JP2005524109A - 可撓性ディスプレイ用の電気接触部 - Google Patents

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Abstract

可撓性電子無線識別(RFID)又はディスプレイ装置、及びこれを製造する方法。可撓性電子無線識別(RFID)又はディスプレイ装置は、上面及び底面を有する可撓性基板を備える。上面は電気部品を備える。可撓性基板は、上面から底面までを通り抜ける開口部を備える。導電層は、可撓性基板に結合され、開口部は、該導電層の少なくとも一部を露出させる。開口部は、導電性材料により充填されて、導電層の少なくとも一部に対する第1の電気接触部と、可撓性基板上の電子部品に対する第2の電気接触部とを形成する。

Description

(関連出願)
本出願は、2001年4月25日付で出願された「可撓性ディスプレイのための接触部」という名称の米国仮特許出願番号第60/286,838号に基づくものである。本出願は上記の仮出願に基づく優先権を主張するものである。
本発明は、可撓性ディスプレイ及び無線(RF)タグの電気接触部を形成する方法及び装置に関する。
可撓性ディスプレイ、特に流体内自己集合を含む工程を通して製造される可撓性ディスプレイの製造は、ディスプレイ装置の片面上に電気相互接続部を生成することにより行われてきた。そうしたディスプレイ装置の例は、2000年9月27日付で出願された係属中の米国特許出願整理番号第09/671,659号に示されている。
本発明の1つの例示的な実施形態においては、可撓性ディスプレイ装置を製造する方法は、可撓性ディスプレイ装置の一部を形成し、導電層を含む底面を有する可撓性基板の上面に開口部を形成することを含み、該開口部は該導電層の少なくとも一部を露出させる。この方法は、更に、開口部を導電性材料により充填することを含み、これは、導電層の少なくとも一部に対する電気接触部を形成し、該導電性材料は、更に、上面における電気ディスプレイ部品に対する電気接触部を形成する。
別の例示的な実施形態においては、可撓性ディスプレイ装置を製造する方法は、可撓性ディスプレイ装置の一部を形成し、複数のコンダクタが上面の下方に配設された可撓性基板の前記上面に開口部を形成することを含み、該開口部は該複数のコンダクタの少なくとも一部を露出させる。この方法は、更に、開口部を導電性材料により充填することを含み、これは、複数のコンダクタの少なくとも一部に対する電気接触部を形成し、該導電性材料は、更に、上面における電気ディスプレイ部品に対する電気接触部を形成する。
本発明の方法は、更に、無線(RF)タグを製造するのに用いて、基板上に両面接触部を有する無線タグ又はその一部を生成する無線(RF)タグを製造することができる。
本発明は、同じ参照番号が同じ要素を示す添付図面の図において、限定するものではなく一例として示される。
以下の説明においては、本発明の完全な理解を与えるために、特定の材料、処理パラメータ、処理段階などの幾多の特定の詳細が述べられる。当業者であれば、特許請求される本発明を実施するためには、必ずしもこれらの詳細に特に従う必要はないことを理解するであろう。他の場合においては、本発明を不明瞭なものにしないように、周知の処理段階、材料などは述べられない。
本発明は、1つの実施形態においては、レーザ穿孔を用いて、可撓性ディスプレイ又はRFタグに裏面電気接触部を形成する方法に関する。本発明はまた、裏面電気接触部を有する可撓性ディスプレイ又はRFタグといった装置に関する。プラスチックディスプレイのような可撓性ディスプレイを製造する工程においては、金属裏材を用いて、ディスプレイ製造工程全体にわたり、プラスチック基板の寸法安定性を向上させることができる。一例においては、接着剤層を用いて、金属裏材をプラスチック基板に接合する。ディスプレイ製造工程がロールツーロール工程(紙が製造される多くの場合の方法と同様である)を用いる場合には、寸法安定性が有益になる。この金属裏材は、従来、電気接触部を与えるために区分化されるということはなかった。本発明においては、この金属裏材その他の導電性裏材が、1つ又はそれ以上の電極に区分化される。
本発明の1つの実施形態においては、プラスチックディスプレイ基板の中に傾斜する壁をもつ貫通穴を形成するため、及び/又は、貫通穴自体が異なる方法によりプラスチックの中にパターン加工されている場合には、金属裏材をプラスチックディスプレイ基板に接合している接着剤層を除去するために、レーザ穿孔が用いられる。好ましい実施形態は、レーザ穿孔を、貫通穴を形成すること、並びに、金属裏材をプラスチックディスプレイ基板又はRF装置に接合している接着剤層を除去することの両方に対して用いる。
レーザ穿孔を用いることにより、基板、レーザ波長、及びレーザのパルスエネルギに依存する高度に再生産可能な穴の大きさ及び側壁の傾斜をもって、高精度かつ高率で貫通穴を形成することができる。貫通穴の接続は、以下に限定されるものではないが、金属蒸着法、金属スパッタリング法、電気めっき又は無電解めっき、導電性エポキシ、導電性ポリマーなどのスクリーン印刷を含む幾多の方法により完成させることができる。
本発明は、液晶、有機発光ダイオード(OLED)、及びポリマー発光ダイオード(POED)を含む種々のディスプレイ技術及びディスプレイ媒体と併せて用いることができる。1つの実施形態においては、金属裏材を、上方発光アクティブマトリクスのOLEDディスプレイ、並びに、上方発光又は下方発光パッシブマトリクスのディスプレイにおいて電極として用いて、そうしたディスプレイによって消費される大量の電流を送ることができる。典型的には、何十ミクロンもの厚さである金属裏材は、1つの実施形態においては、ディスプレイ製造工程において寸法安定性を与え(種々の工程に曝される(ロールツーロール・ウェブ工程において)基板に対する構造上の支持を効率的に与える)、後続して、1つ又はそれ以上の個別の電極にパターン加工される。1つの実施形態においては、金属裏材は、該金属裏材を含む構造体全体の少なくとも10%の厚さである。そうした厚手の金属電極は、僅かな電圧低下のみで大量の電流を送ることを可能にする。レーザ穴穿孔の後には、金属スパッタリング又は金属めっきのような好適なバイア完成技術が続き、その密に近接したドライバ電子装置に対して、高度に再生産可能であり、短く、低抵抗で、良好に位置合わせされた接続部を迅速に形成することを可能にする。
本発明の1つの適用例は、別々に製造されたディスプレイをカードに一体化する必要がある、スマートカード及び同様な装置の製造にある。金属裏材によって与えられる耐久性を多分に維持し、同時に、多数の電極を与えるように該金属裏材を用いることができる。
図1A、図1B、図1C、図1D、及び図1Eは、可撓性基板及び可撓性ディスプレイに用いることができる裏面電気接触部を有する装置の断面図を示す。図1Aの基板は、可撓性基板10と導電層11とを含む。1つの実施例においては、可撓性基板10はプラスチック層であり、導電層11はディスプレイの金属裏材である。導電層11は、可撓性基板10に結合される。金属裏材は、典型的には、接着剤(図示せず)を用いて、プラスチック層に取り付けられる。プラスチック基板に取り付けられた金属裏材を既に含む多くの市販のプラスチック基板がある。代替的な実施形態においては、可撓性基板10は、電導性を与えるポリマー導電性材料に取り付けることができ、その際プラスチックは絶縁体である。この実施形態においては、ポリマー導電性材料はまた、寸法安定性も与える。
図1Bは、ディスプレイ駆動装置その他の電子部品(例えば、2000年9月27日付で出願された係属中の米国仮特許出願整理番号第09/671,659号に記載の集積回路といった集積回路は、成形ブロックの形態で、可撓性基板10に生成された領域又は受容器の中に付着されてきた)を示す。電子部品は、(a)ディスプレイの行電極、(b)ディスプレイの列電極、(c)ディスプレイ又は無線タグの集積回路、(d)ディスプレイ駆動装置の供給電極、及び(e)ディスプレイ、無線タグその他のあらゆる好適な電子装置の電子部品とすることができる。これらの集積回路は、流体内自己集合工程その他の工程を通じて、可撓性基板10の中に付着することができる。可撓性基板10は、上面10Tと底面10Bとを有する。1つの実施例においては、電子部品は上面10Tの近くに組み入れられる。別の実施例においては、電子部品は、上面10Tのすぐ下の可撓性基板10内に組み入れられる。図1Bは、集積回路15A及び15Bが可撓性基板10の中に付着された状態を示す。更に、別の種類の電子部品である、バス電極その他の種類の電極といった電極14もまた、可撓性基板10に含まれる。電極14、並びに、集積回路15A及び15Bは、ディスプレイ駆動装置又は無線タグなどを与える回路などといった種々の異なる電子装置のいずれであってもよいことが理解されるであろう。図1Bの場合においては、回路15A及び15Bは、液晶ディスプレイ装置又はOLEDディスプレイ装置のようなディスプレイ装置のバックプレーンのためのディスプレイ駆動装置である。
1つの実施形態においては、レーザ穿孔を用いて可撓性基板10を通る穴又は開口部を穿孔して、該穴又は開口部が導電層(例えば金属裏材)を露出させるようにする。穴17、18、及び19が、可撓性基板10を通して穿孔されて、図1Cに示すように、導電層11の一部を露出させる。1つの実施例においては、穴又は開口部は、上面10Tから底面10Bまで、可撓性基板10を通り抜けるようにされるか又は穿孔される。次いでこれらの穴の中に導電性材料又は要素が適用されて、導電層11に対する電気接触部を形成し、更に、反対側にある可撓性基板10の電子部品に対する電気接触部を形成する。図1Dに示すように、導電性要素17Aは、導電層11の一部に対する電気接触部を形成し、更に、電極14に対する別の電気接触部を形成する。同様に、導電性要素18Aは、導電層11の一部に対する電気接触部を形成し、更に、集積回路15A上の電気相互接続パッド(図示せず)に対する電気接触部を形成する。同様に、導電性要素19Aは、導電層11の一部に対する電気接触部を形成し、更に、集積回路15B上の電気相互接続パッド(図示せず)に対する電気接触部を形成する。導電性要素の例は、銅、金、銀、タングステン、アルミニウムといった金属、及びあらゆる他の好適な合金を含む。これらの例は、導電性要素又は材料の網羅的なリストを表すものではない。
1つの例示的な実施形態においては、導電層11は、少なくとも2つのセグメントに区分化される。1つの実施例においては、導電層11は、通常の方法を用いてパターン加工されて、複数のコンダクタをもつ導電層11を形成する。導電層11を少なくとも2つのセグメント11A及び11Bに区分化した後で、図1Eに示す構造体が生成される。導電層11は、ここでは、複数のコンダクタ又は電極を備える。この場合には、導電層11は、少なくとも2つの電極11A及び11Bを生成するように区分化されて、反対側の面にある可撓性基板10の回路の部分に対して適切な導電性を与える。
図1A、図1B、図1C、図1D、及び図1Eは本発明の特定の実施例を表すものであり、代替的な実施例を想定できることが理解されるであろう。例えば、可撓性基板10は、可撓性ディスプレイに対して同様の可撓性を与えることができる別の材料と置き換えることができる。更に、導電層11は、該導電層11から生成されるべき電極に対して十分な導電性を与える導電性ポリマーその他の非金属材料と置き換えることができ、この導電性ポリマーはまた、寸法安定性を与えることもできる。更に、図1A、図1B、図1C、図1D、及び図1Eによって示される具体的な処理工程の順序を変更して、特定の工程を、図1A、図1B、図1C、図1D、及び図1Eとは異なる順序において行うようにすることもできる。例えば、バックプレーン製造工程は、金属の導電層11を区分化した後で完成させることもできる。
この説明はまた、ディスプレイ以外の電子装置(以下の実施例を参照されたい)にも適用されることが理解されるであろう。従って、論じられた実施形態は、可撓性ディスプレイのみに限定されるものではない。
図2は、本発明の例示的な方法を示すフローチャートである。処理工程50において、導電性裏材が可撓性ディスプレイのバックプレーンの裏に取り付けられる。多くの場合において、プラスチック材料のような可撓性ディスプレイ基板は、既に金属裏材が取り付けられた状態で商業的に入手することができる。ディスプレイ駆動装置、及び行電極及び列電極のような電子部品を含むディスプレイのバックプレーン構造体は、可撓性ディスプレイのバックプレーンを生成するために、可撓性基板表面上であるか又はその中に生成される。次いで工程52において、図1Cに示すように、開口部17、18、及び19といった開口部が、可撓性ディスプレイのバックプレーンの上面に生成される。これらの開口部は、同じく図1Cに示すように、導電性裏材の表面を露出させる。次いで工程54において、開口部は、導電性材料により充填されて、導電性裏材に対する電気接触部を形成する。この導電性材料の例は、図1Dに示すように、導電性材料17A、18A、及び19Aとして示されている。次いで工程56において、導電性裏材がパターン加工されて、可撓性ディスプレイのバックプレーンの裏にコンダクタが形成される。このパターン加工の実施例は図1Eに示されており、ここでは金属裏材は、2つの電極11A及び11Bに区分化されている。次いで工程58においては、コンダクタのパターンが上面に生成されて、開口部内及び上面に配設された導電性材料を、可撓性ディスプレイのバックプレーンの上面にある電気ディスプレイ部分に相互接続する。これらの上面のコンダクタの実施例は図1Eに示され、この場合には、上面にある導電性材料の一部は、基板10の上面にある部品15A及び15Bのような部品上の電気接触部と電気的に結合される。図2の方法は1つの例示的な方法であって、代替的な順序を含む代替的手法が本発明により可能であることが理解されるであろう。例えば、工程58及び工程56は、逆の順序にしてもよい。
図3は、本発明の別の例示的な実施形態を示す。この方法の工程75は、コンダクタのパターンを、可撓性ディスプレイのバックプレーンの底面に生成する。この場合には、工程77において開口部が生成される前に、金属裏材11のような金属裏材がパターン加工されて、底面に複数のコンダクタを生成する。これらの開口部は、可撓性バックプレーンの底部にある少なくとも幾つかのコンダクタの表面を露出させる。次いで工程79においては、開口部が導電性材料により充填されて、可撓性ディスプレイのバックプレーンの底面にある少なくとも幾つかのコンダクタに対する電気接続部が形成される。次いで工程81においては、上面のコンダクタのパターンが生成されて、開口部の導電性材料を、可撓性ディスプレイのバックプレーンの上面にある種々の電気ディスプレイ部品に相互接続する。ここでも、当業者であれば、図3に示す方法の種々の代替的な順序が想定されるであろう。
ここで、図4A、図4B、図4C、図4D、及び図4Eを参照して、可撓性ディスプレイ基板上に裏面電極接触部をもつ、パッシブマトリクス・ディスプレイを生成する本発明の実施形態を説明する。1つの実施例においては、図4Aに示す金属裏材つき可撓性プラスチック基板101が始めの材料である。この基板の上面に、列及び行の駆動回路が生成される。この回路を生成する1つの方法は、半導体ウェーハに種々の列及び行の駆動装置を製造し、次いでこれらの駆動装置をウェーハから分離して、個々の集積回路の各々をブロックとして基板101の受容領域に付着することである。この付着工程は、流体内自己集合を用いてブロックを受容領域の中に付着することを含むことができる。図4Bに示す実施例は、基板101に付着された3つの行駆動装置103A、103B、及び103Cと、同じく該基板101に付着された3つの列駆動装置102A、102B、及び102Cを示す。典型的には、列コンダクタ104の組は、基板101の上面に形成することができ、別のコンダクタの組である行コンダクタ105は、カバー基板であるか又は可撓性カバー基板といった別の基板に形成される。従って、図4B、図4C、図4D、及び図4Eは、別の基板の上に存在するものであるがこれらの図面に示されている、コンダクタの組である行コンダクタ105を含むことが理解されるであろう。行駆動装置は、通常の技術により、行電極に結合されて、基板101のような第1の基板からカバー基板に対する垂直相互接続部を形成することが理解されるであろう。この実施例は、液晶化合物が、列コンダクタ104を有する基板101と行コンダクタ105を有する別の基板との間に注入されるか又は挟まれる液晶形式のディスプレイセルに対して、より関連することに注目されたい。行コンダクタ駆動装置及び列コンダクタ駆動装置の両方は、同じ基板上にあってもよいし、各々が制御する行コンダクタ及び列コンダクタの対応する各々の基板上にあってもよい。
ディスプレイセルを生成する工程は、他の種類のディスプレイに応じて修正することができる。例えば、OLED又はPLEDに対しては、逐次的な工程を用いて、ディスプレイセルを生成する。最初に、基板が準備され、次いで通常の方法を用いて、アノードであるITOの層が基板上に付着される。次いでITOがパターン加工されて、上述の列コンダクタ104とほぼ同様な列コンダクタが形成される。次いで、OLEDスタックのようなディスプレイ媒体(穴移送層、エレクトロルミネセント材料、及び電子移送層を有する)が、ITO層上に付着される。OLEDスタックをPLEDスタックその他の好適なディスプレイ材料と置き換えて、他の種類のディスプレイを製造することができる。次に、カソード層が付着され、パターン加工されて、行コンダクタ105とほぼ同様な行コンダクタが形成される。カバー基板(可撓性であるか又は可撓性ではない)がカソード層にわたり付着されて、ディスプレイセルが完成する。
図4Cに示すように、貫通穴がプラスチック基板にパターン加工されて、行及び列電極を基板の裏面に生成できるようになる。図4Cに示すように、貫通穴107A、107B、及び107Cは、列駆動装置102A、102B、及び102Cに対する裏面接続部が作られるように形成される。同様に、貫通穴108A、108B、及び108Cは、裏面から行駆動装置103A、103B、及び103Cに対する電気接続部を作るために基板101に形成される。その後、図4Dに示すように、貫通穴は導電性材料により充填されて、金属裏材に対する電気接続部が確立される。具体的には、導電性材料110A、110B、及び110Cが、貫通穴107A、107B、及び107Cを充填する。同様に、導電性材料109A、109B、及び109Cが、貫通穴108A、108B、及び108Cを充填する。次いで、図4Eに示すように、金属裏材が個別の電極にパターン加工されて、電極111及び112が生成される。このパターン加工は、貫通穴の生成前に行ってもよいし、この後に行ってもよい。裏面において、上側にある駆動装置に対する電気接続を生成するのに用いられる特定の個別の電極は、製造される特定の回路又はディスプレイに依存することが理解されるであろう。図4Eに示す具体的なパターンは、2つの別々の電極の過度に単純化した表現であり、ディスプレイ装置が必要とする電子回路による要求に応じて、種々の他の種類の電極パターンを生成できることが理解されるであろう。
図5は、本発明の1つの実施形態による裏面電極201をもって製造されたディスプレイ装置又はモジュール211を含むスマートカード200の断面図を示す。この場合には、ディスプレイ媒体220は、対向電極202と貫通穴210が生成されたプラスチック基板206上の駆動装置電極204との間に挟まれている。このプラスチック基板206は、本実施形態においては、スマートカードのためのディスプレイモジュールを形成する。図5に示すように、ディスプレイモジュール211は、可撓性スマートカード200内の開口部208の中に付着される。
上述のように、本発明の好ましい実施形態は、レーザ穿孔を用いて基板206内に貫通穴210のための開口部を生成して、該基板206の裏面212から該基板206の上面214に対する電気接続部を生成する。裏面電極201は、スマートカード200に含まれるスマートカード接触パッド216に対する接触部を形成する。スマートカード接触パッド216は、ディスプレイ装置が、典型的には、スマートカードに存在する主制御装置(図示せず)と相互接続することを可能にする。主制御装置は、ディスプレイ装置に表示されることになる情報を制御する。
この説明において述べられた貫通穴を生成するために、種々の異なる種類のレーザを用いることができる。これらのレーザの波長は、紫外線から赤外線まで変動することができる。プラスチック基板に対しては、横方向励起大気圧によりパルス化されるCO2レーザを用いることができる。本実施形態の穴は、典型的には、先細になる。1つの実施形態においては、ESIのYAGレーザ(Laser Microvia Drill、モデル番号5200)を用いることができる。或いは、エキシマレーザを用いることができる。YAGレーザの場合には、周波数を二倍、三倍、又は四倍にして、紫外線に近い波長を与えることができる。
図1A〜図1Eは、可撓性ディスプレイ又は無線タグを生成する製造工程における基板の断面図を示す。 本発明の1つの実施形態による1つの例示的な方法を示す。 本発明の1つの実施形態による別の例示的な方法を示す。 可撓性基板上にパッシブマトリクス・ディスプレイを構成して、本発明の1つの実施形態による可撓性ディスプレイを生成する特定の製造工程を示す。 可撓性基板上にパッシブマトリクス・ディスプレイを構成して、本発明の1つの実施形態による可撓性ディスプレイを生成する特定の製造工程を示す。 可撓性基板上にパッシブマトリクス・ディスプレイを構成して、本発明の1つの実施形態による可撓性ディスプレイを生成する特定の製造工程を示す。 可撓性基板上にパッシブマトリクス・ディスプレイを構成して、本発明の1つの実施形態による可撓性ディスプレイを生成する特定の製造工程を示す。 可撓性基板上にパッシブマトリクス・ディスプレイを構成して、本発明の1つの実施形態による可撓性ディスプレイを生成する特定の製造工程を示す。 集積回路及びディスプレイモジュールにおけるようなディスプレイ装置を、全て同じクレジッドカードの基板上に含む、クレジットカードのような可撓性スマートカードの断面図を示す。

Claims (43)

  1. 可撓性ディスプレイ装置であって、
    電気ディスプレイ部品を備えた上面と、底面とを有し、前記上面から前記底面までを通り抜ける開口部を備えた可撓性基板と、
    前記底面に結合された導電層と、
    導電要素と、
    を備え、
    前記開口部が、前記導電層の少なくとも一部を露出させ、
    前記導電要素により前記開口部を充填して、前記導電層の少なくとも一部に対する第1電気接触部と、前記可撓性基板上の前記電気ディスプレイ部品に対する第2電気接触部とが形成された、
    ことを特徴とする可撓性ディスプレイ装置。
  2. 前記導電層がパターン形成されて複数のコンダクタが形成され、前記開口部の各々が、前記複数のコンダクタの少なくとも1つに電気的に結合された請求項1に記載の可撓性ディスプレイ装置。
  3. 前記電気ディスプレイ部品が、(a)前記可撓性ディスプレイ装置の行電極、(b)前記可撓性ディスプレイ装置の列電極、及び(c)第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された集積回路のうちの少なくとも1つを備えた請求項2に記載の可撓性ディスプレイ装置。
  4. 前記導電層が、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項1に記載の可撓性ディスプレイ装置。
  5. 可撓性ディスプレイ装置であって、
    上面を備え、該上面はこれを通り抜ける開口部を有し、電気ディスプレイ部品を備えた可撓性基板と、
    前記上面の下方に配設された導電層と、
    導電要素と、
    を備え、
    前記開口部が、前記導電層の少なくとも一部を露出させ、
    前記導電要素により前記開口部を充填して、前記導電層の少なくとも一部に対する第1電気接触部と、前記可撓性基板上の前記電気ディスプレイ部品に対する第2電気接触部とが形成された、
    ことを特徴とする可撓性ディスプレイ装置。
  6. 前記電気ディスプレイ部品が、(a)前記可撓性ディスプレイ装置の行電極、(b)前記可撓性ディスプレイ装置の列電極、及び(c)第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された集積回路のうちの少なくとも1つを備えた請求項5に記載の可撓性ディスプレイ装置。
  7. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項5に記載の可撓性ディスプレイ装置。
  8. 可撓性無線識別(RFID)装置であって、
    電気RFID部品を備えた上面と、底面とを有し、前記上面から前記底面までを通り抜ける開口部を備えた可撓性基板と、
    前記底面に結合された導電層と、
    導電要素と、
    を備え、
    前記開口部が、前記導電層の少なくとも一部を露出させ、
    前記導電要素により前記開口部を充填して、前記導電性領域の少なくとも一部に対する第1電気接触部と、前記可撓性基板上の前記電気RFID部品に対する第2電気接触部とが形成された、
    ことを特徴とする可撓性無線識別(RFID)装置。
  9. 前記導電性領域がパターン加工されて、該導電性領域から複数のコンダクタが形成され、前記開口部の各々が、前記複数のコンダクタの少なくとも1つに電気的に結合された請求項8に記載の可撓性RFID装置。
  10. 前記電気RFID部品が、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路を備えた請求項9に記載の可撓性RFID装置。
  11. 前記導電性領域が、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項10に記載の可撓性RFID装置。
  12. 可撓性無線識別(RFID)装置であって、
    上面を備え、該上面はこれを通り抜ける開口部を有し、電気RFID部品を備えた可撓性基板と、
    前記上面の下方に配設された導電層と、
    導電要素と、
    を備え、
    前記開口部が、前記導電層の少なくとも一部を露出させ、
    前記導電要素により前記開口部を充填して、前記導電層の少なくとも一部に対する第1電気接触部と、前記可撓性基板上の前記電気RFID部品に対する第2電気接触部とが形成された、
    ことを特徴とする可撓性ディスプレイ装置。
  13. 前記電気RFID部品が、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路を備えた請求項12に記載の可撓性RFID装置。
  14. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項12に記載のRFID装置。
  15. 可撓性電子装置であって、
    電気部品を備えた上面と、底面とを有し、前記上面から前記底面までを通り抜ける開口部を備えた可撓性基板と、
    導電要素と、
    を備え、
    前記底面が導電性領域を備え、前記開口部が前記導電性領域の少なくとも一部を露出させ、
    前記導電要素により前記開口部を充填して、前記導電性領域の少なくとも一部に対する第1電気接触部と、前記可撓性基板上の前記電気部品に対する第2電気接触部とが形成された、
    ことを特徴とする可撓性電子装置。
  16. 前記導電性領域がパターン加工されて、該導電性領域から複数のコンダクタが形成され、前記開口部の各々が、前記複数のコンダクタの少なくとも1つに電気的に結合された請求項15に記載の可撓性電子装置。
  17. 前記電気部品が、少なくとも1つの受動電子部品と、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路とを備えた請求項16に記載の可撓性電子装置。
  18. 前記導電性領域が、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項15に記載の可撓性電子装置。
  19. 可撓性電子装置であって、
    上面を備え、該上面はこれを通り抜ける開口部を有し、電気ディスプレイ部品を備えた可撓性基板と、
    前記上面の下方に配設された導電層と、
    導電要素と、
    を備え、
    前記開口部が、前記導電層の少なくとも一部を露出させ、
    前記導電要素により前記開口部を充填して、前記導電層の少なくとも一部に対する第1電気接触部と、前記可撓性基板上の前記電気部品に対する第2電気接触部とが形成された、
    ことを特徴とする可撓性電子装置。
  20. 前記電気部品が、少なくとも1つの受動電子部品と、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路とを備えた請求項19に記載の可撓性電子装置。
  21. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項19に記載の可撓性電子装置。
  22. 可撓性ディスプレイ装置を製造する方法であって、
    可撓性ディスプレイ装置の一部を形成する可撓性基板の上面に開口部を形成する工程であって、前記可撓性基板が導電層を含む底面を有し、前記開口部が前記導電層の少なくとも一部を露出させる、前記工程、
    前記導電層の少なくとも一部に対する電気接触部を形成する導電性材料で前記開口部を充填する工程であって、前記導電性材料が更に前記上面にある電気ディスプレイ部品に対する電気接触部を形成する、前記工程、
    を含む、前記方法。
  23. 前記導電層をパターン加工する工程を更に含み、前記パターン加工が該導電層から複数のコンダクタを形成し、前記開口部の各々が前記複数のコンダクタの少なくとも1つに電気的に結合される、請求項22に記載の方法。
  24. 前記電気ディスプレイ部品が、(a)前記可撓性ディスプレイ装置の行電極、(b)前記可撓性ディスプレイ装置の列電極、及び(c)第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された集積回路のうちの少なくとも1つを備える請求項23に記載の方法。
  25. 前記導電層が、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項22に記載の方法。
  26. 可撓性ディスプレイ装置を製造する方法であって、
    可撓性ディスプレイ装置の一部を形成する可撓性基板の上面に開口部を形成する工程であって、前記可撓性基板が前記上面の下方に配設された複数のコンダクタを有し、前記開口部が前記複数のコンダクタの少なくとも一部を露出させる、前記工程、
    前記複数のコンダクタの少なくとも一部に対する電気接触部を形成する導電性材料で前記開口部を充填する工程であって、前記導電性材料が更に前記上面にある電気ディスプレイ部品に対する電気接触部を形成する、前記工程、
    を含む、前記方法。
  27. 前記電気ディスプレイ部品が、(a)前記可撓性ディスプレイ装置の行電極、(b)前記可撓性ディスプレイ装置の列電極、及び(c)第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された集積回路のうちの少なくとも1つを備える請求項26に記載の方法。
  28. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項27に記載の方法。
  29. 可撓性RFID装置を製造する方法であって、
    可撓性RFID装置の一部を形成する可撓性基板の上面に開口部を形成する工程であって、前記可撓性基板が導電性領域を含む底面を有し、前記開口部が前記導電性領域の少なくとも一部を露出させる、前記工程、
    前記導電性領域の少なくとも一部に対する電気接触部を形成する導電性材料で前記開口部を充填する工程であって、前記導電性材料が更に前記上面にある電気部品に対する電気接触部を形成する、前記工程、
    を含む、前記方法。
  30. 前記導電性領域をパターン加工する工程を更に含み、前記パターン加工が該導電性領域から複数のコンダクタを形成し、前記開口部の各々が前記複数のコンダクタの少なくとも1つに電気的に結合される、請求項29に記載の方法。
  31. 前記電気部品が、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路を備える請求項30に記載の方法。
  32. 前記導電性領域が前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項29に記載の方法。
  33. 可撓性RFID装置を製造する方法であって、
    可撓性電子装置の一部を形成する可撓性基板の上面に開口部を形成する工程であって、前記可撓性基板が前記上面の下方に配設された複数のコンダクタを有し、前記開口部が前記導電層の少なくとも一部を露出させる、前記工程、
    前記複数のコンダクタの少なくとも一部に対する電気接触部を形成する導電性材料で前記開口部を充填する工程であって、前記導電性材料が更に前記上面にある電気部品に対する電気接触部を形成する、前記工程、
    を含む、前記方法。
  34. 前記電気部品が、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路を備える請求項33に記載の方法。
  35. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項33に記載の方法。
  36. 可撓性電子装置を製造する方法であって、
    可撓性電子装置の一部を形成する可撓性基板の上面に開口部を形成する工程であって、前記可撓性基板が導電性領域を含む底面を有し、前記開口部が前記導電性領域の少なくとも一部を露出させる、前記工程、
    前記導電性領域の少なくとも一部に対する電気接触部を形成する導電性材料で前記開口部を充填する工程であって、前記導電性材料が更に前記上面にある電気部品に対する電気接触部を形成する、前記工程、
    を含む、前記方法。
  37. 前記導電性領域が、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項36に記載の方法。
  38. 前記導電性領域をパターン加工する工程を更に含み、前記パターン加工が該導電性領域から複数のコンダクタを形成し、前記開口部の各々が前記複数のコンダクタの少なくとも1つに電気的に結合される、請求項36に記載の方法。
  39. 前記電気部品が、(a)第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された集積回路、及び(b)受動電子部品のうちの少なくとも1つを備える請求項36に記載の方法。
  40. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項38に記載の方法。
  41. 可撓性電子装置を製造する方法であって、
    可撓性電子装置の一部を形成する可撓性基板の上面に開口部を形成する工程であって、前記可撓性基板が前記上面の下方に配設された複数のコンダクタを有し、前記開口部が前記複数のコンダクタの少なくとも一部を露出させる、前記工程、
    前記複数のコンダクタの少なくとも一部に対する電気接触部を形成する導電性材料で前記開口部を充填する工程であって、前記導電性材料が更に前記上面にある電気部品に対する電気接触部を形成する、前記工程、
    を含む、前記方法。
  42. 前記電気部品が、少なくとも1つの受動電子部品と、第1の剛性基板に製造され、前記可撓性基板の或る領域上に付着された少なくとも1つの集積回路とを備える請求項41に記載の方法。
  43. 前記複数のコンダクタが、前記可撓性基板の厚さの少なくとも10%を構成する請求項41に記載の方法。
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