JP2005175125A - 基板処理装置および基板処理装置の管理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 確実に作業者の安全を確保するとともに、高効率の保守作業を実現できる基板処理装置および基板処理装置の管理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置１００では、各動作部に対して様々な保守作業が行われる。装置空間５００の側面の所定位置には、扉Ｄ１〜Ｄ５が設けられ、扉Ｄ１〜Ｄ５の各々には、インターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５が設けられている。扉Ｄ１〜Ｄ５の各々の近傍には、インターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５による機能を無効に設定し、装置空間内の各動作部のうち特定の動作部の電源をオフ状態とし、その他の動作部の電源をオン状態に維持するためのインターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５が設けられている。装置空間５００の側面の所定の位置には、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５の操作によりオフ状態となった特定の動作部の電源をオン状態にするための再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３が設けられている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、基板に種々の処理を行う基板処理装置および基板処理装置の管理方法に関する。

従来より、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセスでは、生産効率を高めるために一連の処理の各々をユニット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処理装置が用いられている。

このような基板処理装置では、一般に、１枚の基板に対して複数の異なる処理が連続的に行われる。そのため、洗浄処理ユニット、露光処理ユニット等の各種処理ユニット、および処理ユニット間で基板を搬送する基板搬送ロボット等が設けられている。

また、上記基板処理装置には、例えば、処理ユニットおよび基板搬送ロボットの保守作業等を行うために、作業者が基板処理装置内部に侵入可能な扉が設けられている。

この基板処理装置においては、作業者が不用意に上記の扉を開いて基板処理装置内部に侵入した場合に、作業者が基板搬送ロボットに巻き込まれる等の危険にさらされないように、扉の開放とともに基板処理装置全体の電源を遮断するインターロック機能が設けられている。このインターロック機能は、扉に設けられたインターロックスイッチにより作動する。

しかし、扉の開放とともにインターロック機能が作動し、基板処理装置全体の電源が遮断されてしまうと、作業者は、処理ユニットおよび基板搬送ロボットの保守作業を行うことができない場合がある。保守作業の一例としては、例えば、基板搬送ロボットのティーチング（教示動作）等が挙げられる。

そこで、上記基板処理装置には、インターロック機能を一時的に解除し、扉が開放された場合でも基板処理装置全体の電源が遮断されないようにするインターロック解除スイッチが設けられている。

ところで、上記のような処理ユニットおよび基板搬送ロボットのなかには、動作することにより作業者に危険を及ぼすものと、動作していても作業者に危険を及ぼさないものとが混在している。

例えば、薬液を用いる処理ユニットにおいては、使用する薬液が人体に害を与える場合がある。また、レーザを用いる処理ユニットにおいては、そのレーザが人体に損傷を与える場合がある。さらに、基板搬送ロボットにおいては、作業者が不用意に接近すると基板搬送ロボットの動作に巻き込まれる場合がある。

このような、作業者に対する危険性のある処理ユニットまたは基板搬送ロボット等を危険源と称する。従来、このような危険源の各々に対して、安全装置が設けられてきた（例えば、特許文献１参照）。

また、従来より、上記のような危険源に対しては、作業者の安全を確保するため、各危険源についての教育を受けた担当者（危険源担当者）のみが保守作業を行うことになっている。
特開２０００−２５２３４５号公報

しかしながら、従来、危険源担当者がインターロック機能を解除して特定の危険源の保守作業を行う場合、他の危険源も動作した状態で作業することになる。したがって、従来の安全装置では、複数の危険源が同時に動作していると、確実に作業者の安全を確保できるとは限らなかった。

さらに、従来の基板処理装置では、危険源以外の処理ユニットまたは基板搬送ロボットに対して動作を伴う保守作業を行いたい場合であっても、危険源担当者以外の担当者はインターロック機能を解除することができないので、危険源担当者以外のものが保守作業を行うことができなかった。

したがって、危険源以外の処理ユニットまたは基板搬送ロボットの保守作業についても作業担当者が制限され、保守作業の低効率化が指摘されてきた。

本発明の目的は、確実に作業者の安全を確保するとともに、高効率の保守作業を実現できる基板処理装置および基板処理装置の管理方法を提供することである。

第１の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、装置空間への人の侵入を可能とする扉と、扉が開かれた場合に、複数の動作部を停止させる停止手段と、停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定するための無効設定手段と、無効設定手段により停止状態に設定された予め定められた動作部を再動作させるための動作指令手段とを備えたものである。

第１の発明に係る基板処理装置においては、扉が開かれた場合に、停止手段により複数の動作部が停止されるが、作業者が無効設定手段により停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態にすることができる。それにより、予め定められた動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、予め定められた動作部以外について保守作業を行いたい場合、予め定められた動作部が停止しているので、作業者は、予め定められた動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段により予め定められた動作部の再動作を指令すると、予め定められた動作部が再動作する。したがって、作業者は予め定められた動作部の保守作業を行うことができる。

第２の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、装置空間への人の侵入を可能とする扉と、扉が開かれた場合に、複数の動作部を停止させる停止手段と、扉の開放から所定の時間経過後に、停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定する無効設定手段と、無効設定手段により停止状態に設定された予め定められた動作部を再動作させるための動作指令手段とを備えたものである。

第２の発明に係る基板処理装置においては、扉が開かれた場合に、停止手段により複数の動作部が停止されるが、無効設定手段により扉の開放から所定の時間経過後に停止手段の動作が無効状態に設定されるとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部が停止状態に設定される。それにより、予め定められた動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、予め定められた動作部以外について保守作業を行いたい場合、予め定められた動作部が停止しているので、作業者は、予め定められた動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段により予め定められた動作部の再動作を指令すると、予め定められた動作部が再動作する。したがって、作業者は予め定められた動作部の保守作業を行うことができる。

無効設定手段の設定に応答して停止手段の動作を無効状態に制御するとともに予め定められた動作部を停止状態に制御し、動作指令手段による再動作の指令に応答して予め定められた動作部を再動作させる制御部をさらに備えてもよい。

この場合、制御手段が無効設定手段の設定に応答して停止手段の動作を無効状態に制御するとともに予め定められた動作部を停止状態に制御することにより、予め定められた動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。

さらに、作業者が動作指令手段により予め定められた動作部の再動作を指令すると、予め定められた動作部が再動作する。したがって、作業者は予め定められた動作部の保守作業を行うことができる。

複数の動作部に予め危険度レベルが設定され、予め定められた動作部は、他の動作部よりも高い危険度レベルを有してもよい。

この場合、扉が開かれることにより、停止手段により複数の動作部が停止されるが、無効設定手段により停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち高い危険度レベルを有する動作部を停止状態に設定することができる。それにより、高い危険度レベルを有する動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、低い危険度レベルを有する動作部について保守作業を行いたい場合、高い危険度レベルを有する動作部が停止しているので、作業者は、高い危険度レベルを有する動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段により高い危険度レベルを有する動作部の再動作を指令すると、高い危険度レベルを有する動作部が再動作する。したがって、作業者は高い危険度レベルを有する動作部の保守作業を行うことができる。

予め定められた動作部は、基板を搬送する搬送手段を含んでもよい。

この場合、扉が開かれることにより、停止手段により複数の動作部が停止されるが、無効設定手段により停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち基板を搬送する搬送手段を停止状態に設定することができる。それにより、搬送手段が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、搬送手段以外の動作部について保守作業を行いたい場合、搬送手段が停止しているので、作業者は、搬送手段について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段により搬送手段の再動作を指令すると、搬送手段が再動作する。したがって、作業者は搬送手段の保守作業を行うことができる。

予め定められた動作部は、薬品を用いた処理を行う処理手段を含んでもよい。

この場合、扉が開かれることにより、停止手段により複数の動作部が停止されるが、無効設定手段により停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち薬品を用いた処理を行う処理手段を停止状態に設定することができる。それにより、薬品を用いた処理を行う処理手段が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、薬品を用いた処理を行う処理手段以外の動作部について保守作業を行いたい場合、薬品を用いた処理を行う処理手段が停止しているので、作業者は、薬品を用いた処理を行う処理手段について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段により薬品を用いた処理を行う処理手段の再動作を指令すると、薬品を用いた処理を行う処理手段が再動作する。したがって、作業者は薬品を用いた処理を行う処理手段の保守作業を行うことができる。

予め定められた動作部は、レーザ光を用いた処理を行う処理手段を含んでもよい。

この場合、扉が開かれることにより、停止手段により複数の動作部が停止されるが、無効設定手段により停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうちレーザ光を用いた処理を行う処理手段を停止状態に設定することができる。それにより、レーザ光を用いた処理を行う処理手段が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、レーザ光を用いた処理を行う処理手段以外の動作部について保守作業を行いたい場合、レーザ光を用いた処理を行う処理手段が停止しているので、作業者は、レーザ光を用いた処理を行う処理手段について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段によりレーザ光を用いた処理を行う処理手段の再動作を指令すると、レーザ光を用いた処理を行う処理手段が再動作する。したがって、作業者はレーザ光を用いた処理を行う処理手段の保守作業を行うことができる。

予め定められた動作部は複数設けられ、動作指令手段は予め定められた動作部ごとに設けられてもよい。

この場合、動作指令手段が予め定められた動作部ごとに設けられることにより、作業者が自己の保守作業の対象となる動作部以外の動作部を誤って再動作させることが防止される。

第３の発明に係る基板処理装置の管理方法は、基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、装置空間への人の侵入を可能とする扉と、扉が開かれた場合に、複数の動作部を停止させる停止手段とを備える基板処理装置の管理方法であって、停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定するステップと、停止状態に設定された予め定められた動作部を再動作させるステップとを備えたものである。

第３の発明に係る基板処理装置の管理方法においては、扉が開かれた場合に、停止手段により複数の動作部が停止されるが、停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定することができる。それにより、予め定められた動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、予め定められた動作部以外について保守作業を行いたい場合、予め定められた動作部が停止しているので、作業者は、予め定められた動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、予め定められた動作部が再動作されるので、作業者は予め定められた動作部の保守作業を行うことができる。

第４の発明に係る基板処理装置の管理方法は、基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、装置空間への人の侵入を可能とする扉と、扉が開かれた場合に、複数の動作部を停止させる停止手段とを備える基板処理装置の管理方法であって、扉の開放から所定の時間経過後に、停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定するステップと、停止状態に設定された予め定められた動作部を再動作させるステップとを備えたものである。

第４の発明に係る基板処理装置の管理方法においては、扉が開かれた場合に、停止手段により複数の動作部が停止されるが、扉の開放から所定の時間経過後に、停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定することができる。それにより、予め定められた動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、予め定められた動作部以外について保守作業を行いたい場合、予め定められた動作部が停止しているので、作業者は、予め定められた動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、予め定められた動作部が再動作されるので、作業者は予め定められた動作部の保守作業を行うことができる。

本発明に係る基板処理装置においては、扉が開かれた場合に、停止手段により複数の動作部が停止されるが、作業者が無効設定手段により停止手段の動作を無効状態に設定するとともに複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態にすることができる。それにより、予め定められた動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、予め定められた動作部以外について保守作業を行いたい場合、予め定められた動作部が停止しているので、作業者は、予め定められた動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が動作指令手段により予め定められた動作部の再動作を指令すると、予め定められた動作部が再動作する。したがって、作業者は予め定められた動作部の保守作業を行うことができる。

以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置および基板処理装置の管理方法について図１〜図７に基づき説明する。

以下の説明において、基板とは、半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等をいう。

図１は、本発明の本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。図１に示すように、基板処理装置１００は、処理領域Ａ，Ｂを有し、処理領域Ａ，Ｂ間に搬送領域Ｃを有する。処理領域Ａ，Ｂの各々には基板Ｗに特定の処理を行うための複数の処理ユニットが配置されている。また、搬送領域Ｃには基板Ｗを搬送するためのインデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲが配置されている。

以下の説明において、複数の処理ユニット、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲを動作部と総称する。なお、動作部は、基板に対して動作を行うものであればよく、これらに限るものではない。

基板処理装置１００においては、作業者が処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃに配置される動作部の動作状態を調整するティーチングの他、各動作部に対して様々な保守作業が行われる。

処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃを含む空間を装置空間５００と呼ぶ。処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃをそれぞれ隔離するように隔壁５０１が設けられている。

基板処理装置１００の側面の所定位置には、作業者が装置空間５００に侵入するための扉Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４，Ｄ５が設けられている。扉Ｄ１はインデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲに対応付けされており、扉Ｄ２〜Ｄ５は各処理ユニットに対応付けされている。

扉Ｄ１〜Ｄ５の各々には、作業者による開放に応答して基板処理装置１００全体の電源をオフする（以下、インターロック機能と呼ぶ。）ためのインターロックスイッチＩＮ１，ＩＮ２，ＩＮ３，ＩＮ４，ＩＮ５が設けられている。例えば、作業者が扉Ｄ１〜Ｄ５のいずれかを開放することにより、対応するインターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５が動作して、基板処理装置１００全体の電源がオフする。

また、扉Ｄ１〜Ｄ５の各々の近傍には、インターロック機能を無効に設定するとともに、装置空間５００内の各動作部のうち特定の動作部の電源をオフ状態とし、その他の動作部の電源をオン状態に維持する（以下、選択的解除機能と呼ぶ。）ためのインターロック解除部Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５が設けられている。

ここで、特定の動作部はその動作が作業者の人体に与える影響に基づき定められる。例えば、特定の動作部はその動作が人体に害を与える恐れがあるものである。

作業者は、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５のいずれかを操作することにより選択的解除機能を有効に設定することができる。それにより、インターロック機能が無効に設定され、特定の動作部の電源がオフ状態となり、その他の動作部の電源がオン状態に維持される。その結果、作業者は特定の動作部が動作することにより発生される危険にさらされることなく、扉Ｄ１〜Ｄ５を開放して装置空間５００内に侵入することができる。

そして、このような選択的解除機能が有効に設定された状態においては、特定の動作部がオフ状態になるとともに、人体に害を与える恐れのない他の動作部の電源がオン状態に維持されているので、作業者は特定の動作部について特別な教育を受けていなくても、他の動作部の保守作業を行うことができる。選択的解除機能および特定の動作部の詳細については後述する。

さらに、基板処理装置１００の側面の所定の位置には、選択的解除機能によりオフ状態となった特定の動作部の電源をオン状態にする（以下、再動作指令機能と呼ぶ。）ための再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３が設けられている。

これら再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３は、特定の動作部の各々に対応して設けられている。この対応関係については後述する。

作業者は、インターロック機能による基板処理装置１００全体の電源がオフ状態にあるときに、保守作業の対象となる特定の動作部に対応付けられた再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３のいずれかを操作することにより、再動作指令機能を有効に設定し、特定の動作部の電源を再度オン状態として保守作業を行うことができる。

なお、再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３の各々は、自己に対応付けられた特定の動作部のみの電源をオン状態に設定する。したがって、作業者が再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３のうちの１つを操作した場合、操作された再動作指令部に対応する特定の動作部のみの電源がオン状態となる。その結果、作業者は保守作業の対象以外の特定の動作部が動作しないので、安全が確保される。

ここで、処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃに配置される各動作部について説明する。

処理領域Ａには、制御部４、流体ボックス部２ａ，２ｂ、薬液処理部５ａ，５ｂが配置されている。薬液処理部５ａ，５ｂの各々は上述の処理ユニットに相当するとともに、特定の動作部に相当する。

図１の流体ボックス部２ａ，２ｂは、それぞれ薬液処理部５ａ，５ｂへの薬液の供給および薬液処理部５ａ，５ｂからの排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器、処理液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。

薬液処理部５ａ，５ｂでは、薬液による洗浄処理（以下、薬液処理と呼ぶ）が行われる。本実施の形態では、薬液としてフッ酸水溶液等が用いられる。

薬液処理部５ａの外側の側面には扉Ｄ２、インターロックスイッチＩＮ２およびインターロック解除部Ｒ２が設けられている。また、薬液処理部５ａの内側の側面には薬液処理部５ａに対応して再動作指令部Ｓ２が設けられている。さらに、薬液処理部５ｂの外側の側面には扉Ｄ３、インターロックスイッチＩＮ３およびインターロック解除部Ｒ３が設けられている。また、薬液処理部５ｂの内側の側面には薬液処理部５ｂに対応して再動作指令部Ｓ３が設けられている。

すなわち、インターロック解除部Ｒ２，Ｒ３は、装置空間５００の外部に設けられている。また、再動作指令部Ｓ２，Ｓ３は、装置空間５００の内部に設けられている。

処理領域Ｂには、流体ボックス部２ｃ，２ｄおよび純水処理部５ｃ，５ｄが配置されている。純水処理部５ｃ，５ｄの各々は上述の処理ユニットに相当するとともに、特定の動作部以外の動作部に相当する。

図１の流体ボックス部２ｃ，２ｄは、それぞれ純水処理部５ｃ，５ｄへの純水の供給および純水処理部５ｃ，５ｄからの排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器、処理液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。

純水処理部５ｃ，５ｄでは、純水による洗浄処理が行われる。この場合、薬液処理後の基板Ｗ上に残留する薬液が純水により洗い流される。

純水処理部５ｃの外側の側面には扉Ｄ４、インターロックスイッチＩＮ４およびインターロック解除部Ｒ４が設けられている。また、純水処理部５ｄの外側の側面には扉Ｄ５、インターロックスイッチＩＮ５およびインターロック解除部Ｒ５が設けられている。

すなわち、これらインターロック解除部Ｒ４，Ｒ５は、装置空間５００の外部に設けられている。

搬送領域Ｃには、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲが配置されている。インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの各々は、上述の特定の動作部に相当する。

処理領域Ａ，Ｂの一端部側には、基板Ｗの搬入および搬出を行うインデクサＩＤが配置されており、インデクサロボットＩＲはインデクサＩＤの内部に設けられている。インデクサＩＤには、基板Ｗを収納するキャリア１が載置される。本実施の形態においては、キャリア１として、基板Ｗを密閉した状態で収納するＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を用いているが、これに限定されるものではなく、ＳＭＩＦ（Standard Mechanical Inter Face）ポッド、ＯＣ（Open Cassette）等を用いてもよい。

インデクサＩＤのインデクサロボットＩＲは、矢印Ｕの方向に移動し、キャリア１から基板Ｗを取り出して基板搬送ロボットＣＲに渡し、逆に、一連の処理が施された基板Ｗを基板搬送ロボットＣＲから受け取ってキャリア１に戻す。

基板搬送ロボットＣＲは、インデクサロボットＩＲから渡された基板Ｗを指定された処理ユニットに搬送し、または、処理ユニットから受け取った基板Ｗを他の処理ユニットまたはインデクサロボットＩＲに搬送する。

インデクサＩＤの外側の側面には扉Ｄ１、インターロックスイッチＩＮ１およびインターロック解除部Ｒ１が設けられている。また、インデクサＩＤの内側の側面には、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲにそれぞれ対応して再動作指令部ＳＩ，ＳＣが設けられている。

すなわち、インターロック解除部Ｒ１は、装置空間５００の外部に設けられている。また、再動作指令部ＳＩ，ＳＣは装置空間５００の内部に設けられている。なお、この再動作司令部ＳＩ，ＳＣは、対応するインデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの近傍（基板処理装置１００の側面および隔壁５０１の所定位置）に設けられてもよい。

本実施の形態においては、薬液処理部５ａ，５ｂのいずれかにおいて基板Ｗに薬液処理が行われた後に、基板搬送ロボットＣＲにより基板Ｗが薬液処理部５ａ，５ｂから搬出され、純水処理部５ｃ，５ｄのいずれかに搬入される。

制御部４は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）を含むコンピュータ等からなり、処理領域Ａ，Ｂの各処理ユニットの動作、搬送領域Ｃの基板搬送ロボットＣＲの動作およびインデクサＩＤのインデクサロボットＩＲの動作を制御する。制御部４の詳細については後述する。

ここで、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５および再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３の構成について説明する。

図２は、本発明の一実施の形態に係るインターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５および再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３の一例を示す図である。

図２（ａ）に示すように、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５は、選択的解除キーＲＫを差し込むための差し込み孔ＩＫが設けられるとともに２つの切替位置Ｐ１，Ｐ２を有する。切替位置Ｐ１において、選択的解除機能が無効となり、切替位置Ｐ２において、選択的解除機能が有効となる。

作業者は、選択的解除キーＲＫを差し込み孔ＩＫに差し込み、選択的解除キーＲＫを回動させることにより、選択的解除キーＲＫを切替位置Ｐ１，Ｐ２のいずれかに設定することができる。それにより、選択的解除機能の有効および無効を切替えることができる。

図２（ｂ）に示すように、再動作指令部ＳＩ，ＳＣは、隣接して設けられ、再動作指令キーＳＫを差し込むための差し込み孔ＩＫが設けられるとともに２つの切替位置Ｐ１，Ｐ２を有する。切替位置Ｐ１において、再動作指令機能が無効となり、切替位置Ｐ２において、再動作指令機能が有効となる。

作業者は、再動作指令キーＳＫを差し込み孔ＩＫに差し込み、再動作指令キーＳＫを回動させることにより、再動作指令キーＳＫを切替位置Ｐ１，Ｐ２のいずれかに設定することができる。それにより、再動作指令部ＳＩ，ＳＣに対応付けられたインデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲ、すなわち特定の動作部について再動作指令機能の有効および無効を切替えることができる。

図２（ｃ）に示すように、再動作指令部Ｓ２，Ｓ３は、各々が対応する特定の動作部近傍に設けられ、再動作指令キーＳＫを差し込むための差し込み孔ＩＫが設けられるとともに２つの切替位置Ｐ１，Ｐ２を有する。切替位置Ｐ１において、再動作指令機能が無効となり、切替位置Ｐ２において、再動作指令機能が有効となる。

作業者は、再動作指令キーＳＫを差し込み孔ＩＫに差し込み、再動作指令キーＳＫを回動させることにより、再動作指令キーＳＫを切替位置Ｐ１，Ｐ２のいずれかに設定することができる。それにより、再動作指令部Ｓ２，Ｓ３に対応付けられた薬液処理部５ａ，５ｂ、すなわち特定の動作部について再動作指令機能の有効および無効を切替えることができる。

インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５および再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３の各々は、必ずしも上記の構成を有する必要はなく、各機能についての有効および無効の切替ができるのであれば、ボタン等であってもよい。

また、図１の基板処理装置１００は、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５を設ける代わりに、インターロック機能および選択的解除機能の切替が自動的に行われる以下のような構成を備えてもよい。

扉Ｄ１〜Ｄ５の開放にともない、インターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５によるインターロック機能が作動するが、このインターロック機能が有効に作動する時間を予め定めておき、所定時間（例えば、３０秒）経過後に、自動的に選択的解除機能が作動するように設定する。

この場合、作業者が扉Ｄ１〜Ｄ５を開放してインターロック機能が作動しても、所定時間（例えば、３０秒）内に扉Ｄ１〜Ｄ５を閉じると、インターロック機能が無効になるとともに選択的解除機能が有効に作動しない。その結果、インターロック機能により基板処理装置１００全体の電源がオフ状態になった後、再び基板処理装置１００全体の電源がオン状態となる。

一方、作業者が扉Ｄ１〜Ｄ５を開放してインターロック機能が作動し、所定時間（例えば、３０秒）内に扉Ｄ１〜Ｄ５を閉じない場合、所定時間（例えば、３０秒）後に選択的解除機能が有効に作動する。その結果、特定の動作部の電源がオフ状態のまま維持されるとともに、その他の動作部の電源がオン状態となる。

このような構成において、作業者の再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３の操作による再動作指令機能は、選択的解除機能が有効に作動されたか否かにかかかわらず、インターロック機能の作動時においても有効に作動してもよい。

インターロック機能、選択的解除機能および再動作指令機能による基板処理装置１００全体の電源状態について図３〜図５に基づき説明する。

図３はインターロック機能が有効に作動した場合の基板処理装置１００全体の電源状態を示す図である。

図３（ａ）に示すように、基板処理装置１００の全ての動作部（薬液処理部５ａ，５ｂ、純水処理部５ｃ，５ｄ、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲ）の電源がオン状態である場合を想定する。

ここで、図３（ｂ）に示すように、扉Ｄ１（扉Ｄ１〜Ｄ５のいずれか）が開かれた場合、扉Ｄ１の開放とともにインターロック機能が有効に作動する。これにより、基板処理装置１００の全ての動作部の電源がオフ状態となる。

図４は、選択的解除機能が有効に作動した場合の基板処理装置１００全体の電源状態を示す図である。

図４（ａ）に示すように、基板処理装置１００の全ての動作部の電源がオン状態である場合を想定する。

ここで、図４（ｂ）に示すように、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５のいずれかにおいて、選択的解除機能が有効に設定された場合、特定の動作部、すなわち薬液処理部５ａ，５ｂ、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの電源がオフ状態となる。そして、他の動作部、すなわち純水処理部５ｃ，５ｄの電源がオン状態で維持される。

さらに、図４（ｃ）に示すように、選択的解除機能によりインターロック機能が無効にされるので、扉Ｄ１（扉Ｄ１〜Ｄ５のいずれか）が開かれた場合であっても、各動作部の電源の状態は変化しない。すなわち純水処理部５ｃ，５ｄの電源がオフ状態にならない。

図５は、選択的解除機能および再動作指令機能が有効に作動した場合の基板処理装置１００全体の電源状態を示す図である。

図５（ａ）に示すように、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５のいずれかにおいて、選択的解除機能が有効に設定されることにより、特定の動作部の電源がオフ状態となり、他の動作部の電源がオン状態となっている場合を想定する。

この場合、上述のように、扉Ｄ１〜Ｄ５のいずれかが開放されても図５（ａ）に示される電源の状態は変化しない。

ここで、図５（ｂ）に示すように、作業者が装置空間５００内部の再動作指令部ＳＩにおいて、再動作指令機能を有効に設定した場合、再動作指令部ＳＩに対応付けられた特定の動作部であるインデクサロボットＩＲの電源が再度オン状態となる。一方、インデクサロボットＩＲ以外の各動作部は図５（ａ）に示される電源の状態を維持する。

同様に、作業者は、再動作指令部ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３の各々に対して、再動作指令機能を有効に設定することにより、各々に対応付けされた特定の動作部のみを再度オン状態にすることができる。

特定の動作部について説明する。ここで、本実施の形態に係る基板処理装置１００においては、各動作部に対して危険度レベルが定められている。この危険度レベルとは、例えば、その動作部の動作が作業者の人体に害を与える可能性に基づき定められる。

本実施の形態に係る基板処理装置１００において、危険度レベルの対象となる動作部は、インデクサロボットＩＲ、基板搬送ロボットＣＲ、薬液処理部５ａ，５ｂおよび純水処理部５ｃ，５ｄである。

これらの他、基板処理装置１００の処理領域Ａ，Ｂおよび搬送領域Ｃには動作部として、レーザを用いた処理部等が設けられてもよい。

レーザを用いた処理部によれば、例えば、基板Ｗの周縁部に所定のレーザを照射する等の処理が行われる。このようなレーザにおいては、ＪＩＳ（日本工業規格） Ｃ ６８０２にクラス分けがなされている。このクラス分けにおいて、例えば、クラス２のレーザは人体の防御反応により障害を回避し得る程度の出力を有すると規定されている。

図６は、本発明の一実施の形態に係る危険度レベルの一例を説明するための図である。

図６に示すように、各動作部は、各動作部の動作が人体に与える影響が小さいものから順に、「レベル１」、「レベル２」、「レベル３」および「レベル４」の危険度レベルに分類されている。

レベル１の動作部としては、その動作時においても人体に害を与える可能性のないもの、例えば、純水処理部が分類されている。

レベル２の動作部としては、その動作時においても人体に害を与える可能性の低いもの、例えば、人体に害を与える可能性の低い薬液を用いた薬液処理部が分類されている。

レベル３の動作部としては、その動作時において人体に害を与える可能性のあるもの、例えば、人体に害を与える可能性の高い薬液を用いた薬液処理部およびクラス２以上のレーザを用いた処理部が分類されている。

レベル４の動作部としては、その動作時において人体に害を与える可能性が非常に高いもの、例えば、基板Ｗを搬送する各種搬送ロボットが分類されている。

これにより、図１の基板処理装置１００の各動作部の危険度レベルは次のように設定される。純水処理部５ｃ，５ｄはレベル１であり、人体に害を与える可能性が高いフッ酸水溶液を用いる薬液処理部５ａ，５ｂはレベル３であり、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲはレベル４である。

特定の動作部は、例えば、上記４つの危険度レベルのうち、しきいとなるレベルが設定されることにより決定される。

図６によれば、しきいとなるレベルを危険度レベル３以上とした場合、人体に害を与える可能性の高い薬液を用いた薬液処理部、クラス２以上のレーザを用いた処理部、各種搬送ロボットが特定の動作部となる。

すなわち、図１の基板処理装置１００においては、薬液処理部５ａ，５ｂ、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲが特定の動作部となる。

このような危険度レベルは、図６の例に限らず、さらに多数のレベルに分類されてもよく、それに応じてしきいとなるレベルも自由に設定してよい。

なお、上記では、危険度レベルはその動作部の動作が作業者の人体に害を与える可能性に基づき定められるとしているが、これに限らず、その動作部の動作により想定される作業者の人体への害の程度または頻度等に基づいて定められてもよい。

図７は、図１の基板処理装置１００の制御系の構成を示すブロック図である。

制御部４は、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの基板搬送動作を制御し、薬液処理部５ａ，５ｂの洗浄動作および純水処理部５ｃ，５ｄの洗浄動作を制御する。

また、制御部４はインターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５の動作に応答して、インデクサロボットＩＲ、基板搬送ロボットＣＲ、薬液処理部５ａ，５ｂおよび純水処理部５ｃ，５ｄの電源を制御する。

さらに、制御部４は作業者がインターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５を操作することによる選択的解除機能を有効にする旨の信号に応答して、インターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５の動作に応答しないとともに、薬液処理部５ａ，５ｂ、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの電源をオフ状態に制御し、純水処理部５ｃ，５ｄの電源をオン状態に維持する。

加えて、制御部４は、上記の選択的解除機能が有効に作動している際に、作業者が再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３のいずれかを操作することによる再動作指令機能を有効にする旨の信号に応答して、操作された再動作指令部に対応付けられた特定の動作部の電源を再度オン状態に制御する。

上述のように、基板処理装置１００には、薬液処理部５ａ，５ｂおよび純水処理部５ｃ，５ｄに代えてレーザを用いた処理部が設けられてもよい。

なお、上述のように、基板処理装置１００がインターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５を有さない構成の場合、制御部４はインターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５の動作に応答して、インデクサロボットＩＲ、基板搬送ロボットＣＲ、薬液処理部５ａ，５ｂおよび純水処理部５ｃ，５ｄの電源を制御するとともに、所定の時間をカウントする。

そして、制御部４は所定の時間が経過することにより薬液処理部５ａ，５ｂ、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの電源をオフ状態に制御し、純水処理部５ｃ，５ｄの電源をオン状態に維持する。

本実施の形態に係る基板処理装置１００においては、扉Ｄ１〜Ｄ５が開かれた場合に、インターロック機能により基板処理装置１００全体の各動作部の電源がオフ状態となるが、作業者が扉Ｄ１〜Ｄ５を開く前にインターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５を操作することによりインターロック機能が無効状態に設定されるとともに特定の動作部の電源がオフ状態になる。それにより、特定の動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。

また、他の動作部について保守作業を行いたい場合、特定の動作部の電源がオフ状態になっているので、作業者は、特定の動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３を操作することにより再動作指令機能を作動させると、特定の動作部の電源が再度オン状態になる。したがって、作業者は特定の動作部の保守作業を行うことができる。

また、上述のように、本実施の形態に係る基板処理装置１００は、インターロック機能および選択的解除機能の切替が自動的に行われる構成を有してもよい。

この場合、扉Ｄ１〜Ｄ５が開かれた場合に、インターロック機能により基板処理装置１００全体の各動作部の電源がオフ状態となるが、扉Ｄ１〜Ｄ５の開放から所定の時間経過後にインターロック機能が無効状態に設定されるとともに特定の動作部の電源がオフ状態になるとともに他の動作部の電源がオン状態になる。それにより、特定の動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。また、他の動作部について保守作業を行いたい場合、特定の動作部が停止しているので、作業者は、特定の動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３を操作することにより再動作指令機能を作動させると、特定の動作部の電源が再度オン状態になる。したがって、作業者は特定の動作部の保守作業を行うことができる。

本実施の形態では、基板処理装置１００の複数の動作部に対して予め危険度レベルが設定されている。そして、特定の危険度レベルを設定することにより、作業者の人体に害を与える可能性に応じて特定の動作部および他の動作部が分類されている。

この場合、扉Ｄ１〜Ｄ５が開かれることにより、インターロック機能により基板処理装置１００全体の複数の動作部の電源がオフ状態にされるが、作業者が扉Ｄ１〜Ｄ５を開く前または扉Ｄ１〜Ｄ５を開いた後において、選択的解除機能によりインターロック機能が無効状態に設定されるとともに複数の動作部のうち高い危険度レベルを有する特定の動作部の電源がオフ状態に設定される。それにより、高い危険度レベルを有する特定の動作部が動作することにより発生する作業者への危険が防止され、作業者の安全が確保される。

また、低い危険度レベルを有する他の動作部について保守作業を行いたい場合、高い危険度レベルを有する特定の動作部の電源がオフ状態となっているので、作業者は、高い危険度レベルを有する特定の動作部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、作業者が再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３を操作することにより再動作指令機能を作動させると、高い危険度レベルを有する特定の動作部の電源が再度オン状態になる。したがって、作業者は高い危険度レベルを有する特定の動作部の保守作業を行うことができる。

本実施の形態において、特定の動作部はインデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲを含む。この場合、作業者は再動作指令機能によりインデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲの保守作業を行うことができる。

また、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲ以外の動作部について保守作業を行いたい場合、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲについて特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

また、特定の動作部は薬液処理部５ａ，５ｂを含む。この場合、作業者は再動作指令機能により薬液処理部５ａ，５ｂの保守作業を行うことができる。

そして、薬液処理部５ａ，５ｂ以外の動作部について保守作業を行いたい場合、薬液処理部５ａ，５ｂについて特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

さらに、特定の動作部はクラス２以上のレーザを用いた処理部を含む。この場合、作業者は再動作指令機能によりレーザを用いた処理部の保守作業を行うことができる。

そして、レーザを用いた処理部以外の動作部について保守作業を行いたい場合、レーザを用いた処理部について特別の教育を受けていなくても、安全に保守作業を行うことができる。その結果、高効率の保守作業が実現される。

図１の基板処理装置１００は、特定の動作部を複数備え、特定の動作部ごとに再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３が設けられている。

この場合、再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３が特定の動作部ごとに設けられることにより、作業者が自己の保守作業の対象となる特定の動作部以外の特定の動作部を誤って再動作させることが防止される。

以上、本発明の一実施の形態において、基板処理装置１００は基板処理装置に相当し、処理領域Ａ，Ｂは処理空間に相当し、搬送領域Ｃは搬送空間に相当し、装置空間５００は装置空間に相当し、扉Ｄ１〜Ｄ５は扉に相当し、インターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５、インターロック機能および制御部４は停止手段に相当する。

また、基板処理装置１００の全ての各動作部、薬液処理部５ａ，５ｂ、純水処理部５ｃ，５ｄ、インデクサロボットＩＲ、基板搬送ロボットＣＲおよびレーザを用いた処理部は複数の動作部に相当し、特定の動作部、薬液処理部５ａ，５ｂ、インデクサロボットＩＲ、基板搬送ロボットＣＲおよびレーザを用いた処理部は予め定められた動作部に相当し、インターロックスイッチＩＮ１〜ＩＮ５、選択的解除キーＲＫ、インターロック解除部Ｒ１〜Ｒ５、選択的解除機能および制御部４は無効設定手段に相当し、再動作指令キーＳＫ、再動作指令部ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３、再動作指令機能および制御部４は再動作指令手段に相当する。

さらに、インデクサロボットＩＲおよび基板搬送ロボットＣＲは搬送手段に相当し、薬液処理部５ａ，５ｂは薬品を用いた処理を行う処理手段に相当し、レーザを用いた処理部はレーザ光を用いた処理を行う処理手段に相当する。

本発明に係る基板処理装置および基板処理装置の管理方法は、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を行う等のために利用可能である。

本発明の本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。 本発明の一実施の形態に係るインターロック解除部および再動作指令部の一例を示す図である。 インターロック機能が有効に作動した場合の基板処理装置全体の電源状態を示す図である。 選択的解除機能が有効に作動した場合の基板処理装置全体の電源状態を示す図である。 選択的解除機能および再動作指令機能が有効に作動した場合の基板処理装置全体の電源状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る危険度レベルの一例を説明するための図である。 図１の基板処理装置の制御系の構成を示すブロック図である。

符号の説明

４ 制御部
１００ 基板処理装置
５００ 装置空間
５ａ，５ｂ 薬液処理部
５ｃ，５ｄ 純水処理部
Ａ，Ｂ 処理領域
Ｃ 搬送領域
ＣＲ 基板搬送ロボット
Ｄ１〜Ｄ５ 扉
ＩＮ１〜ＩＮ５ インターロックスイッチ
ＩＲ インデクサロボット
Ｒ１〜Ｒ５ インターロック解除部
ＲＫ 選択的解除キー
ＳＫ 再動作指令キー
ＳＩ，ＳＣ，Ｓ２，Ｓ３ 再動作指令部

Claims (10)

1. 基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、
   前記装置空間への人の侵入を可能とする扉と、
   前記扉が開かれた場合に、前記複数の動作部を停止させる停止手段と、
   前記停止手段の動作を無効状態に設定するとともに前記複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定するための無効設定手段と、
   前記無効設定手段により停止状態に設定された前記予め定められた動作部を再動作させるための動作指令手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、
   前記装置空間への人の侵入を可能とする扉と、
   前記扉が開かれた場合に、前記複数の動作部を停止させる停止手段と、
   前記扉の開放から所定の時間経過後に、前記停止手段の動作を無効状態に設定するとともに前記複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定する無効設定手段と、
   前記無効設定手段により停止状態に設定された前記予め定められた動作部を再動作させるための動作指令手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。
3. 前記無効設定手段の設定に応答して前記停止手段の動作を無効状態に制御するとともに前記予め定められた動作部を停止状態に制御し、前記動作指令手段による再動作の指令に応答して前記予め定められた動作部を再動作させる制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
4. 前記複数の動作部に予め危険度レベルが設定され、
   前記予め定められた動作部は、他の動作部よりも高い危険度レベルを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
5. 前記予め定められた動作部は、基板を搬送する搬送手段を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理装置。
6. 前記予め定められた動作部は、薬品を用いた処理を行う処理手段を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置。
7. 前記予め定められた動作部は、レーザ光を用いた処理を行う処理手段を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の基板処理装置。
8. 前記予め定められた動作部は複数設けられ、前記動作指令手段は前記予め定められた動作部ごとに設けられたことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の基板処理装置。
9. 基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、前記装置空間への人の侵入を可能とする扉と、前記扉が開かれた場合に、前記複数の動作部を停止させる停止手段とを備える基板処理装置の管理方法であって、
   前記停止手段の動作を無効状態に設定するとともに前記複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定するステップと、
   停止状態に設定された前記予め定められた動作部を再動作させるステップとを備えることを特徴とする基板処理装置の管理方法。
10. 基板に所定の処理を行う処理空間および基板を搬送するための搬送空間を含む装置空間内に設けられ、基板に所定の処理動作または搬送動作を行う複数の動作部と、前記装置空間への人の侵入を可能とする扉と、前記扉が開かれた場合に、前記複数の動作部を停止させる停止手段とを備える基板処理装置の管理方法であって、
    前記扉の開放から所定の時間経過後に、前記停止手段の動作を無効状態に設定するとともに前記複数の動作部のうち予め定められた動作部を停止状態に設定するステップと、
    停止状態に設定された前記予め定められた動作部を再動作させるステップとを備えることを特徴とする基板処理装置の管理方法。
    
    

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