JP2005529483A - 三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法および同方法の使用 - Google Patents
三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法および同方法の使用 Download PDFInfo
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Abstract
Description
・4から10分の間、たとえば500から1500mJ/cm2でUVフラッド露光;
・攻撃しない液体(たとえば水)の中で煮沸(典型的には1から2時間);
・無視できる化学反応速度による過熱蒸気(たとえば2.5バールにおいて127℃を有する水蒸気);
・典型的には100Wと5分の長さを有する、加熱するマイクロ波照射
Claims (14)
- ベース層(3)上に三次元最終表面パターンを有するユニット(1)を形成する方法(「リフト−オフ法」)であって、第1の処理ステップにおいて、ベース層(3)上にフォトレジスト層(9)を発生させるためにフォトレジストを適用し、第2の処理ステップにおいて、予め定められた最終表面パターンに適合されたマスキング露光(13)をフォトレジスト層(9)に施し、第3の処理ステップにおいて、フォトレジスト層(9)の一部を現像除去することで、犠牲層領域としてのフォトレジストサブ領域(25)を有する初期表面パターンを得、第4の処理ステップにおいて、得られた初期表面パターンを覆うコーティング(29、31)を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用し、第5の処理ステップにおいて、犠牲層領域(25)を不安定化させるために初期表面パターンにエネルギーを適用し、第6の処理ステップにおいて、予め定められた処理温度において初期表面パターンに高圧液体ジェット(33)を作用させ、犠牲層領域(25)を覆うコーティング(29)の少なくとも一部を、最終表面パターンを形成するために機械的に除去し、又は少なくともこじ開け、該第6の処理ステップにおいて、該高圧液体ジェット(33)の液体は、操作温度において、適用中、ユニット(1)の材料および/または特に有機の流体シール手段に対し、測定限界未満の無視し得る化学反応速度および/または物理溶解速度を有することを特徴とする方法。
- 第7の処理ステップにおいて、1%〜20%の間、好ましくは9.5%〜10.5%の間、特に10%の濃度を有する溶剤(25)、典型的には水酸化ナトリウム水溶液(NaOH)を、犠牲層領域(25)のアクセスできる部分から材料を除去するために適用することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 溶剤(37)を、高圧液体ジェット(33)と同時に適用することを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 溶剤(37)を、高圧液体ジェット(33)の直後に、好ましくは高圧液体ジェット(33)から独立した供給システム(39)によって、適用することを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 第5の処理ステップにおいて適用される不安定化エネルギーが、UV−フラッド露光であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 第5の処理ステップにおける不安定化エネルギー適用として、無視できる化学反応速度を有する過熱蒸気、特に水蒸気を、好ましくは加圧状態で使用することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 第5の処理ステップにおける不安定化エネルギー適用のために、ユニット(1)をこのユニットを攻撃しない液体、特に水によって煮沸することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 第5の処理ステップにおける不安定化エネルギー適用のために、加熱するマイクロ波放射を使用することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 不安定化エネルギー適用後に、急冷を行うことを特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載の方法。
- フォトレジストとして、好ましくは0.1μm〜10μm、特に3μm〜5μmの間の層厚を有する、いわゆるイメージ反転レジストを使用し、第2の処理ステップにおいてマスキング露光(13)の後に、フォトレジスト層(9)を加熱し、好ましくは110℃〜130℃の間の温度でベークし、次に中間ステップにおいて、2回目として、好ましくは300mJ/cm2より大きい近紫外領域の強い露光で均質に露光することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- フォトレジスト(9)を露光するために、光ビーム、特にレーザービームが使用され、フォトレジスト層(9’)のより深い位置にある領域を、表面近傍の領域よりも局所的により少なく露光するように、前記光ビームの強度推移がフォトレジスト層(9)の内部で、光ビームがフォトレジスト層の上側上に合焦されることによりフォトレジスト(9’)内で著しく発散して広がるように、変形されることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 交代層システムとしてのコーティング(29、31)が、周期律のグループIVA、IVB、VBからなる群の少なくとも2つの異なる酸化物または酸窒化物を含む少なくとも1つの高屈折率材料と低屈折率材料を含み、0.5μm〜5μmの間、好ましくは1μm〜2μmの間の厚みを有し、かつ第4の処理ステップの間ユニット(1)の温度が120℃より低く維持されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- パターン化された前側が同時に洗浄され、従って次の処理ステップのため、たとえばリソグラフィープロセスのための準備ができるように、高圧液体ジェット(35)のための液体として、DI水(脱塩濾過水)を、好ましくは100バール〜180バールの間の圧力と、特に60℃より高い温度で、使用することを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- パターン化された光学カラーフィルタ、特にカラーホィールのような光学ユニット上にパターン化された誘電体フィルムを形成するための、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法の使用。
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