JP2005512960A - ピロロ[3,4−c]ピロールの直接製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)適切なモル比のジスクシナートを、式(II):
(b)工程(a)で得られた中間体の縮合生成物を、水又は水と水混和性溶媒との混合物中で、場合により無機酸の存在下でコンディショニングして、式(I)の化合物を生成すること、及び
(c)場合により、工程(b)で得られた生成物を、非プロトン性溶媒中でコンディショニングすること
を含むことを特徴とする方法であって、式(IV):
R5及びR6は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル又はC6-10−アリールであり、
R7は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールであり、
R9は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル、C7-10−アラルキル、C6-10−アリール又はNR10R11であり、ここで
R10及びR11は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールである]により解決されている。式(IV)のニトリルは、式(II)及び(III)のニトリルとは異なり、そして式(I)のDPP化合物は、式(VI)のDPP化合物とは異なる。
R31、R32及びR33は、相互に独立に、水素、カルバモイル、C2-18−アルキルカルバモイル、C2-18−アルコキシカルボニル、C2-18−アルカノイルアミノ、ハロゲン、C1−C24アルキル、C1−C6アルコキシ、C1−C18アルキルチオ、C1−C18アルキルアミノ、ジ(C1−C18アルキル)アミノ、−CN、−NO2、フェニル、トリフルオロメチル、C5−C6シクロアルキル、−C=N−(C1−C24アルキル)、下記式:
T2は、−C(O)−NH−、−C(O)−O−、−NH−C(O)−、特に−CH2−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−CH=N−、−N=N−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−又は−NR38−であり、
R34及びR35は、相互に独立に、水素、ハロゲン、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ又は−CNであり、R36及びR37は、相互に独立に、水素、ハロゲン又はC1-6−アルキルであり、そしてR38は、水素又はC1−C6アルキルである]で示される基である、式(I)のピロロ[3,4−c]ピロールが好ましく、そして
R1及びR2が、相互に独立に、式(Ib):
式(I)のDPPの合成は、0.1〜20.0%、好ましくは0.5〜5.0%の式(IV)のベンゾニトリル誘導体の存在下で行われるが、ここで、ベンゾニトリル誘導体は、合成の開始時に加えられる。即ち、式(IV)のニトリルは、例えば、式(II)及び(III)のニトリル並びに塩基と一緒に反応容器に充填され、次にジスクシナートが加えられるか、又は式(IV)のニトリルは、ジスクシナート及びニトリルと同時に塩基に加えられる。
式(I)のDPPの合成は、0.1〜20.0%、好ましくは0.25〜2.0%の式(V)又は(VI)のDPP誘導体の存在下で行われるが、ここで、DPP誘導体は、好ましくはDPP合成の開始時又は終了時に、コンディショニングの直前に加えられる。コンディショニングは、0.0〜100.0%、好ましくは20.0〜50.0%の水混和性溶媒を含む水中で、1℃〜還流温度、好ましくは還流温度に近いコンディショニング温度で行われる。
式(I)のDPPの合成は、0.1〜20.0%、好ましくは0.5〜5.0%の式(IV)のニトリルの存在下で行われるが、ここで、ニトリルは、好ましくは合成の開始時に加えられる。
式(I)のDPPの合成は、0.1〜20.0%、好ましくは0.25〜2.0%の式(V)又は(VI)のDPP誘導体の存在下で行われるが、ここで、式(V)又は(VI)のDPP誘導体は、DPP合成の開始時又は終了時に、最初のコンディショニングの直前に加えられる。
式(I)のDPPの合成は、式(IVa)、(IVb)、(IVc)、(V)又は(VI)の結晶成長誘導剤の添加なしに行われる。
R5及びR6は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル又はC6-10−アリールであり、
R7は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル又はC6-10−アリールであり、
R9は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル、C6-10−アリール又はNR10R11であり、ここで、
R10及びR11は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル又はC6-10−アリールであり、ここで
R15及びR16は、好ましくは相互に異なる]で示されるDPPは、プロセスA−2、B−2及びCにおける結晶成長調節剤として特に好ましい。R15が、水素、4−フェニル、3−又は4−クロロ、3−又は4−メチル、4−tert−ブチル、3−又は4−シアノであり、そしてここでR16が、o−、m−又はp−C1-10−アルコキシ(特にo−、m−又はp−C1-4−アルコキシ)、シアノ(特にm−CN)、o−又はm−クロロである、式(VI)のDPPは、特に好ましい(ここで、R15及びR16は、相互に異なる)。
a)式(I)の1,4−ジケトピロロ[3,4−c]ピロール;及び
b)結晶成長誘導有効量の式(IVa)、(IVb)及び/若しくは(IVc)又は(V)又は(VI)の化合物
を含むことを特徴とする顔料組成物に関する。
比較実施例1(EP-A-640,603)
ガラススターラー、温度計、窒素注入管、バブルカウンター及び添加ロートを取り付けた200ml四つ口丸底フラスコに、t−アミルアルコール60.0g及び固体ナトリウム5.24gを注ぎ入れた。この混合物を130℃(外部温度)まで加熱して、三塩化鉄(III)少量を加えた。固体ナトリウムが完全に消失したら、4−クロロベンゾニトリル15.21g、ジイソプロピルスクシンイミド14.27g及びt−アミルアルコール42.70gの混合物を2時間以内に加えた。温度を85℃(内部温度)まで下げて、反応混合物を2時間撹拌した。温度を40℃まで下げて、反応混合物を、脱塩水300mlとメタノール300mlとの混合物を含む次の反応器に40℃で15分以内に移した。温度を還流温度(78℃)に設定して、顔料を18時間コンディショニングした。濾過及び真空下オーブン中での乾燥後、鮮紅色の顔料16.03g(83%)を得た(比較実施例(CC−1)のC.I.ピグメント レッド254)。
ガラススターラー、温度計、窒素注入管、バブルカウンター、添加ロート及び還流冷却器を取り付けた1500ml四つ口丸底反応器に、トルエン800ml、前もって脱塩水350mlに溶解した水酸化ナトリウム14.1g、臭化テトラエチルアンモニウム3.5g及び4−ヒドロキシベンゾニトリル40.0gを注ぎ入れた。激しく撹拌しながら、2−ブロモプロパン82.7gを5分以内に加えた。このエマルションを18時間、加熱還流した。有機相を分離して、1mol/lのNaOH溶液300ml及び飽和NaCl溶液300mlで抽出した。溶媒を留去した。この不純な固体をヘキサン110ml中で再結晶した。収量:28.3g(52.3%)純粋な4−イソプロポキシベンゾニトリル。
ガラススターラー、温度計、窒素注入管、還流冷却器、バブルカウンター及び二重壁添加ロートを取り付けた750ml四つ口丸底反応器に、t−アミルアルコール100.0g及び固体ナトリウム3.43gを注ぎ入れた。この混合物を130℃(外部温度)まで加熱して、三塩化鉄(III)少量を加えた。金属ナトリウムが完全に消失したら、下記式:
ガラススターラー、温度計、窒素注入管、還流冷却器、バブルカウンター及び二重壁添加ロートを取り付けた250ml四つ口丸底反応器に、t−アミルアルコール60.0g及び固体ナトリウム5.24gを注ぎ入れた。この混合物を130℃(外部温度)まで加熱して、三塩化鉄(III)少量を加えた。金属ナトリウムが完全に消失したら、4−クロロベンゾニトリル14.63g、ジイソプロピルスクシンイミド10.72g及びt−アミルアルコール32.7gの混合物を2時間以内に加えた。温度を85℃(内部)まで下げて、反応混合物を更に2時間撹拌した。温度を40℃まで下げて、反応混合物を、脱塩水300ml、メタノール300ml及び硫酸120mlの混合物を含む次の反応器に40℃で15分以内に移した。顔料を40℃で18時間コンディショニングした。濾過及び乾燥後、暗赤色の顔料粉末16.5g(85%)を得た。
ガラススターラー、温度計、窒素注入管、還流冷却器、バブルカウンター及び二重壁添加ロートを取り付けた250ml四つ口丸底反応器に、t−アミルアルコール150.0g及び固体ナトリウム5.15gを注ぎ入れた。この混合物を130℃(外部温度)まで加熱して、三塩化鉄(III)少量を加えた。金属ナトリウムが完全に消失したら、4−クロロベンゾニトリル15.17g、3−メトキシベンゾニトリル0.50g、ジイソプロピルスクシンイミド16.92g及びt−アミルアルコール30.0mlの混合物を2時間以内に加えた。温度を85℃(内部)まで下げて、反応混合物を更に2時間撹拌した。温度を40℃まで下げて、反応混合物を、脱塩水300ml、メタノール300ml及び硫酸120mlの混合物を含む次の反応器に40℃で30分以内に移した。顔料を40℃で18時間コンディショニングした。濾過及び乾燥後、赤色の顔料粉末15.20g(77%)を得た。顔料粉末15.0gをジメチルアセトアミド300ml中に注ぎ入れ、更に140℃で5時間コンディショニングした。濾過、洗浄及び乾燥後、鮮紅色の顔料14.20g(総収率72%)を得たが、これの色及び堅牢度は実施例3の顔料に非常に近かった。
3−(4−クロロフェニル)−6−(3−メトキシフェニル)ピロロ[3,4−c]ピロール0.15gの代わりに、下記式:
3−(4−クロロフェニル)−6−(3−メトキシフェニル)ピロロ[3,4−c]ピロール0.15gの代わりに、下記式:
3−メトキシベンゾニトリルを4−イソプロポキシベンゾニトリルにより置換したことを除いて、実施例4を繰り返した。鮮紅色の顔料を得たが、これは比較実施例に比較して、マストーンで、高い不透明度と共に、より純粋で、鮮やかかつ濃い黄色の色調を示した。白色減衰物(5:95)では、顔料はCC−1よりも高い色強度を示し、そして耐候安定性(2000時間 WOM)はCC−1に匹敵した。X線回折スペクトルは、CC−1と同様であった。ジョイス・レーブル測定では、CC−1よりも狭い粒度分布を示した。
ジメチルアセトアミドをジメチルホルムアミドにより置換したことを除いて、実施例7を繰り返した。鮮紅色の顔料を得たが、これは比較実施例に比較して、マストーンで、わずかに高い不透明度と共に、より純粋で、鮮やかかつ濃い黄色の色調を示した。白色減衰物(5:95)では、顔料はCC−1よりもかなり高い色強度を示し、そして耐候安定性(2000時間 WOM)はCC−1に匹敵した。X線回折スペクトルは、CC−1と同様であったが、広いピーク幅が平均粒度の小ささを示した。ジョイス・レーブル測定では、CC−1よりも明らかに狭い粒度分布を示した。
コンディショニングを水/メタノール(1:1)中で還流温度(78℃)で18時間で実現したことを除いて、実施例4を繰り返した。赤橙色の顔料粉末を得たが、これは比較実施例に比較して、かなり濃い黄色の色調を示した。不透明度は、CC−1よりもわずかに低かった。白色減衰物(95:5)では、色強度はCC−1よりもかなり強かった。X線回折スペクトルは、CC−1と同様であったが、広いピーク幅が平均粒度の小ささを示した。
非処理顔料4.0gを、後述のように製造したAMペンキ46.0gに加えた。顔料濃度8%のこのペンキを、ガラスビーズ(直径2mm)200gによりスカンデックス(Skandex)中で1時間分散させた。この分散ペンキをマイラー(Mylar)シート上に垂らして伸ばし(100μm)、そしてガラス板上で流し出した。10分後、マイラーシート及びガラス板を130℃で熱風炉中で30分間乾燥させた。マイラーシートの以下の色の性質を、データカラー(Datacolor)3890比色計を用いて測定した:明度L*、色度C*、色相h及び不透明度(黒色に対するΔTrとして)。コントラスト紙はきれいで新しい標準的なレネタ(Leneta)とした。顔料5部と白色顔料95部を含む白色減衰物は、以下のとおり製造した:前もって製造したマストーンペンキ3.27gを、白色AMペンキ(以下の説明)26.73gに加え、簡単なガラススターラーで混合することにより、白色減衰物30gを得たが、これをマイラーシート上に垂らして伸ばした(100μm)。マイラーシートから、色強度を評価した。
マストーン:
60.00重量部 バイエル・アルキダール(Bayer Alkydal)F310
(溶媒のナフトール中60%)
16.00重量部 サイテック・サイメル(Cytec Cymel)327
(イソブタノール中90%)
19.00重量部 キシロール
2.00重量部 ブタノール
2.00重量部 1−メトキシ−2−プロパノール
1.00重量部 シリコーン油A(キシロール中1%)
20.00重量部 二酸化チタン クロノス(Kronos)2310
47.67重量部 バイエル・アルキダールF310(溶媒のナフトール中60%)
12.75重量部 サイテック・サイメル327(ブタノール中90%)
0.50重量部 エーロシル(Aerosil)200
1.59重量部 1−メトキシ−2−プロパノール
1.59重量部 ブタノール
15.10重量部 キシロール
0.80重量部 シリコーン油A(キシロール中1%)
Claims (15)
- 式(I):
[式中、R1及びR2は、相互に独立に、非置換又は置換の同素環又は複素環芳香族基である]で示される1,4−ジケトピロロ[3,4−c]ピロールの直接製造方法であって、
(a)適切なモル比のジスクシナートを、式(II):
若しくは式(III):
で示されるニトリルと一緒に、又は該ニトリルの混合物と一緒に、有機溶媒中で、かつ強塩基の存在下で加熱して、中間体の縮合生成物を生成すること、
(b)工程(a)で得られた中間体の縮合生成物を、水又は水と水混和性溶媒との混合物中で、場合により無機酸の存在下でコンディショニングして、式(I)の化合物を生成すること、及び
(c)場合により、工程(b)で得られた生成物を、非プロトン性溶媒中でコンディショニングすること
を含むことを特徴とする方法であり、
式(IV):
[式中、R40、R41及びR42は、相互に独立に、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C1-10−アルコキシ若しくはC1-10−チオアルキル、C5-10−シクロアルキル、C6-10−アリールオキシ、C6-10−アリールチオ、C7-10−アラルキルオキシ、C7-10−アラルキルチオ、ハロゲン、CN、CONR5R6、C(O)OR7又はSO2R9である]で示されるニトリル化合物を、合成の開始時に加えること[ここで、式(IVa)、(IVb)及び/又は(IVc):
(式中、R1、R2、R40、R41及びR42は、上記と同義である)で示される、粒子成長調節剤が得られる]、あるいは
粒子成長調節剤を、加熱工程(a)、コンディショニング工程(b)又は(c)で加えること[ここで、該粒子成長調節剤は、式(V):
(式中、Xは、O、S又はNR14(ここで、R14は、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールである)であり;R12及びR13は、相互に独立に、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C1-10−アルコキシ若しくはC1-10−チオアルキル、C5-10−シクロアルキル、C6-10−アリールオキシ、C6-10−アリールチオ、C7-10−アラルキルオキシ、C7-10−アラルキルチオ、ハロゲン、CN、CONR5R6、C(O)OR7又はSO2R9である)で示される化合物であるか、又は
式(VI):
(式中、R15及びR16は、相互に独立に、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C1-10−アルコキシ若しくはC1-10−チオアルキル、C5-10−シクロアルキル、C6-10−アリールオキシ、C6-10−アリールチオ、C7-10−アラルキルオキシ、C7-10−アラルキルチオ、ハロゲン、CN、CONR5R6、C(O)OR7又はSO2R9である(ここで、
R5及びR6は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル又はC6-10−アリールであり、
R7は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールであり、
R9は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル、C7-10−アラルキル、C6-10−アリール又はNR10R11であり、ここで
R10及びR11は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールである)で示される化合物である]を特徴とする方法。 - 0.1〜20.0%、好ましくは0.5〜5.0%の式(IV)のニトリル化合物が、工程(a)の開始時に加えられる、請求項1記載の方法。
- 0.1〜20.0%、好ましくは0.25〜2.0%の式(V)又は(VI)のDPP化合物が、工程(a)の開始時又は終了時に加えられる、請求項1記載の方法。
- 工程(a)の生成物が、0〜100%、好ましくは20.0〜50.0%の水混和性溶媒を含む水中でコンディショニングされる(ここで、水混和性溶媒は、アルコール、ポリオール、ニトリル、有機酸、アミド、エステル、エーテル、ケトン、アミン又はこれらの溶媒の混合物から選択される)、請求項2又は3記載の方法。
- コンディショニング工程(b)が、1〜99%、好ましくは5.0〜20.0%の無機酸(塩酸、硫酸又はリン酸など)の存在下で行われる、請求項4記載の方法。
- コンディショニング工程(b)で得られる生成物が、次に、0〜99%の水の存在下の非プロトン性水混和性溶媒(N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドなど)中で、又は高沸点を持つ非混和性溶媒中でコンディショニングされる、請求項5記載の方法。
- 工程(a)の生成物が、0〜100%、好ましくは20.0〜50.0%の水混和性溶媒を含む水中でコンディショニングされる(ここで、水混和性溶媒は、アルコール、ポリオール、ニトリル、有機酸、アミド、エステル、エーテル、ケトン、アミン又はこれらの溶媒の混合物から選択される)、請求項1記載の方法。
- コンディショニング工程(b)が、1〜99%、好ましくは5.0〜20.0%の無機酸(塩酸、硫酸又はリン酸など)の存在下で行われる、請求項7記載の方法。
- コンディショニング工程(b)で得られる生成物が、次に、0〜99%の水の存在下の非プロトン性水混和性溶媒(N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなど)、又は高沸点を持つ非混和性溶媒、及び0.1〜20.0%、好ましくは0.25〜2.0%の式(V)又は(VI)のDPP化合物中でコンディショニングされる、請求項8記載の方法。
- 式(II)又は式(III)のニトリルが、式(Ia):
[式中、R20、R21及びR22は、相互に独立に、水素、フッ素、塩素、臭素、カルバモイル、シアノ、トリフルオロメチル、C2-10−アルキルカルバモイル、C1-10−アルキル、C1-10−アルコキシ、C1-10−アルキルメルカプト、C2-10−アルコキシカルボニル、C2-10−アルカノイルアミノ、C1-10−モノアルキルアミノ、C1-20−ジアルキルアミノ、フェニル若しくはフェノキシ、フェニルメルカプト、フェノキシカルボニル、フェニルカルバモイル又はベンゾイルアミノであり、それぞれ非置換であるか、又はハロゲン、C1-4−アルキル若しくはC1-4−アルコキシにより置換されている(ただし、R20、R21及びR22の少なくとも1つは、水素である)]で示される、請求項1〜10のいずれか1項記載の方法。 - 請求項1〜10のいずれか1項の方法により得られる、式(I)の1,4−ジケトピロロ[3,4−c]ピロール。
- a)請求項1記載の式(I)の1,4−ジケトピロロ[3,4−c]ピロール;及び
b)結晶成長誘導有効量の式(IVa)、(IVb)及び/若しくは(IVc)又は(V)又は(VI)の化合物
を含むことを特徴とする、顔料組成物。 - 請求項11記載の1,4−ジケトピロロ[3,4−c]ピロール又は請求項12記載の顔料組成物で着色された、高分子量有機材料。
- 結晶成長調節剤としての式(IVa)、(IVb)及び/若しくは(IVc)又は(V)又は(VI)の化合物の使用。
- 式(V):
[式中、Xは、O又はS(ここで、R14は、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールである)であり;R12及びR13は、相互に独立に、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C1-10−アルコキシ若しくはC1-10−チオアルキル、C5-10−シクロアルキル、C6-10−アリールオキシ、C6-10−アリールチオ、C7-10−アラルキルオキシ、C7-10−アラルキルチオ、ハロゲン、CN、CONR5R6、C(O)OR7又はSO2R9である(ここで、R5及びR6は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル又はC6-10−アリールであり、R7は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル又はC6-10−アリールであり、R9は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C5-10−シクロアルキル、C7-10−アラルキル、C6-10−アリール又はNR10R11であり、ここでR10及びR11は、水素、直鎖若しくは分岐のC1-10−アルキル、C7-10−アラルキル又はC6-10−アリールである)]で示される、DPP誘導体(ただし、3,5,6−トリフェニル−1H−フロ[3,4−c]ピロール−1,4−(5H)−ジオンは除外される)。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005508903A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-04-07 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ジケトピロロピロールの調製方法 |
JP2007514798A (ja) * | 2003-10-23 | 2007-06-07 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 熱安定性ジケトピロロピロール顔料混合物 |
JP2009221266A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 顔料微粒子の製造方法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1399514B1 (en) * | 2001-06-29 | 2012-01-11 | Basf Se | Fluorescent diketopyrrolopyrroles |
AU2004255863A1 (en) * | 2003-07-07 | 2005-01-20 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the preparation of furopyrroles |
JP4986451B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2012-07-25 | 信一郎 礒部 | マーキング剤 |
US7837784B2 (en) | 2006-07-20 | 2010-11-23 | Dic Corporation | High-chroma C.I. Pigment Red 254 and process for producing the same |
US20100203637A1 (en) * | 2006-09-06 | 2010-08-12 | Elena Korchagina | Fluorescent cell markers |
DE102007011068A1 (de) * | 2007-03-07 | 2008-09-11 | Clariant International Ltd. | Verfahren zur direkten Herstellung feinteiliger Diketopyrrolopyrrolpigmente |
JP5268410B2 (ja) * | 2008-04-11 | 2013-08-21 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、顔料分散組成物の製造方法、着色重合性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
EP3456756A3 (en) | 2008-10-31 | 2019-05-01 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic field effect transistors |
JP5675787B2 (ja) | 2009-05-27 | 2015-02-25 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 有機半導体装置で使用するためのジケトピロロピロールポリマー |
JP5629067B2 (ja) * | 2009-08-18 | 2014-11-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料微粒子分散体、これを用いたカラーフィルタ、及び顔料微粒子分散体の製造方法、並びに顔料誘導体化合物 |
WO2011054731A1 (en) | 2009-11-05 | 2011-05-12 | Basf Se | Fluorescent materials |
KR101222552B1 (ko) * | 2010-03-25 | 2013-01-16 | 경북대학교 산학협력단 | 컬러필터용 고내열성 dpp계 염료 및 그 제조방법 |
CN101831197A (zh) * | 2010-05-17 | 2010-09-15 | 南通市争妍颜料化工有限公司 | 颜料红254的高遮盖力品种hl的生产工艺 |
EP2571919B1 (en) | 2010-05-19 | 2018-07-11 | Basf Se | Diketopyrrolopyrrole polymers for use in organic semiconductor devices |
WO2012017005A2 (en) | 2010-08-05 | 2012-02-09 | Basf Se | Polymers based on benzodiones |
GB201200184D0 (en) * | 2012-01-06 | 2012-02-22 | Johnson Matthey Plc | Tracers and method of marking liquids |
CN103012409B (zh) * | 2012-12-07 | 2015-05-27 | 辽宁鸿港化工有限公司 | 制备吡咯并吡咯-1,4-二酮衍生物的改进方法 |
WO2014181763A1 (ja) * | 2013-05-07 | 2014-11-13 | 山本化成株式会社 | 感熱発色性組成物及び該組成物を用いてなる感熱記録材料 |
CN110791117A (zh) * | 2018-08-01 | 2020-02-14 | 浙江浩川科技有限公司 | 一种芳香亚胺基取代的dpp类有机颜料及合成方法和用途 |
CN110791116A (zh) * | 2018-08-01 | 2020-02-14 | 浙江浩川科技有限公司 | 一种含碳碳双键的dpp类有机颜料及合成方法和用途 |
CN110693754B (zh) * | 2019-11-16 | 2022-08-23 | 烟台东方化学有限公司 | 一种抗菌消炎的吡啶酮组合物及包含其的化妆品 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58210084A (ja) * | 1982-05-17 | 1983-12-07 | チバ−ガイギ−・アクチエンゲゼルシヤフト | ピロロ〔3,4−c〕ピロ−ルの製法 |
JPS6035056A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-02-22 | チバーガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | 新規な1.4―ジケトピロロ―〔3,4―c〕―ピロール及びそれを含有する高分子有機材料の為の着色剤 |
WO1996008537A1 (en) * | 1994-09-14 | 1996-03-21 | Ciba-Geigy Ag | Process for producing n-methylated organic pigments |
JPH09323992A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-12-16 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 重合可能なジケトピロロピロールおよびそれから製造された重合体 |
US5738719A (en) * | 1995-06-15 | 1998-04-14 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Pigment compositions of diketopyrrolopyrroles |
JPH10316876A (ja) * | 1997-05-06 | 1998-12-02 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 新規なジケトピロロピロール組成物 |
JP2000007677A (ja) * | 1998-06-02 | 2000-01-11 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | ピロロ〔3,4―c〕ピロ―ルの直接製造 |
JP2001139940A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-05-22 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | ジケトピロロピロール類を含むエレクトロルミネセンス素子 |
JP2001207075A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-07-31 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 三元顔料組成物 |
JP2005508903A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-04-07 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ジケトピロロピロールの調製方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0094911B1 (de) * | 1982-05-17 | 1986-09-10 | Ciba-Geigy Ag | Herstellung von Pyrrolo-(3,4-c)-pyrrolen |
US4783540A (en) * | 1986-08-07 | 1988-11-08 | Ciba-Geigy Corporation | Solid solutions of pyrrolo-(3,4-C)-pyrrols |
DE3713459A1 (de) * | 1987-02-05 | 1988-08-18 | Langhals Heinz | Lichtechte, leichtloesliche diketopyrrolopyrrol-fluoreszenzfarbstoffe |
WO1990001480A1 (de) * | 1988-07-29 | 1990-02-22 | Riedel-De Haen Aktiengesellschaft | Optische datenspeicher |
EP0511165B1 (de) * | 1991-04-26 | 1996-08-14 | Ciba-Geigy Ag | Neue Diketopyrrolopyrrolverbindungen |
US5424157A (en) * | 1992-12-01 | 1995-06-13 | Mita Industrial Co., Ltd. | Electrophotosensitive material containing disazo compound as charge-generating agent |
TW372244B (en) * | 1993-07-29 | 1999-10-21 | Ciba Sc Holding Ag | Process for producing novel finely divided highly transparent diketopyrrolopyrrole pigments |
JP2999669B2 (ja) | 1993-08-24 | 2000-01-17 | 株式会社三和化学研究所 | ベンゾ[b]フランカルボキサミド誘導体、その製法及び用途 |
EP0690059B1 (de) * | 1994-06-29 | 1999-09-08 | Ciba SC Holding AG | Zwei neue Kristallmodifikationen eines Diketopyrrolopyrrolpigments |
JP3704748B2 (ja) * | 1995-06-23 | 2005-10-12 | 東洋インキ製造株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子用電子輸送材料およびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 |
EP1087006B1 (en) | 1999-09-27 | 2003-10-15 | Ciba SC Holding AG | Electroluminescent devices comprising diketopyrrolopyrroles |
EP1087005B1 (en) | 1999-09-27 | 2004-02-25 | Ciba SC Holding AG | Fluorescent diketopyrrolopyrroles |
JP4785222B2 (ja) * | 2000-02-09 | 2011-10-05 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用顔料およびその製造方法、それを用いたカラーフィルタ用着色組成物ならびにカラーフィルタ |
DE10028104A1 (de) * | 2000-06-07 | 2001-12-13 | Clariant Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Diketopyrrologyrrol-Pigmenten |
JP2003059670A (ja) * | 2001-06-08 | 2003-02-28 | Toray Ind Inc | 発光素子 |
US7041235B2 (en) | 2001-08-10 | 2006-05-09 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Fluorescent diketopyrrolopyrrole analogues |
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58210084A (ja) * | 1982-05-17 | 1983-12-07 | チバ−ガイギ−・アクチエンゲゼルシヤフト | ピロロ〔3,4−c〕ピロ−ルの製法 |
JPS6035056A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-02-22 | チバーガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | 新規な1.4―ジケトピロロ―〔3,4―c〕―ピロール及びそれを含有する高分子有機材料の為の着色剤 |
WO1996008537A1 (en) * | 1994-09-14 | 1996-03-21 | Ciba-Geigy Ag | Process for producing n-methylated organic pigments |
US5738719A (en) * | 1995-06-15 | 1998-04-14 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Pigment compositions of diketopyrrolopyrroles |
JPH09323992A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-12-16 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 重合可能なジケトピロロピロールおよびそれから製造された重合体 |
JPH10316876A (ja) * | 1997-05-06 | 1998-12-02 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 新規なジケトピロロピロール組成物 |
JP2000007677A (ja) * | 1998-06-02 | 2000-01-11 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | ピロロ〔3,4―c〕ピロ―ルの直接製造 |
JP2001139940A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-05-22 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | ジケトピロロピロール類を含むエレクトロルミネセンス素子 |
JP2001207075A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-07-31 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 三元顔料組成物 |
JP2005508903A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-04-07 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ジケトピロロピロールの調製方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005508903A (ja) * | 2001-09-11 | 2005-04-07 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ジケトピロロピロールの調製方法 |
JP4707951B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2011-06-22 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | ジケトピロロピロールの調製方法 |
JP2007514798A (ja) * | 2003-10-23 | 2007-06-07 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 熱安定性ジケトピロロピロール顔料混合物 |
JP2009221266A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | 顔料微粒子の製造方法 |
Also Published As
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---|---|---|
JP5345975B2 (ja) | ピロロ[3,4−c]ピロールの直接製造方法 | |
EP0962499B2 (en) | Direct preparation of pigmentary pyrrolo-(3,4-C)pyrroles | |
KR101773621B1 (ko) | 유기 흑색 안료 및 이의 제조 방법 | |
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