第1の領域と、前記第1の領域の一方側に接続される第2の領域と、前記第1の領域の他方側に接続される第3の領域とを有するヒューズ素子を備えた半導体装置の製造方法であって、
半導体基板の上に絶縁膜を形成する工程(a)と、
前記工程(a)の後に、前記絶縁膜の上に前記ヒューズ素子を形成する工程(b)と、
前記工程(b)の後に、前記ヒューズ素子の上に層間絶縁膜を形成する工程(c)と、
前記工程(c)の後に、前記層間絶縁膜を貫通して、前記第2の領域に到達する少なくとも1つの第1のコンタクトプラグと前記第3の領域に到達する少なくとも1つの第2のコンタクトプラグとを形成する工程(d)と、
前記工程(d)の後に、前記層間絶縁膜の上に、前記第1のコンタクトプラグに到達する第1の配線と、前記第2のコンタクトプラグに到達する第2の配線とを形成する工程(e)とを備え、
前記工程(d)では、前記第1のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第1の距離を、前記第2のコンタクトプラグから前記第1の領域までの距離である第2の距離よりも大きくすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項25に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記工程(d)では、前記第1のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第1のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値を前記第1の距離とし、前記第2のコンタクトプラグが複数設けられている場合には、前記第2のコンタクトプラグのそれぞれから前記第1の領域までの距離の平均値を前記第2の距離とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004191532A JP4284242B2 (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 半導体装置およびその製造方法 |
US11/091,469 US7378718B2 (en) | 2004-06-29 | 2005-03-29 | Fuse element with adjustable resistance |
CNB2005100802893A CN100444376C (zh) | 2004-06-29 | 2005-06-28 | 半导体器件及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004191532A JP4284242B2 (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006013338A true JP2006013338A (ja) | 2006-01-12 |
JP4284242B2 JP4284242B2 (ja) | 2009-06-24 |
Family
ID=35504743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004191532A Active JP4284242B2 (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7378718B2 (ja) |
JP (1) | JP4284242B2 (ja) |
CN (1) | CN100444376C (ja) |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007073576A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Fujitsu Ltd | ヒューズ素子及びその切断方法 |
JP2008066693A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-03-21 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路 |
JP2008108956A (ja) * | 2006-10-26 | 2008-05-08 | Nec Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100834237B1 (ko) * | 2006-12-26 | 2008-05-30 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 퓨즈를 가지는 반도체 장치 |
JP2008171953A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
KR100871697B1 (ko) | 2007-01-17 | 2008-12-08 | 삼성전자주식회사 | 열발산 구조를 포함하는 전기 퓨즈 |
KR100896912B1 (ko) | 2006-03-27 | 2009-05-12 | 삼성전자주식회사 | 전기적 퓨즈를 포함하는 반도체 소자 |
JP2011009745A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 非等長コンタクトを用いた電気的にプログラム可能なヒューズ及びその製造方法 |
WO2011010702A1 (ja) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | 株式会社村田製作所 | アンチヒューズ素子 |
KR101024715B1 (ko) * | 2008-03-17 | 2011-03-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 형성 방법 |
JP2011097061A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | 電気ヒューズ構造とその形成方法 |
KR101159996B1 (ko) * | 2009-10-30 | 2012-06-25 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 전기적 퓨즈 구조 및 그의 형성 방법 |
US8274134B2 (en) | 2008-10-17 | 2012-09-25 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device with electric fuse having interconnects and via |
JP2013171951A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
US9741658B2 (en) | 2009-10-30 | 2017-08-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse structure and method of formation |
DE102010045073B4 (de) * | 2009-10-30 | 2021-04-22 | Taiwan Semiconductor Mfg. Co., Ltd. | Elektrische Sicherungsstruktur |
WO2023068265A1 (ja) * | 2021-10-21 | 2023-04-27 | 株式会社デンソー | 半導体装置およびその製造方法 |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7759226B1 (en) * | 2005-08-30 | 2010-07-20 | Altera Corporation | Electrical fuse with sacrificial contact |
US7651893B2 (en) * | 2005-12-27 | 2010-01-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Metal electrical fuse structure |
US7460003B2 (en) * | 2006-03-09 | 2008-12-02 | International Business Machines Corporation | Electronic fuse with conformal fuse element formed over a freestanding dielectric spacer |
US7784009B2 (en) * | 2006-03-09 | 2010-08-24 | International Business Machines Corporation | Electrically programmable π-shaped fuse structures and design process therefore |
US7288804B2 (en) * | 2006-03-09 | 2007-10-30 | International Business Machines Corporation | Electrically programmable π-shaped fuse structures and methods of fabrication thereof |
US7645645B2 (en) * | 2006-03-09 | 2010-01-12 | International Business Machines Corporation | Electrically programmable fuse structures with terminal portions residing at different heights, and methods of fabrication thereof |
US20070252238A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Charles Lin | Tungstein plug as fuse for IC device |
DE102006043484B4 (de) * | 2006-09-15 | 2019-11-28 | Infineon Technologies Ag | Fuse-Struktur und Verfahren zum Herstellen derselben |
US7732892B2 (en) * | 2006-11-03 | 2010-06-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Fuse structures and integrated circuit devices |
US7479689B2 (en) * | 2007-01-26 | 2009-01-20 | International Business Machines Corporation | Electronically programmable fuse having anode and link surrounded by low dielectric constant material |
US7888771B1 (en) * | 2007-05-02 | 2011-02-15 | Xilinx, Inc. | E-fuse with scalable filament link |
US7709928B2 (en) * | 2007-10-09 | 2010-05-04 | International Business Machines Corporation | Electromigration fuse and method of fabricating same |
KR20090070826A (ko) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | 퓨즈를 구비한 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
US20090243032A1 (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-01 | Shi-Bai Chen | Electrical fuse structure |
US7642176B2 (en) * | 2008-04-21 | 2010-01-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse structure and method |
JP5518322B2 (ja) * | 2008-12-02 | 2014-06-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US8101471B2 (en) * | 2008-12-30 | 2012-01-24 | Intel Corporation | Method of forming programmable anti-fuse element |
KR101561650B1 (ko) * | 2009-03-06 | 2015-10-21 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치의 이-퓨즈 구조체 |
JP2010267803A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
KR101048794B1 (ko) * | 2009-07-03 | 2011-07-15 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 장치의 퓨즈부 |
US8629015B2 (en) | 2009-07-03 | 2014-01-14 | Smartrac Ip B.V. | Manufacturing of electronic components |
KR101083640B1 (ko) * | 2009-07-31 | 2011-11-16 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 장치의 퓨즈부 및 그 제조방법 |
WO2011024340A1 (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-03 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
US20110074538A1 (en) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Kuei-Sheng Wu | Electrical fuse structure and method for fabricating the same |
KR101113187B1 (ko) * | 2010-01-29 | 2012-02-15 | 주식회사 하이닉스반도체 | 열 확산을 방지할 수 있는 전기적 퓨즈를 구비하는 반도체 집적 회로 |
DE102010003555B4 (de) * | 2010-03-31 | 2019-12-24 | Globalfoundries Dresden Module One Llc & Co. Kg | Aluminiumsicherungen in einem Halbleiterbauelement, das Metallgateelektrodenstrukturen aufweist |
JP5581520B2 (ja) * | 2010-04-08 | 2014-09-03 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US8432751B2 (en) * | 2010-12-22 | 2013-04-30 | Intel Corporation | Memory cell using BTI effects in high-k metal gate MOS |
CN102832196A (zh) * | 2012-09-11 | 2012-12-19 | 上海华力微电子有限公司 | 一种提升电子可编程熔丝器件熔断性能的方法 |
KR101386703B1 (ko) * | 2012-09-28 | 2014-05-07 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 반도체 소자의 전기 퓨즈 및 그 제조방법 |
CN103794549B (zh) * | 2012-10-31 | 2016-08-10 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 半导体结构的形成方法 |
CN104051417B (zh) * | 2013-03-13 | 2016-08-31 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 电熔丝结构及其形成方法 |
CN104425447B (zh) * | 2013-09-04 | 2017-05-17 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件 |
US9099469B2 (en) | 2013-10-11 | 2015-08-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | E-fuse structure of semiconductor device |
CN104835800B (zh) * | 2014-02-08 | 2019-01-22 | 北大方正集团有限公司 | 一种集成电路的熔丝结构及其制造方法 |
US10153288B2 (en) * | 2016-05-31 | 2018-12-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | Double metal layout for memory cells of a non-volatile memory |
CN108630664B (zh) * | 2017-03-17 | 2020-06-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 熔丝结构及其形成方法 |
CN109037190B (zh) * | 2018-07-27 | 2020-07-10 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 一种电熔丝结构及其制造方法 |
JP2021174782A (ja) * | 2020-04-17 | 2021-11-01 | 富士電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6222244B1 (en) * | 1998-06-08 | 2001-04-24 | International Business Machines Corporation | Electrically blowable fuse with reduced cross-sectional area |
JP2000040790A (ja) | 1998-07-22 | 2000-02-08 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US6525397B1 (en) * | 1999-08-17 | 2003-02-25 | National Semiconductor Corporation | Extended drain MOSFET for programming an integrated fuse element to high resistance in low voltage process technology |
US7067897B2 (en) * | 2002-02-19 | 2006-06-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
US6624499B2 (en) * | 2002-02-28 | 2003-09-23 | Infineon Technologies Ag | System for programming fuse structure by electromigration of silicide enhanced by creating temperature gradient |
US6661330B1 (en) * | 2002-07-23 | 2003-12-09 | Texas Instruments Incorporated | Electrical fuse for semiconductor integrated circuits |
US6933591B1 (en) * | 2003-10-16 | 2005-08-23 | Altera Corporation | Electrically-programmable integrated circuit fuses and sensing circuits |
US7109564B2 (en) * | 2004-03-22 | 2006-09-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Low power fuse structure and method of making the same |
-
2004
- 2004-06-29 JP JP2004191532A patent/JP4284242B2/ja active Active
-
2005
- 2005-03-29 US US11/091,469 patent/US7378718B2/en active Active
- 2005-06-28 CN CNB2005100802893A patent/CN100444376C/zh active Active
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007073576A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Fujitsu Ltd | ヒューズ素子及びその切断方法 |
JP4480649B2 (ja) * | 2005-09-05 | 2010-06-16 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | ヒューズ素子及びその切断方法 |
KR100896912B1 (ko) | 2006-03-27 | 2009-05-12 | 삼성전자주식회사 | 전기적 퓨즈를 포함하는 반도체 소자 |
JP2008066693A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-03-21 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路 |
JP2008108956A (ja) * | 2006-10-26 | 2008-05-08 | Nec Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100834237B1 (ko) * | 2006-12-26 | 2008-05-30 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 퓨즈를 가지는 반도체 장치 |
JP2008171953A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
US7808076B2 (en) | 2007-01-10 | 2010-10-05 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device |
US8487402B2 (en) | 2007-01-10 | 2013-07-16 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
US8487403B2 (en) | 2007-01-10 | 2013-07-16 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
KR100871697B1 (ko) | 2007-01-17 | 2008-12-08 | 삼성전자주식회사 | 열발산 구조를 포함하는 전기 퓨즈 |
KR101024715B1 (ko) * | 2008-03-17 | 2011-03-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 형성 방법 |
US8274134B2 (en) | 2008-10-17 | 2012-09-25 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device with electric fuse having interconnects and via |
JP2011009745A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 非等長コンタクトを用いた電気的にプログラム可能なヒューズ及びその製造方法 |
US8664744B2 (en) | 2009-07-22 | 2014-03-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Anti-fuse element without defective opens |
WO2011010702A1 (ja) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | 株式会社村田製作所 | アンチヒューズ素子 |
JP5467537B2 (ja) * | 2009-07-22 | 2014-04-09 | 株式会社村田製作所 | アンチヒューズ素子 |
KR101159996B1 (ko) * | 2009-10-30 | 2012-06-25 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 전기적 퓨즈 구조 및 그의 형성 방법 |
JP2011097061A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | 電気ヒューズ構造とその形成方法 |
US9741658B2 (en) | 2009-10-30 | 2017-08-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse structure and method of formation |
US9865536B2 (en) | 2009-10-30 | 2018-01-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse structure and method of formation |
DE102010045073B4 (de) * | 2009-10-30 | 2021-04-22 | Taiwan Semiconductor Mfg. Co., Ltd. | Elektrische Sicherungsstruktur |
US11309244B2 (en) | 2009-10-30 | 2022-04-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Electrical fuse structure and method of formation |
US11410925B2 (en) | 2009-10-30 | 2022-08-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse structure and method of formation |
JP2013171951A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2023068265A1 (ja) * | 2021-10-21 | 2023-04-27 | 株式会社デンソー | 半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100444376C (zh) | 2008-12-17 |
JP4284242B2 (ja) | 2009-06-24 |
CN1716591A (zh) | 2006-01-04 |
US7378718B2 (en) | 2008-05-27 |
US20050285224A1 (en) | 2005-12-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4284242B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US10249496B2 (en) | Narrowed feature formation during a double patterning process | |
JP5037794B2 (ja) | 半導体装置の配線構造体及びその形成方法 | |
US8237457B2 (en) | Replacement-gate-compatible programmable electrical antifuse | |
US9865536B2 (en) | Electrical fuse structure and method of formation | |
US20060194436A1 (en) | Semiconductor device including resistor and method of fabricating the same | |
US10811353B2 (en) | Sub-ground rule e-Fuse structure | |
US20020014680A1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
US8564090B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device | |
US11348870B2 (en) | Electrical fuse formation during a multiple patterning process | |
TWI449156B (zh) | 半導體裝置及其形成方法 | |
US9548270B2 (en) | Electrical fuse with metal line migration | |
US11309244B2 (en) | Electrical fuse structure and method of formation | |
JP2008078358A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP4904701B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | |
CN104022099A (zh) | 集成电路装置 | |
US20080251886A1 (en) | Fuse structure, and semiconductor device | |
US7732848B2 (en) | Power semiconductor device with improved heat dissipation | |
CN110556380B (zh) | 熔丝单元、熔丝位单元结构及其制造方法 | |
TWI441225B (zh) | 電熔絲結構 | |
JP2008205096A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2004140180A (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
JP2005166799A (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080819 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090224 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090323 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4284242 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140327 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S131 | Request for trust registration of transfer of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313135 |
|
SZ02 | Written request for trust registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313Z02 |
|
S131 | Request for trust registration of transfer of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313135 |
|
SZ02 | Written request for trust registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313Z02 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S131 | Request for trust registration of transfer of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313135 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |