JP2013211424A - 有機el素子及び、その製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも、第一透明基板と、前記第一透明基板上に形成された第一透明電極及び絶縁層の少なくとも前記第一透明電極と、前記第一透明電極上に形成された少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層上に形成された第二透明電極と、第二透明電極上に形成された保護層、接着層及び第二透明基板を含む封止層と、を備える有機EL素子であって、前記第一透明基板、前記第一透明電極、前記発光媒体層、前記第二透明電極、前記封止層のうち、互いに隣接する基板と電極どうし、又は、電極と層どうしの440nm以上780nm以下の波長分散領域の光に対する屈折率の差が0.7以下であることを特徴とする有機EL素子としたもの。
【選択図】図1
Description
このような有機EL素子では、発光効率を増大させるなどの目的から、陽極と有機発光層との間及び有機発光層と陰極との間の少なくとも一方に機能層を設けることが行われている。陽極と有機発光層との間には、前記機能層として正孔注入層及び正孔輸送層のうちの少なくとも一方が設けられ、有機発光層と陰極との間には、前記機能層として電子輸送層及び電子注入層のうちの少なくとも一方が設けられるようになっており、これらは適宜選択して設けられている。
また、低分子系材料は種類が豊富であるため、その組み合わせによって、発光効率や発光輝度、寿命などの向上が期待されている。
高分子系材料の塗液を用いてウェットコーティング法で有機発光層を含む有機発光媒体層を形成する場合、有機発光層はカラーパネル化するために赤(R)、緑(G)、青(B)のそれぞれの発光色をもつ有機発光材料を溶剤中に溶解または安定して分散してなる有機発光インキを用いて塗り分ける必要がある。
さらに、陽極及び陰極に透明電極を用い両側から光を取出す両面発光方式の透明有機ELも開発されている。これを応用した透明ディスプレイとして、車載用モニターや、広告、時計、照明、テレビ、など透明性を特徴としたディスプレイパネルとして注目されている。
さらに、請求項2では、前記有機EL素子の隣接する層間がN箇所ある場合に、N−2箇所以上で屈折率差が0.5以下であることを特徴としている。
また、請求項3では、前記有機EL素子の透過率は前記波長分散領域で70%以上であることを特徴としている。
また、請求項4では、前記有機EL素子において、前記第一透明基板と前記第二透明基板に挟持される層のうち、少なくとも一層の膜厚が1μm以上であることを特徴としている。
また、請求項5では、前記保護層は、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、酸化金属膜のいずれかから成る単層または多層で形成されることを特徴とする。
さらに、請求項6では、前記有機発光層を含む前記発光媒体層のうち少なくとも一層を、ウェットプロセス法によって形成することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の有機EL素子の製造方法とする。
以下、本発明の第一実施形態(以下、「本実施形態」と記載する)について、図面を参照しつつ、本実施形態に係る有機EL素子の構成と、有機EL素子の製造方法について説明する。
図1は、本実施形態における有機EL素子の概略構成を示す断面図である。図中、符号1は有機EL素子である。この有機EL素子1は、第一透明基板2、絶縁層3、第一透明電極4、正孔注入層5と有機発光層6と電子注入層7から成る発光媒体層8、第二透明電極9、保護層10と接着層11と第二透明基板12からなる封止層13の順に積層されている。本実施形態では、第一透明電極4を陽極、第二透明電極9を陰極として共に透明な材料を用いて形成した、パッシブマトリクス駆動型の有機EL素子とした場合について説明する。
第一透明基板2としては透明性、機械的強度、絶縁性を有し寸法安定性に優れていれば如何なる材料も使用することができる。例えば、ガラスや石英、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシート、または、これらプラスチックフィルムやシートに酸化珪素、酸化アルミニウム等の金属酸化物や、弗化アルミニウム、弗化マグネシウム等の金属弗化物、窒化珪素、窒化アルミニウムなどの金属窒化物、酸窒化珪素などの金属酸窒化物、アクリル樹脂やエポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂などの高分子樹脂膜を単層もしくは積層させた透明基材、などを用いることができる。
絶縁層3は、第一透明基板2と第一透明電極4との屈折率差が0.5以上となる場合に反射を抑制するために屈折率調整用として形成される。材料としては、酸化ケイ素(SiOx)、窒化ケイ素(SiNx)、炭窒化ケイ素(SiNxCy)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al2O3)などの無機化合物や、エポキシやアクリルの樹脂材の絶縁膜を単層もしくは積層したものをいずれも使用することができる。なお、絶縁層3には第一透明電極4に電流を供給する透明な配線層や、第一透明電極4との屈折率調整のために電極と同一の材料を用いた導電性の層が積層される場合もあるが、絶縁層3は第一透明電極4とこれらの導電層が直接積層されないように絶縁し、かつ屈折率を調整するためのものであるので、導電層を含む場合であっても絶縁層3とする。また、絶縁層3は必ずしも第一透明基板2の全面に形成されているわけではなく、光の透過率・屈折率や視認する箇所などを考慮して第一透明基板2の一部が絶縁層3に覆われていなくても良い。
第一透明基板2及び/または絶縁層3の上に第一透明電極4を成膜するが、必要に応じてパターニングをおこなう。第一透明電極4の材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)といった透明導電性高分子や、ITO(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの導電性金属酸化物を、単層もしくは積層したものをいずれも使用することができる。また、ITO等の仕事関数の高い材料を選択することが好ましい。
次に、発光媒体層8の詳細な構成について説明する。発光媒体層8は、第一透明電極4上に形成され、第一透明電極4と第二透明電極9との間に挟持されている。この発光媒体層8は、第一透明電極4上に形成された正孔注入層5と、正孔注入層5上に形成された有機発光層6と、有機発光層6上に形成された電子注入層7とを含んで構成されている。
次に、陰極として第二透明電極9を形成する。当該有機EL素子1は両面発光する透明EL構造であり、陰極にも透明性が求められる。そのため、第一透明電極2と同様に第二透明電極9の材料には、ITO(インジウムスズ複合酸化物)やIZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの導電性金属酸化物が用いられる。膜厚としては、透過率やピンホールの影響を考慮し、30nm以上500nm以下の範囲内程度とすることが好ましい。
有機EL素子1を、上述した透明ELで作製する場合、発光媒体層8から、第一透明基板2と反対側の封止層13を通して放射される表示光を取り出すためには、可視光波長領域に対して、光透過性が必要となる。また、有機EL素子1は、陽極と陰極の間に発光材料(発光媒体層8)を挟み、電流を流すことで発光させることが可能であるが、有機発光層6の材料である有機発光材料は、大気中の水分や酸素によって容易に劣化してしまう。このため、通常、有機EL素子1には、外部と遮断するための封止層を設ける。封止層13は以下の保護層10と接着層11と第二透明基板12からなり、封止層の構成中に空気層が挟まれないよう平板構造で形成する。
次に、有機EL素子1の製造方法について説明する。
有機EL素子1を製造する際には、まず、第一透明基板2上に絶縁層3、第一透明電極4の順に形成する、絶縁層3形成工程、第一透明電極4形成工程を行う。すなわち、有機EL素子1の製造方法には、絶縁層3形成工程、第一透明電極4形成工程を含む。絶縁層3及び第一透明電極4の形成方法としては、絶縁層3及び第一透明電極4の材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることができる。また、絶縁層3及び第一透明電極4を形成する方法としては、乾式成膜法以外にも、グラビア印刷法や、スクリーン印刷法等の湿式成膜法等を用いることもできる。
正孔注入層5形成工程では、正孔注入層5の材料に応じて、正孔注入層5の材料を溶媒に溶解または分散させ、スピンコーター等を用いた各種塗布方法やスリットコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、凸版印刷法によって形成する方法や、抵抗加熱蒸着法によって形成する方法を用いる。
すなわち、有機発光層6形成工程では、第一透明電極4上を覆うように形成された正孔注入層5上に、有機発光層6の材料である有機発光材料を溶媒に溶解または分散させた有機発光インキを塗工して、有機発光層6をパターン化して形成する。なお、上述した成膜法以外の方法を用いて、有機発光層6を形成してもよい。
そして、凸版25の凸部にあるインキが、ステージ(平台)27に設置された被印刷基板(基板2)に対して印刷され、必要に応じて乾燥工程を経て、基板2上に正孔注入層及び有機発光層14が順に形成されることとなる。
発光媒体層8形成工程により発光媒体層8を形成した後は、保護層10と接着層11と第二透明基板12から成る封止層13形成工程を行う。
以下、図1から図3を参照しつつ、上述した第1の実施形態の有機EL素子1と、比較例の有機EL素子を製造し、両者に対する物性の評価を行った結果について説明する。
次に、陰極として用いる第二透明電極9の形成として、対向ターゲットスパッタでメタルマスクによりITOを、膜厚が100nmとなるよう形成した。
実施例1に対して比較例1として、本発明に係る有機EL素子には該当しない有機EL素子を作製した。この比較例は、絶縁層3及び接着層11を積層せず、第二透明基板にキャップ型のガラス基板を用い、その他の構成は上述した本発明例と同様にした。このため比較例の素子では、保護膜11と第二透明基板の間に空気層が挟まれ、保護膜11と空気層の層間で屈折率差が0.7以上となった。結果は図3の31のように、440nmから780nmの波長分散領域で、透過率の最大が89%、最小が71%と大きな差が生じ、均一な透過率が得られなかった。
Claims (6)
- 少なくとも、
第一透明基板と、
前記第一透明基板上に形成された絶縁層と、
前記絶縁層上に形成された第一透明電極と、
前記第一透明電極上に形成された少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、
前記発光媒体層上に形成された第二透明電極と、
第二透明電極上に形成された保護層、接着層及び第二透明基板を含む封止層と、
を備える有機EL素子であって、
前記第一透明基板、前記第一透明電極、前記発光媒体層、前記第二透明電極、前記封止層のうち、互いに隣接する基板と電極どうし、又は、電極と層どうしの440nm以上780nm以下の波長分散領域の光に対する屈折率の差が0.7以下であることを特徴とする有機EL素子。 - 前記有機EL素子の隣接する層間がN箇所ある場合に、屈折率差が0.5以下となる基板と電極、又は、電極と層の組み合わせがN−2箇所以上あることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。
- 前記有機EL素子の透過率は前記波長分散領域で70%以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項2に記載の有機EL素子。
- 前記有機EL素子において、前記第一透明基板と前記第二透明基板に挟持される層のうち、少なくとも一層の膜厚が1μm以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項3に記載の有機EL素子。
- 前記保護層は、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、酸化金属膜のいずれかから成る単層または多層で形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項4に記載の有機EL素子。
- 前記有機発光層を含む前記発光媒体層のうち少なくとも一層を、ウェットプロセス法によって形成することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の有機EL素子の製造方法。
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