JP2005532472A - ダイヤモンド電極およびその製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (36)
- 合成的に得られた、導電性(ドープされた)ダイヤモンドを有するダイヤモンド電極において、このダイヤモンド電極が金属層または金属合金層の表面中に埋設されたダイヤモンド粒子(5)を有し、この場合このダイヤモンド粒子は、金属または金属合金との導電性結合を得ることを特徴とする、ダイヤモンド電極。
- ダイヤモンド粒子(5)間の電極の表面上に残存する個所に非導電性酸化物層(4)が設けられており、そのように不動態化されている、請求項1記載のダイヤモンド電極。
- 非導電性酸化物層(4)が例えば珪酸塩層の封止層で被覆されている、請求項2記載のダイヤモンド電極。
- 埋設層(3)が担持材料からなる層(2)上に施こされている、請求項1から3までのいずれか1項に記載のダイヤモンド電極。
- 担持材料からなる層(2)が酸化物によって不動態化された金属または金属合金、殊にチタン、アルミニウムまたはこれらの金属の合金から形成されている、請求項4記載のダイヤモンド電極。
- 担持材料からなる層(2)が裏面上で絶縁されている、請求項4記載のダイヤモンド電極。
- 担持材料からなる層(2)の両面に、埋設されたダイヤモンド粒子を有するダイヤモンド層が備えられている、請求項4記載のダイヤモンド電極。
- 埋設層(3)の少なくとも一部分が非導電性酸化物の形成能力を有する元素から形成されている、請求項1から7までのいずれか1項に記載のダイヤモンド電極。
- 埋設層(3)が少なくともマグネシウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、バナジウムおよび亜鉛の群からの少なくとも1つの金属を含有する、請求項8記載のダイヤモンド電極。
- 埋設層(3)の表面中に埋設されたダイヤモンド粒子(5)が殊に硼素、燐または窒素でドープされている、請求項1から9までのいずれか1項に記載のダイヤモンド電極。
- ダイヤモンド粒子(5)の粒径が1〜700μm、殊に200μmまでである、請求項1から10までのいずれか1項に記載のダイヤモンド電極。
- 埋設されたダイヤモンド粒子(5)の粒径が実質的に一致している、請求項1から11までのいずれか1項に記載のダイヤモンド電極。
- ダイヤモンド電極の製造法において、ドープされた、合成により得られた導電性ダイヤモンドからの粉末を少なくとも金属または金属合金の表面中に、金属または金属合金とダイヤモンド粒子(5)との間で導電性結合が生じるように埋設することを特徴とする、ダイヤモンド電極の製造法。
- ドープされたダイヤモンド粒子を直接に、非導電性の酸化物層の形成能力を有する少なくとも1つの元素を含有する担持材料中に、機械的力および/または温度によって導入する、請求項13記載の方法。
- ドープされたダイヤモンド粒子を担持材料の表面中に圧入するかまたは圧延導入する、請求項14記載の方法。
- ドープされたダイヤモンド粒子を流体中で加速させ、ひいては衝突時に表面中に導入する、請求項14記載の方法。
- ドープされたダイヤモンド粒子を、非導電性の酸化物層の形成能力を有する金属または金属合金の粉末と混合し、圧縮し、したがって場合によってはダイヤモンド粒子を1つ以上の層中に埋設して含有する担体板を備えた圧縮部材を生じさせる、請求項13記載の方法。
- ドープされたダイヤモンド粒子を担持材料上に焼結させる、請求項13記載の方法。
- 金属または金属合金を気相から析出させる、請求項13記載の方法。
- 埋設層(3)のための出発物質として、殊に高い融点を有する金属担体層(2)上で溶融される低融点の物質、例えばマグネシウムまたはマグネシウム合金を使用し、この場合ダイヤモンド粉末は、既に合金の粉末と混合されているかまたは引続きなお液状の金属上に施こされ、最終的に冷却される、請求項13記載の方法。
- 金属または金属合金をダイヤモンド粉末で電気メッキし、この場合には、ダイヤモンド粉末が攪拌等によって懸濁液中に維持されかつ析出された金属中に堆積されている水溶液または塩融液が使用される、請求項13記載の方法。
- さらに、通常の方法、殊にCVD法およびPVD法でドープされたダイヤモンドの析出のための出発物質として請求項13から21までのいずれか1項に記載により得られたダイヤモンド電極の使用。
- 埋設層(3)または担持材料のために、非導電性の酸化物層の形成能力を有する少なくとも1つの元素、例えばマグネシウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、バナジウムまたは亜鉛から少なくとも部分的に構成される導電性金属または金属合金を使用する、請求項13から21までのいずれか1項に記載の方法。
- ダイヤモンド粒子(5)の間に自由に残存する金属表面または金属個所を不動態化する、請求項13から21までのいずれか1項に記載の方法。
- 不動態化のために無機的酸化または化学的酸化により酸化物層を発生させる、請求項24記載の方法。
- 無機的酸化を直流、パルス化直流または交流によって主に陽極位相時間で実施する、請求項25記載の方法。
- 陽極酸化のために殊に硼酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオンおよび弗化物イオンを組合せ物で含有する水溶液を使用する、請求項25または26記載の方法。
- 酸化溶液を緩衝させる、請求項24から27までのいずれか1項に記載の方法。
- 酸化物層を封止する、請求項24から28までのいずれか1項に記載の方法。
- 酸化物層を水性珪酸塩で後処理し、この水性珪酸塩を二酸化炭素に富んだ空気で硬化させる、請求項29記載の方法。
- 表面を、溶解された金属塩の導入によって印加された電位を用いてかまたは用いずに工業用セラミック、例えば菫青石または焼結コランダムの性質を有する層に変換する、請求項29記載の方法。
- ドープされた導電性ダイヤモンド粒子を被覆された担持材料、殊にテフロンで被覆された担持材料の表面中に導入する、請求項13記載の方法。
- ガス、殊にオゾンおよび/または酸素を製造するための、請求項32記載の方法により得られたダイヤモンド電極の使用。
- ダイヤモンド粉末の粒子が1〜700μm、殊に200μmまでの粒径を有する、請求項13から21までのいずれか1項ならびに請求項23から32までのいずれか1項に記載の方法。
- ダイヤモンド粉末の粒子を硼素、燐または窒素でドープする、請求項13から21までのいずれか1項ならびに請求項23から32までのいずれか1項および請求項34記載の方法。
- ダイヤモンド粉末の粒子が少なくとも本質的に一致する粒径を有する、請求項13から21までのいずれか1項ならびに請求項23から32までのいずれか1項および請求項34または35に記載の方法。
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---|---|---|---|
AT0101802A AT412002B (de) | 2002-07-08 | 2002-07-08 | Diamantelektrode und verfahren zu ihrer herstellung |
PCT/EP2003/003085 WO2004005585A1 (de) | 2002-07-08 | 2003-03-25 | Diamantelektrode und verfahren zu ihrer herstellung |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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---|---|---|---|
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007501389A (ja) * | 2003-08-04 | 2007-01-25 | エレメント シックス リミテッド | ダイヤモンドマイクロ電極 |
JP2007316038A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド電極及びダイヤモンド電極部材 |
JP2008001932A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電解用電極 |
JP2011180158A (ja) * | 2011-06-23 | 2011-09-15 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド電極部材 |
JP2012517893A (ja) * | 2009-02-16 | 2012-08-09 | オルジュ | 廃液を洗浄するための方法および装置 |
JP2013095935A (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Eagle Industry Co Ltd | 放電表面処理用電極 |
WO2015146012A1 (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-01 | 株式会社 東芝 | 光電気化学セル、光電気化学セルの製造方法、および光電気化学反応装置 |
JP2017199456A (ja) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | 株式会社中山アモルファス | 金属材およびその製造方法 |
JP7340783B1 (ja) | 2022-07-22 | 2023-09-08 | トーメイダイヤ株式会社 | オゾン発生用電極素材の製造方法および電極素材 |
JP7441441B2 (ja) | 2020-11-18 | 2024-03-01 | トーメイダイヤ株式会社 | 焼結ダイヤモンド電極素材 |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7534296B2 (en) * | 2002-01-11 | 2009-05-19 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Electrically conductive diamond electrodes |
US20050019955A1 (en) * | 2003-07-23 | 2005-01-27 | Dahl Jeremy E. | Luminescent heterodiamondoids as biological labels |
WO2005090954A1 (en) * | 2004-03-09 | 2005-09-29 | Element Six B.V. | Electrochemical sensor comprising diamond particles |
KR100841465B1 (ko) * | 2004-05-21 | 2008-06-25 | 디아콘 게엠베하 | 다이아몬드로 코팅된 전극 |
DE102004025669A1 (de) * | 2004-05-21 | 2005-12-15 | Diaccon Gmbh | Funktionelle CVD-Diamantschichten auf großflächigen Substraten |
AT413109B (de) * | 2004-05-28 | 2005-11-15 | Gruber Karl Dipl Ing Dr | Diamantelektrode auf kunststoffbasis |
AT413707B (de) * | 2004-07-19 | 2006-05-15 | Voest Alpine Ind Anlagen | Verfahren und vorrichtung zum beizen von metallen |
DE102006002224A1 (de) * | 2006-01-16 | 2007-07-19 | Schaeffler Kg | Anordnung zum Schutz eines Substrates vor Korrosion, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Riemenscheibe |
AT503402B1 (de) * | 2006-04-10 | 2008-02-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Pro | Verfahren zur herstellung einer diamantelektrode und diamantelektrode |
DE112008000368T5 (de) | 2007-02-12 | 2009-12-24 | Lotus Applied Technology, LLC, Beaverton | Herstellung von Verbundmaterialien unter Verwendung von Atomschichtabscheidung |
US20080200224A1 (en) | 2007-02-20 | 2008-08-21 | Gametank Inc. | Instrument Game System and Method |
US8907193B2 (en) | 2007-02-20 | 2014-12-09 | Ubisoft Entertainment | Instrument game system and method |
DE102007057906B4 (de) | 2007-11-29 | 2015-10-22 | Ab Skf | Beschichtungsanordnung |
US20100101010A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Watkins Manufacturing Corporation | Chlorinator for portable spas |
US9120016B2 (en) * | 2008-11-21 | 2015-09-01 | Ubisoft Entertainment | Interactive guitar game designed for learning to play the guitar |
US8266736B2 (en) * | 2009-07-16 | 2012-09-18 | Watkins Manufacturing Corporation | Drop-in chlorinator for portable spas |
AT509286B1 (de) * | 2009-12-16 | 2016-10-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Produktion Gmbh Und Co Kg | Tauchzelle zur elektrolytischen desinfektion von wasser |
WO2012018401A1 (en) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | Los Alamos National Security, Llc | A photo-stimulated low electron temperature high current diamond film field emission cathode |
AT511665A1 (de) * | 2011-06-30 | 2013-01-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Produktion Gmbh & Co Kg | Tauchzelle zur elektrolytischen reinigung von wasser |
AT511817B1 (de) * | 2012-02-22 | 2013-03-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Produktion Gmbh & Co Kg | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode |
AT511952B1 (de) * | 2012-02-29 | 2013-04-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Produktion Gmbh & Co Kg | Elektrolysezelle und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US9728280B2 (en) | 2013-05-17 | 2017-08-08 | Martin A. Stuart | Dielectric wall accelerator utilizing diamond or diamond like carbon |
AT516720B1 (de) * | 2015-05-18 | 2016-08-15 | Pro Aqua Diamantelektroden Produktion Gmbh & Co Kg | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode |
KR101771548B1 (ko) * | 2015-06-09 | 2017-09-12 | 한국과학기술연구원 | 복합 전선 구조체 및 그 제조 방법 |
US10051720B1 (en) | 2015-07-08 | 2018-08-14 | Los Alamos National Security, Llc | Radio frequency field immersed ultra-low temperature electron source |
US10767270B2 (en) | 2015-07-13 | 2020-09-08 | Delta Faucet Company | Electrode for an ozone generator |
CA2946465C (en) | 2015-11-12 | 2022-03-29 | Delta Faucet Company | Ozone generator for a faucet |
CN105350055B (zh) * | 2015-11-18 | 2017-07-18 | 上海应用技术学院 | 一种用于熔盐电解的Ni‑导电金刚石复合电极的制备方法 |
CN105369327B (zh) * | 2015-11-25 | 2017-07-18 | 上海应用技术学院 | 一种导电金刚石复合电极的制备方法 |
CN105624726A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-01 | 金刚宝石水高科技有限公司 | 用于电化学电池的电极 |
RU2689355C1 (ru) * | 2016-03-24 | 2019-05-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Специальное конструкторско-технологическое бюро "Технолог" | Способ получения цинк-наноалмазного электрохимического покрытия |
WO2017163289A1 (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | エレクトロクロミック素子及びエレクトロクロミック装置 |
ES2784314T3 (es) * | 2016-11-18 | 2020-09-24 | Markus Schlee | Sistema de tratamiento para la limpieza de un componente contaminado con biopelícula, en particular una pieza de implante |
DE102017103602A1 (de) | 2017-02-22 | 2018-08-23 | Schlütter Oberflächentechnik GmbH | Beschichtung eines Werkstoffes und Verfahren zu deren Erzeugung sowie Werkstück |
US11407661B2 (en) | 2017-07-17 | 2022-08-09 | Watkins Manufacturing Corporation | Chlorine generator system |
EP4272226A1 (en) * | 2020-12-31 | 2023-11-08 | Alpha Tech Research Corp | Pool type liquid metal cooled molten salt reactor |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3808609A1 (de) | 1988-03-15 | 1989-09-28 | Electro Chem Eng Gmbh | Verfahren zur erzeugung von korrosions- und verschleissbestaendigen schutzschichten auf magnesium und magnesiumlegierungen |
US5139970A (en) | 1989-06-01 | 1992-08-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electric device and manufacturing method of the same |
CN1096725A (zh) * | 1993-06-22 | 1994-12-28 | 李惠东 | 金刚石堆焊焊条 |
US5709577A (en) * | 1994-12-22 | 1998-01-20 | Lucent Technologies Inc. | Method of making field emission devices employing ultra-fine diamond particle emitters |
JP2000045097A (ja) * | 1998-05-27 | 2000-02-15 | Tektronix Inc | コ―ティング形成方法及び電極構体 |
DE19842396A1 (de) * | 1998-09-16 | 2000-04-13 | Fraunhofer Ges Forschung | Elektrode für elektrochemische Prozesse |
FR2790268B1 (fr) * | 1999-02-25 | 2001-05-11 | Suisse Electronique Microtech | Cellule d'electrolyse a electrode bipolaire comportant du diamant |
DE19911746A1 (de) * | 1999-03-16 | 2000-09-21 | Basf Ag | Diamantelektroden |
DE19948184C2 (de) * | 1999-10-06 | 2001-08-09 | Fraunhofer Ges Forschung | Elektrochemische Herstellung von Peroxo-dischwefelsäure unter Einsatz von diamantbeschichteten Elektroden |
US6267866B1 (en) * | 1999-10-14 | 2001-07-31 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Fabrication of a high surface area boron-doped diamond coated metal mesh for electrochemical applications |
US6569308B2 (en) * | 1999-10-14 | 2003-05-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Fabrication of a high surface area diamond-like carbon or dirty diamond coated metal mesh for electrochemical applications |
DE10025167B4 (de) * | 2000-05-24 | 2004-08-19 | Dirk Schulze | Elektrode für die elektrolytische Erzeugung von Ozon und/oder Sauerstoff, diese enthaltende Elektrolysezelle sowie Verfahren zur Herstellung einer solchen Elektrode |
JP4456378B2 (ja) * | 2004-02-24 | 2010-04-28 | ペルメレック電極株式会社 | 導電性ダイヤモンド電極の製造方法 |
-
2002
- 2002-07-08 AT AT0101802A patent/AT412002B/de not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-03-25 US US10/520,930 patent/US7455754B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-25 AU AU2003222779A patent/AU2003222779A1/en not_active Abandoned
- 2003-03-25 JP JP2004518488A patent/JP2005532472A/ja active Pending
- 2003-03-25 EP EP03718708A patent/EP1527212A1/de not_active Withdrawn
- 2003-03-25 WO PCT/EP2003/003085 patent/WO2004005585A1/de active Application Filing
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007501389A (ja) * | 2003-08-04 | 2007-01-25 | エレメント シックス リミテッド | ダイヤモンドマイクロ電極 |
JP2007316038A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド電極及びダイヤモンド電極部材 |
JP2008001932A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電解用電極 |
JP2012517893A (ja) * | 2009-02-16 | 2012-08-09 | オルジュ | 廃液を洗浄するための方法および装置 |
JP2011180158A (ja) * | 2011-06-23 | 2011-09-15 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド電極部材 |
JP2013095935A (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Eagle Industry Co Ltd | 放電表面処理用電極 |
WO2015146012A1 (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-01 | 株式会社 東芝 | 光電気化学セル、光電気化学セルの製造方法、および光電気化学反応装置 |
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