JP2006004917A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 画素電極、電界発光層、透明電極、パッシベーション膜、応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
   前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする発光素子。
2. 画素電極、電界発光層、透明電極、応力緩和層、パッシベーション膜及び低屈折率層が順次積層されてなり、
   前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする発光素子。
3. 画素電極、電界発光層、透明電極、第１の応力緩和層、パッシベーション膜、第２の応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
   前記低屈折率層の屈折率は、前記第２の応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする発光素子。
4. 請求項１乃至３のいずれか一において、
   前記パッシベーション膜は、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化窒化珪素を含むことを特徴とする発光素子。
5. 請求項１乃至４のいずれか一において、
   前記応力緩和層は、前記透明電極または前記パッシベーション膜よりも屈折率の小さい材料からなることを特徴とする発光素子。
6. 請求項１乃至４のいずれか一において、
   前記応力緩和層は、窒化酸化珪素又はα−ＮＰＤを含むことを特徴とする発光素子。
7. 請求項１乃至６のいずれか一において、
   前記低屈折率層は、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２又はＣａＦ_２を含むことを特徴とする発光素子。
8. 基板上に設けられたトランジスタと、
   層間絶縁膜を介して前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有し、
   前記発光素子は、画素電極、電界発光層、透明電極、パッシベーション膜、応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
   前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
9. 基板上に設けられたトランジスタと、
   層間絶縁膜を介して前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有し、
   前記発光素子は、画素電極、電界発光層、透明電極、応力緩和層、パッシベーション膜及び低屈折率層が順次積層されてなり、
   前記低屈折率層の屈折率は、前記応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
10. 基板上に設けられたトランジスタと、
    層間絶縁膜を介して前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有し、
    前記発光素子は、画素電極、電界発光層、透明電極、第１の応力緩和層、パッシベーション膜、第２の応力緩和層及び低屈折率層が順次積層されてなり、
    前記低屈折率層の屈折率は、前記第２の応力緩和層の屈折率よりも小さいことを特徴とする表示装置。
11. 請求項８乃至１０のいずれか一において、
    前記発光素子は、充填層を介して対向基板によって封止されていることを特徴とする表示装置。
12. 請求項１１において、
    前記充填層の屈折率は、空気の屈折率よりも大きく、前記低屈折率層の屈折率と前記対向基板の屈折率の間の値であることを特徴とする表示装置。
13. 請求項８乃至１２のいずれか一において、
    前記パッシベーション膜は、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化窒化珪素を含むことを特徴とする表示装置。
14. 請求項８乃至１３のいずれか一において、
    前記応力緩和層は、前記透明電極または前記パッシベーション膜よりも屈折率の小さい材料からなることを特徴とする表示装置。
15. 請求項８乃至１３のいずれか一において、
    前記応力緩和層は、窒化酸化珪素又はα−ＮＰＤを含むことを特徴とする表示装置。
16. 請求項８乃至１５のいずれか一において、
    前記低屈折率層は、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２又はＣａＦ_２を含むことを特徴とする表示装置。
17. 請求項８乃至１６のいずれか一において、
    前記層間絶縁膜は炭素を含み、かつ遮光性を有することを特徴とする表示装置。
18. 請求項８乃至１７のいずれか一において、
    前記発光素子に接して、炭素を含み、かつ遮光性を有する隔壁層が設けられていることを特徴とする表示装置。
19. 請求項８乃至１８のいずれか一に記載の表示装置を用いた電子機器。
20. 請求項１９において、前記電子機器は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話機、携帯情報端末、携帯型ゲーム機、モニタ、コンピュータ、音響再生装置、または画像再生装置であることを特徴とする電子機器。