JP2005307227A - スズ−銅合金めっき液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】硫酸第一スズ、硫酸銅(II)、硫酸、塩化物、芳香族カルボニル化合
物及び界面活性剤を有効成分として含有する水溶液からなるスズ−銅合金めっき液。
【選択図】なし
Description
1. 硫酸第一スズ、硫酸銅(II)、硫酸、塩化物、芳香族カルボニル化合物及び
界面活性剤を有効成分として含有する水溶液からなるスズ−銅合金めっき液。
2. 硫酸第一スズを5〜100g/l、硫酸銅(II)を5水和物の濃度として0.1
〜5g/l、硫酸を98%硫酸濃度として50〜250g/l、塩化物を0.01〜1g/l、芳香族カルボニル化合物を0.01〜1g/l及び界面活性剤を1〜50g/l含有する水溶液からなるスズ−銅合金めっき液。
3. 塩化物が、塩酸、アルカリ金属の塩化物及びアルカリ土類金属の塩化物からなる群から選択された少なくとも一種である上記項1又は2に記載のスズ−銅合金めっき液。
4. 上記項1〜3のいずれかに記載されたスズ−銅合金めっき液中で、被めっき物を陰極として電解することを特徴とするスズ−銅合金めっき方法。
5. 上記項4に記載の方法によってスズ−銅合金めっき皮膜が形成された物品
本発明のスズ−銅合金めっき液は、硫酸第一スズ、硫酸銅(II)、硫酸、塩化物
、芳香族カルボニル化合物及び界面活性剤を有効成分として含有する水溶液からなるものである。
ホン酸と有機スルホン酸塩を用いた、いわゆる有機スルホン酸浴と比較して、非常に安価なめっき液である。
皮膜の合金組成に応じて決めれば良く、通常、硫酸銅(II)の5水和物の濃度として、
0.1〜5g/l程度の範囲とすることが好ましく、0.3〜3g/l程度の範囲とすることがより好ましい。硫酸第一スズの濃度を上記した範囲とし、硫酸銅(II)の濃度
をこの様な範囲とすることによって、スズ−銅合金めっき皮膜における銅の重量割合を0.5〜5重量%程度の範囲とすることができる。
設定でき、通常、めっき液中の硫酸銅(II)の割合を多くすることによって、合金
中の銅の比率を高くすることができる。特に、リフロー用のスズ−銅合金皮膜とする場合には、めっき皮膜中の銅の含有量が低すぎても高すぎても融点の上昇につながるため、めっき皮膜中の銅の含有率を0.5〜5重量%程度とすることが好ましい。
下記組成のスズ−銅めっき液を調製した。
硫酸第一スズ 50g/l
濃硫酸 150g/l
硫酸銅(II)・5水和物 2g/l
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル 10g/l
ナフトアルデヒド 0.1g/l
35%塩酸 0.1g/l(塩酸として)
実施例2
下記組成のスズ−銅めっき液を調製した。
硫酸第一スズ 50g/l
濃硫酸 150g/l
硫酸銅(II)・5水和物 1g/l
ポリオキシエチレンナフトールエーテル 5g/l
ベンザルアセトン 0.1g/l
塩化カリウム 0.4g/l
比較例1及び2
塩化物を含有すること無く、それ以外は、実施例1で調製しためっき液と同様の組成のスズ−銅めっき液(比較例1)と実施例2で調製しためっき液と同様の組成のスズ−銅めっき液(比較例2)を調製した。
上記した実施例1、2および比較例1、2の各めっき液を用いて形成されためっき皮膜について、下記の方法で各種特性を評価した。結果を下記表1に示す。
圧延銅板(1cm×1cm)を被めっき物として、液温20℃、陰極電流密度2A/dm2で膜厚5μmとなるようにスズ−銅めっき皮膜を形成した試料について目視による外観の評価を行った。
ステンレス板(10cm×5cm)を被めっき物として、液温20℃、陰極電流密度3A/dm2で膜厚60μmとなるようにスズ−銅めっき皮膜形成した後、皮膜を剥離し、炭素硫黄分析装置(堀場製作所製)によりめっき皮膜中の炭素量を測定した。
外観評価方法と同様にして圧延銅板に5μmのめっき皮膜を形成した試料について、ホットプレート上で230℃で1分間加熱してめっき皮膜を溶解させた。その後、室温で冷却し、めっき皮膜を固化させたものについて、目視により変色の有無を調べた。
を行った。
Claims (5)
- 硫酸第一スズ、硫酸銅(II)、硫酸、塩化物、芳香族カルボニル化
合物及び界面活性剤を有効成分として含有する水溶液からなるスズ−銅合金めっき液。 - 硫酸第一スズを5〜100g/l、硫酸銅(II)を5水和物の濃度とし
て0.1〜5g/l、硫酸を98%硫酸の濃度として50〜250g/l、塩化物を0.01〜1g/l、芳香族カルボニル化合物を0.01〜1g/l及び界面活性剤を1〜50g/l含有する水溶液からなるスズ−銅合金めっき液。 - 塩化物が、塩酸、アルカリ金属の塩化物及びアルカリ土類金属の塩化物からなる群から選択された少なくとも一種である請求項1又は2に記載のスズ−銅合金めっき液。
- 請求項1〜3のいずれかに記載されたスズ−銅合金めっき液中で、被めっき物を陰極として電解することを特徴とするスズ−銅合金めっき方法。
- 請求項4に記載の方法によってスズ−銅合金めっき皮膜が形成された物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004122110A JP4817166B2 (ja) | 2004-04-16 | 2004-04-16 | スズ−銅合金めっき液 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005307227A true JP2005307227A (ja) | 2005-11-04 |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP4817166B2 (ja) |
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