JP2005183828A - 多層基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】異なる結晶化ガラス粉末を含む第1及び第2絶縁シートをそれぞれ複数積層してなり、該第1絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末の結晶化温度が、前記第2絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末の軟化点よりも低く、且つ(a)第1スリップ及び第2スリップの作製工程、(b)第1又は/及び第2絶縁シートの形成工程、(c)前記第1又は/及び第2絶縁シートの光硬化工程、(d)前記第1又は/及び第2絶縁シートの剥離工程、(e)前記第1又は/及び第2絶縁シートの積層工程、(f)積層成形体の焼成工程を具備する。
【選択図】図1
Description
(a)少なくとも第1絶縁性無機材料及び光硬化性樹脂を含有する第1スリップと、第2絶縁性無機材料及び光硬化性樹脂を含有する第2スリップとを作製する工程
(b)支持基板上に、前記第1又は/及び第2スリップを塗布、乾燥して第1又は/及び第2絶縁シートを形成する工程
(c)前記第1又は/及び第2絶縁シートを露光し、硬化させる工程
(d)前記成形体を前記支持基板から剥離して、前記第1又は/及び第2絶縁シートを作製する工程
(e)前記(d)工程で得られた前記第1及び第2絶縁シートをそれぞれ複数積層して積層成形体を作製する工程
(f)前記積層成形体を焼成する工程
前記第1及び第2絶縁シートが異なる結晶化ガラス粉末を含み、前記第1絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末の結晶化温度が、前記第2絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末の軟化点よりも低いことを特徴とする多層基板の製造方法。
透明な支持基板上には、スリップ塗布に先立ち、あらかじめビアホール用導体、表面導体層、内部導体層、裏面導体層を導体ペーストを用いてスクリーン印刷法やオンコンタクト印刷法、インクジェット印刷法などによって被着形成することができる。
2・・・・絶縁シート1又は2
3・・・・配線導体層
4・・・・チップ部品
5・・・・ビアホール導体
Claims (11)
- 以下の(a)〜(f)の工程を具備する多層基板の製造方法において、
(a)少なくとも第1絶縁性無機材料及び光硬化性樹脂を含有する第1スリップと、第2絶縁性無機材料及び光硬化性樹脂を含有する第2スリップとを作製する工程
(b)支持基板上に、前記第1又は/及び第2スリップを塗布、乾燥して第1又は/及び第2絶縁シートを形成する工程
(c)前記第1又は/及び第2絶縁シートを露光し、硬化させる工程
(d)前記成形体を前記支持基板から剥離して、前記第1又は/及び第2絶縁シートを作製する工程
(e)前記(d)工程で得られた前記第1及び第2絶縁シートをそれぞれ複数積層して積層成形体を作製する工程
(f)前記積層成形体を焼成する工程
前記第1及び第2絶縁シートが異なる結晶化ガラス粉末を含み、前記第1絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末の結晶化温度が、前記第2絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末の軟化点よりも低いことを特徴とする多層基板の製造方法。 - 前記積層成形体における前記第1絶縁シートと前記第2絶縁シートとの間には、膜厚が20μm以上の内部導体パターンが形成されていることを特徴とする請求項1記載の多層基板の製造方法。
- 前記支持基板が透明であることを特徴とする請求項1又は2記載の多層基板の製造方法。
- 前記第1及び第2絶縁シートが、それぞれ結晶化ガラス粉末を30質量%以上含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の多層基板の製造方法。
- 前記第1及び第2絶縁シートに含まれる結晶化ガラス粉末が、ディオプサイド粉末、ハーディストナイト粉末、セルシアン粉末、コージェライト粉末、アノーサイト粉末、ガーナイト粉末、ウィレマイト粉末、スピネル粉末、ムライト粉末、フォルステライト粉末及びスーアナイト粉末のうち少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の多層基板の製造方法。
- 前記1〜4のいずれかに記載の多層基板の製造方法によって得られ、少なくとも2種の結晶化ガラスをそれぞれ含む絶縁層の積層体からなり、該絶縁層のうち第1絶縁層に含まれる結晶化ガラスの結晶化温度が、第2絶縁層に含まれる結晶化ガラスの軟化点よりも低いことを特徴とする多層基板。
- 前記第1絶縁層と前記第2絶縁層の熱膨張係数差が2×10−6/℃以下であることを特徴とする請求項6記載の多層基板。
- 前記第1絶縁層と前記第2絶縁層が、いずれも結晶化ガラスを30質量%以上含むことを特徴とする請求項6又は7記載の多層基板。
- 前記第1及び第2絶縁層の残留ガラス量が、いずれも10体積%以下であることを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の多層基板。
- 前記積層体の内部に内部導体パターンが形成されていることを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の多層基板。
- 前記第1及び第2絶縁層に含まれる結晶化ガラスが、ディオプサイド、ハーディストナイト、セルシアン、コージェライト、アノーサイト、ガーナイト、ウィレマイト、スピネル、ムライト、フォルステライト、(スーアナイト)のうち少なくとも1種であることを特徴とする請求項6〜10記載の多層基板。
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JP2007184369A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Kyocera Corp | 配線基板とその製造方法 |
JP2008085040A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Kyocera Corp | 多層基板およびその製造方法 |
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