JP2001127132A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2001127132A
JP2001127132A JP30226899A JP30226899A JP2001127132A JP 2001127132 A JP2001127132 A JP 2001127132A JP 30226899 A JP30226899 A JP 30226899A JP 30226899 A JP30226899 A JP 30226899A JP 2001127132 A JP2001127132 A JP 2001127132A
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Japan
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door
unit
processing units
processing
substrate
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Application number
JP30226899A
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English (en)
Inventor
Yasuo Kawamatsu
康夫 川松
Kazuhiro Nishimura
和浩 西村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 扉が開放されている処理部に搬送手段が進入
しようとしたときのみ確実に搬送手段を停止させる基板
処理装置を提供する。 【解決手段】 処理部の扉が開放されたことを検知した
扉センサ40はリレー28に検知信号を出力する。検知
信号が入力されたリレー28は、エリアセンサ電源25
とエリアセンサ20とを電通し、エリアセンサ20に電
力供給を行って、エリアセンサ20を作動させる。その
状態において当該処理部に搬送ロボットTR2が進入し
たときに、エリアセンサ20がその旨を検知し、リレー
53に検知信号を出力する。検知信号が入力されたリレ
ー53は、駆動電源50と搬送ロボットTR2とを遮断
し、搬送ロボットTR2の動作を停止させる。従って、
処理部の扉が開放され、かつその処理部に搬送ロボット
TR2が進入したときにのみ、搬送ロボットTR2の動
作が停止されることとなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、それぞれが扉を備
えた回転式塗布処理部等の複数の処理部を有し、搬送手
段によってそれら複数の処理部間で半導体基板、液晶表
示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光デ
ィスク用基板等(以下、「基板」と称する)の搬送を行
う基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、上記のような基板に対しては、
レジスト塗布処理、露光処理、現像処理およびそれらに
付随する熱処理を順次に行わせることにより一連の基板
処理を達成している。これらの各処理は、それぞれ専用
の処理部において行われるものであり、搬送ロボットに
よって各処理部に基板を循環搬送することにより、その
基板に対して順次に処理を行うようにしている。そし
て、このような各処理部や搬送ロボットによって基板処
理装置は構成されているのである。各処理部のうち特に
レジスト塗布処理を行う回転式塗布処理部(スピンコー
タ)や現像処理を行う回転式現像処理部(スピンデベロ
ッパ)は、基板を回転させつつ所定の表面処理を行う処
理部であり、スピンユニットと称されている。
【0003】これらのスピンユニットは、基板を回転さ
せるための回転駆動部を備えているため随時メンテナン
スが必要であり、スピンユニットの外壁にはメンテナン
スを行うための扉が設けられている。スピンユニットの
メンテナンスを行う際には、作業者がその扉を開けて所
定の作業を行う。
【0004】作業者がスピンユニットのメンテナンスを
行っているときに搬送ロボットがそのスピンユニットに
進入すると危険であるため、従来より、扉が開放されて
いるときには搬送ロボットが進入しないようなインター
ロック機構が設けられている。具体的には、扉が開放さ
れているときにスピンユニットに搬送ロボットが進入し
ようとすると、搬送ロボットへの駆動電力供給が遮断さ
れるように構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、通常、基板
処理装置には複数のスピンユニットが設けられている。
従来においては、複数のスピンユニットのいずれかの扉
が開放されていると搬送ロボットへの駆動電力供給が遮
断され、搬送ロボットが停止されていた。
【0006】このため、搬送ロボットによる基板の循環
搬送の対象とされていないスピンユニット、すなわち搬
送ロボットが進入する可能性のないスピンユニットのメ
ンテナンスを行う場合であっても、そのスピンユニット
の扉を開けることにより搬送ロボットが停止し、一連の
基板処理も中断していた。従って、循環搬送の対象とさ
れていないスピンユニットのメンテナンスを行う場合で
あっても、装置全体の処理を停止して行わなければなら
ず、効率が低下するという問題が生じていた。
【0007】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、扉が開放されている処理部に搬送手段が進入し
ようとしたときのみ確実に搬送手段を停止させる基板処
理装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の発明は、それぞれが扉を備えた複数の処
理部を有し、搬送手段によって前記複数の処理部間で基
板の搬送を行う基板処理装置であって、前記複数の処理
部のそれぞれに設けられ、前記扉が開放されていること
を検知する扉開放検知手段と、前記複数の処理部のそれ
ぞれに設けられ、それらの各処理部に前記搬送手段が進
入していることを検知する進入検知手段と、前記複数の
処理部のいずれかに設けられた前記扉開放検知手段が当
該処理部の扉が開放されていることを検知するととも
に、当該処理部に設けられた前記進入検知手段が当該処
理部への前記搬送手段の進入を検知したときに、前記搬
送手段を停止させる搬送停止制御手段と、を備えてい
る。
【0009】また、請求項2の発明は、それぞれが扉を
備えた複数の処理部を有し、搬送手段によって前記複数
の処理部間で基板の搬送を行う基板処理装置であって、
前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、前記扉が開放
されていることを検知する扉開放検知手段と、前記複数
の処理部のそれぞれに設けられ、それらの各処理部に前
記搬送手段が進入していることを検知する進入検知手段
と、前記複数の処理部のいずれかに設けられた前記扉開
放検知手段が当該処理部の扉が開放されていることを検
知したときに当該処理部に設けられた前記進入検知手段
を能動化させる第1スイッチ手段と、能動化された当該
進入検知手段が当該処理部への前記搬送手段の進入を検
知したときに、前記搬送手段への駆動電力の供給を遮断
する第2スイッチ手段と、を備えている。
【0010】また、請求項3の発明は、それぞれが扉を
備えた複数の処理部を有し、搬送手段によって前記複数
の処理部間で基板の搬送を行う基板処理装置であって、
前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、前記扉が開放
されていることを検知して開放信号を活性化する扉開放
検知手段と、前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、
それらの各処理部に前記搬送手段が進入していることを
検知して進入信号を活性化する進入検知手段と、前記複
数の処理部のうちのいずれかの処理部についての前記開
放信号と当該処理部についての前記進入信号との論理積
によって得られる信号が活性化されているときに前記搬
送手段を停止させる搬送停止手段と、を備えている。
【0011】
【発明の実施の形態】<第1実施形態>以下、図面を参
照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
まず、本発明に係る基板処理装置の全体構成について説
明する。図1は、本発明に係る基板処理装置の全体構成
を示す概略平面図である。
【0012】図1に示すように、この実施の形態におい
ては、基板処理装置は、インデクサIDとユニット配置
部MPとインターフェイスIFとを備えている。
【0013】インデクサIDには基板Wを移載するため
の移載ロボットTR1が設けられており、当該移載ロボ
ットTR1が基板Wを収納容器であるキャリアCから取
り出してユニット配置部MPに払い出したり、所定の処
理が終了した基板Wをユニット配置部MPから受け取っ
てキャリアCに収納する。
【0014】ユニット配置部MPには、その4隅に基板
Wに処理液による処理を施す液処理部として、基板Wを
回転させつつレジスト塗布処理を行う回転式塗布処理部
(スピンコータ)SC1、SC2と、露光後の基板Wを
回転させつつ現像液を供給して現像処理を行う回転式現
像処理部(スピンデベロッパ)SD1、SD2とが設け
られている。また、回転式塗布処理部SC1、SC2の
間に基板Wに純水等の洗浄液を供給して基板Wを回転洗
浄する回転式洗浄処理部(スピンスクラバ)SSが配置
されている。これら液処理部(回転式塗布処理部SC
1、SC2、回転式現像処理部SD1、SD2および回
転式洗浄処理部SS)はいずれもいわゆるスピンユニッ
トであり、それぞれその外壁部分にメンテナンス用の扉
を有している。
【0015】これらの液処理部の上側には、図示してい
ないが基板Wを冷却処理するクールプレート部や加熱処
理するホットプレート部等の熱処理を行う複数の熱処理
部が配置されている。
【0016】ユニット配置部MPの中央部には搬送ロボ
ットTR2が設けられている。搬送ロボットTR2は、
2つの搬送アームAR1,AR2を備えている。そし
て、搬送ロボットTR2は、鉛直方向の昇降動作と鉛直
方向を軸とする回転動作が可能であるとともに、搬送ア
ームAR1,AR2を水平面内にて進退移動させること
ができるように構成されている。これにより、搬送ロボ
ットTR2は、搬送アームAR1,AR2を3次元的に
移動させることができ、ユニット配置部MPに配置され
る全ての液処理部および熱処理部に対して搬送アームA
R1または搬送アームAR2をアクセスさせることがで
きる。
【0017】この基板処理装置において基板Wの処理を
行うときには、搬送ロボットTR2が基板Wを液処理部
や熱処理部の間で順次に搬送することによってその基板
Wに対する一連の表面処理を行わせる。
【0018】インターフェイスIFは、ユニット配置部
MPにおいてレジストの塗布が終了した基板Wを図示し
ない露光装置側に渡したり露光後の基板Wを露光装置側
から受け取るために設けられているものである。
【0019】なお、本実施形態においては、搬送ロボッ
トTR2が搬送手段に相当し、各液処理部が扉を備えた
複数の処理部に相当する。
【0020】次に、本実施形態におけるスピンユニット
の構成について、回転式現像処理部SD2を例として説
明する。図2は、回転式現像処理部SD2の概略構成を
示す平面図である。回転式現像処理部SD2は、回転台
10と、エリアセンサ20と、扉30と、扉センサ40
とを備えている。
【0021】回転台10は、基板Wを保持するととも
に、その下方に設けられた回転駆動機構(図示省略)に
よって回転可能に構成されている。基板Wの現像処理を
行うときには、回転台10によって保持された基板Wを
回転させつつ、その基板Wに現像液を供給する。
【0022】搬送ロボットTR2は、搬送アームAR
1,AR2を矢印A1にて示すように、回転式現像処理
部SD2の開口OPから進入させて、回転台10に基板
Wを渡したり、回転台10から現像処理済みの基板Wを
受け取ったりする。
【0023】回転式現像処理部SD2の開口OPの近傍
には、エリアセンサ20が設けられている。エリアセン
サ20は、投光部20aと受光部20bとにより構成さ
れている。エリアセンサ20の作動中においては、投光
部20aから受光部20bに向けて光が出射される。そ
して、受光部20bが投光部20aからの光の入射を検
出しなくなったとき、すなわち投光部20aから受光部
20bに向けた光が遮断されたときに、検知信号を出力
するように構成されている。投光部20aから受光部2
0bに向けた光が遮断されるときとは、通常開口OPか
ら回転式現像処理部SD2内に搬送アームAR1または
搬送アームAR2が進入しているときである。つまり、
エリアセンサ20は、回転式現像処理部SD2に搬送ロ
ボットTR2が進入していることを検知する進入検知手
段に相当する。
【0024】また、回転式現像処理部SD2の外壁には
扉30が設けられている。扉30は、矢印A2にて示す
ように、開閉自在に構成されている。この扉30は、作
業者が回転式現像処理部SD2のメンテナンスを行うた
めに設けられているものである。すなわち、作業者が回
転式現像処理部SD2のメンテナンスを行うときには扉
30を開放し、回転式現像処理部SD2の内部にて所定
の作業を行うこととなる。なお、通常の基板処理時にお
いては、扉30が閉鎖されていることは勿論である。
【0025】扉30の近傍には扉センサ40が設けられ
ている。扉センサ40は、光を出射し、その反射光を受
光する反射型センサである。すなわち、扉30が閉鎖さ
れているときには扉センサ40から出射された光が扉3
0によって反射され、その反射された光が扉センサ40
によって受光される。一方、扉30が開放されていると
きには扉センサ40から出射された光は反射されず、扉
センサ40によって反射光が受光されることもない。そ
して、扉センサ40は、反射光を受光しないときに検知
信号を出力するように構成されている。換言すれば、扉
センサ40は、回転式現像処理部SD2の扉30が開放
されていることを検知する扉開放検知手段に相当する。
【0026】次に、扉センサ40、エリアセンサ20お
よび搬送ロボットTR2の電気的な構成について説明す
る。図3は、第1実施形態における扉センサ40、エリ
アセンサ20および搬送ロボットTR2の電気的な構成
を示すブロック図である。
【0027】上述の如く、扉センサ40は、扉30が開
放されているときに検知信号を出力する。リレー28
(第1スイッチ手段)は、扉センサ40からの信号入力
があったときに、エリアセンサ電源25とエリアセンサ
20とを電通させる。なお、扉センサ40からリレー2
8への信号入力がない状態においては、エリアセンサ電
源25とエリアセンサ20とは電気的に遮断された状態
となっている。つまり、回転式現像処理部SD2の扉3
0が開放され、扉センサ40が扉30の開放状態を検知
したときに、リレー28はエリアセンサ電源25とエリ
アセンサ20とを電通させ、エリアセンサ20に電力を
供給して能動化させるのである。一方、回転式現像処理
部SD2の扉30が閉鎖されている状態においては、エ
リアセンサ20に電力供給が行われず、エリアセンサ2
0は作動しない。
【0028】エリアセンサ20が作動し、回転式現像処
理部SD2に搬送ロボットTR2(厳密には、搬送アー
ムAR1または搬送アームAR2)が進入していること
を検知するとエリアセンサ20は検知信号を出力する。
リレー53(第2スイッチ手段)は、エリアセンサ20
からの信号入力があったときに、駆動電源50と搬送ロ
ボットTR2とを電気的に遮断する。なお、エリアセン
サ20からリレー53への信号入力がない状態において
は、駆動電源50と搬送ロボットTR2とは電通された
状態となっている。つまり、回転式現像処理部SD2に
搬送ロボットTR2が進入し、エリアセンサ20がその
進入を検知したときに、リレー53は駆動電源50と搬
送ロボットTR2とを電気的に遮断し、搬送ロボットT
R2への駆動電力の供給を遮断し、その動作を停止させ
るのである。一方、回転式現像処理部SD2に搬送ロボ
ットTR2が進入していない状態においては、搬送ロボ
ットTR2に駆動電源50から電力供給が行われ続け、
搬送ロボットTR2の動作が停止することはない。
【0029】以上のように、回転式現像処理部SD2の
扉30が開放されることによってエリアセンサ20に電
力供給が行われ、エリアセンサ20が作動する。そし
て、その状態において回転式現像処理部SD2に搬送ロ
ボットTR2が進入したときに、搬送ロボットTR2へ
の駆動電力の供給が遮断され、その動作が停止されるの
である。従って、回転式現像処理部SD2の扉30が開
放され、かつ回転式現像処理部SD2に搬送ロボットT
R2が進入したときに、搬送ロボットTR2の動作が停
止されることとなる。
【0030】以上、本実施形態におけるスピンユニット
の配置構成および電気的なインターロックの構成につい
て、回転式現像処理部SD2を例として説明したが、他
のスピンユニット(回転式塗布処理部SC1、SC2、
回転式現像処理部SD1および回転式洗浄処理部SS)
も同様の構成を有している。すなわち、他のスピンユニ
ットもそれぞれ搬送ロボットTR2の進入を検知するエ
リアセンサ、メンテナンス用の扉、扉が開放されている
ことを検知する扉センサを備えている。そして、各スピ
ンユニットごとに、扉が開放されることによってエリア
センサに電力供給が行われてエリアセンサが作動し、そ
の状態において当該スピンユニットに搬送ロボットTR
2が進入したときに、搬送ロボットTR2への駆動電力
の供給が遮断され、その動作が停止されるのである。
【0031】このようにすれば、いずれかのスピンユニ
ットの扉が開放されただけでは搬送ロボットTR2の動
作は停止せず、扉が開放されているスピンユニットに搬
送ロボットTR2が進入したときのみ、搬送ロボットT
R2の動作が確実に停止される。従って、例えば回転式
現像処理部SD2が循環搬送の対象となっていない場合
には、作業者がその扉30を開けても搬送ロボットTR
2の動作は停止しないため、基板処理装置における一連
の基板処理を中断することなく、それと並行して回転式
現像処理部SD2のメンテナンスを行うことができる。
その結果、装置全体として効率の良いメンテナンス作業
を行うことができる。
【0032】また、作業者が例えば回転式現像処理部S
D2の扉30を開けてメンテナンス作業を行っていると
きに、搬送ロボットTR2が回転式現像処理部SD2に
進入しようとすると、搬送ロボットTR2への駆動電力
の供給が遮断され、その動作が停止されるため、安全で
ある。
【0033】なお、いずれのスピンユニットの扉が開放
されているかを検知し、そのスピンユニットへの搬送ロ
ボットTR2の進入の禁止を処理プログラムによってソ
フトウェア的に実現することも可能であるが、本実施形
態のようにリレーを用いてハードウェア的に搬送ロボッ
トTR2の動作を停止させた方がより安全性が高い。
【0034】<第2実施形態>第2実施形態の基板処理
装置の機械的な構成は第1実施形態の基板処理装置と同
じであるため、その説明は省略するとともに、以下の説
明においても同じ要素については上記と同じ符号を用い
る。第2実施形態の基板処理装置が第1実施形態の基板
処理装置と異なる点は、扉センサ、エリアセンサおよび
搬送ロボットTR2の電気的な構成である。以下、この
点につき、回転式現像処理部SD2を例として説明す
る。
【0035】図4は、第2実施形態における扉センサ4
0、エリアセンサ20および搬送ロボットTR2の電気
的な構成を示すブロック図である。
【0036】第1実施形態と同様に、扉センサ40は、
扉30が開放されているときに検知信号を出力する。換
言すれば、扉センサ40は、扉30が開放されているこ
とを検知して開放信号を活性化する(出力レベルを”
0”から”1”にする)のである。
【0037】一方、エリアセンサ20は、回転式現像処
理部SD2に搬送ロボットTR2が進入していることを
検知すると検知信号を出力する。換言すれば、エリアセ
ンサ20は、回転式現像処理部SD2に搬送ロボットT
R2が進入していることを検知して進入信号を活性化す
るのである。なお、第2実施形態においては、扉30の
開閉状態にかかわらず、常にエリアセンサ20に電力供
給が行われ、エリアセンサ20は作動状態にある。
【0038】第2実施形態においては、扉センサ40お
よびエリアセンサ20は、AND回路60に接続されて
いる。AND回路60は、扉センサ40からの開放信号
とエリアセンサ20からの進入信号との論理積を導きリ
レー55に出力する。従って、回転式現像処理部SD2
の扉30が開放されて扉センサ40からの開放信号が活
性化状態にあり、かつ回転式現像処理部SD2に搬送ロ
ボットTR2が進入してエリアセンサ20からの進入信
号が活性化状態にあるときのみ、AND回路60からの
出力信号が活性化される。
【0039】リレー55は、AND回路60からの出力
信号が活性化状態であるときに、駆動電源50と搬送ロ
ボットTR2とを電気的に遮断して、搬送ロボットTR
2の動作を停止させる。なお、AND回路60からの出
力信号が活性化状態でないときは、駆動電源50と搬送
ロボットTR2とは電通された状態となっている。
【0040】このようにしても、回転式現像処理部SD
2の扉30が開放され、かつ回転式現像処理部SD2に
搬送ロボットTR2が進入したときにのみ、搬送ロボッ
トTR2への電力供給が遮断され、その動作が停止され
ることとなる。そして、回転式現像処理部SD2の扉3
0が閉鎖されている、または回転式現像処理部SD2に
搬送ロボットTR2が進入していないときは、搬送ロボ
ットTR2の動作が停止されることはない。
【0041】以上、回転式現像処理部SD2を例として
説明したが、他のスピンユニット(回転式塗布処理部S
C1、SC2、回転式現像処理部SD1および回転式洗
浄処理部SS)についても同様である。すなわち、その
スピンユニットの扉が開放され、かつ当該スピンユニッ
トに搬送ロボットTR2が進入したときにのみ、搬送ロ
ボットTR2への電力供給が遮断され、その動作が停止
されることとなる。
【0042】このようにしても、スピンユニットの扉が
開放されただけでは搬送ロボットTR2の動作は停止せ
ず、扉が開放されているスピンユニットに搬送ロボット
TR2が進入したときのみ、搬送ロボットTR2の動作
が確実に停止される。その結果、上記第1実施形態と同
様の効果を得ることができるのである。
【0043】<変形例>以上、本発明の実施の形態につ
いて説明したが、この発明は上記の例に限定されるもの
ではない。例えば、扉センサ40は、光を出射しその反
射光を受光する反射型センサに限定されるものではな
く、扉30の開閉を検知することができるセンサであれ
ば良い。同様に、エリアセンサ20についても上記実施
形態にて示したものに限定されず、スピンユニットへの
搬送ロボットTR2の進入を検知することができるセン
サであればよい。
【0044】また、上記実施形態においては、本発明に
係る技術をスピンユニットに適用していたが、これに限
らず、他の処理部、例えば熱処理部に適用するようにし
ても良い。
【0045】また、上記第1実施形態における、リレー
に代えて、スイッチングトランジスタなど他のスイッチ
機能を有する素子を使用するようにしても良い。
【0046】
【発明の効果】以上、説明したように、請求項1の発明
によれば、複数の処理部のいずれかに設けられた扉開放
検知手段が当該処理部の扉が開放されていることを検知
するとともに、当該処理部に設けられた進入検知手段が
当該処理部への搬送手段の進入を検知したときに、搬送
手段を停止させているため、扉が開放されている処理部
に搬送手段が進入しようとしたときのみ確実に搬送手段
を停止させることができる。
【0047】また、請求項2の発明によれば、複数の処
理部のいずれかに設けられた扉開放検知手段が当該処理
部の扉が開放されていることを検知したときに当該処理
部に設けられた進入検知手段を能動化させる第1スイッ
チ手段と、能動化された当該進入検知手段が当該処理部
への搬送手段の進入を検知したときに、搬送手段への駆
動電力の供給を遮断する第2スイッチ手段と、を備えて
いるため、扉が開放されている処理部に搬送手段が進入
しようとしたときのみ確実に搬送手段を停止させること
ができる。
【0048】また、請求項3の発明によれば、複数の処
理部のうちのいずれかの処理部についての開放信号と当
該処理部についての進入信号との論理積によって得られ
る信号が活性化されているときに搬送手段を停止させて
いるため、扉が開放されている処理部に搬送手段が進入
しようとしたときのみ確実に搬送手段を停止させること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基板処理装置の全体構成を示す概
略平面図である。
【図2】回転式現像処理部の概略構成を示す平面図であ
る。
【図3】第1実施形態における扉センサ、エリアセンサ
および搬送ロボットの電気的な構成を示すブロック図で
ある。
【図4】第2実施形態における扉センサ、エリアセンサ
および搬送ロボットの電気的な構成を示すブロック図で
ある。
【符号の説明】
20 エリアセンサ 28、53、55 リレー 30 扉 40 扉センサ 60 AND回路 AR1、AR2 搬送アーム SC1、SC2 回転式塗布処理部、 SD1、SD2 回転式現像処理部 SS 回転式洗浄処理部 TR2 搬送ロボット W 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/30 569C (72)発明者 西村 和浩 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AB08 AB16 AB17 EA05 FA03 FA14 2H096 AA00 CA14 EA30 GA29 5F031 CA02 CA05 DA08 DA17 GA43 GA48 GA50 JA04 MA09 MA24 MA26 MA27 NA09 NA10 5F046 CD01 CD06 DB14 JA27 LA11

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 それぞれが扉を備えた複数の処理部を有
    し、搬送手段によって前記複数の処理部間で基板の搬送
    を行う基板処理装置であって、 前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、前記扉が開放
    されていることを検知する扉開放検知手段と、 前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、それらの各処
    理部に前記搬送手段が進入していることを検知する進入
    検知手段と、 前記複数の処理部のいずれかに設けられた前記扉開放検
    知手段が当該処理部の扉が開放されていることを検知す
    るとともに、当該処理部に設けられた前記進入検知手段
    が当該処理部への前記搬送手段の進入を検知したとき
    に、前記搬送手段を停止させる搬送停止制御手段と、を
    備えることを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 それぞれが扉を備えた複数の処理部を有
    し、搬送手段によって前記複数の処理部間で基板の搬送
    を行う基板処理装置であって、 前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、前記扉が開放
    されていることを検知する扉開放検知手段と、 前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、それらの各処
    理部に前記搬送手段が進入していることを検知する進入
    検知手段と、 前記複数の処理部のいずれかに設けられた前記扉開放検
    知手段が当該処理部の扉が開放されていることを検知し
    たときに当該処理部に設けられた前記進入検知手段を能
    動化させる第1スイッチ手段と、 能動化された当該進入検知手段が当該処理部への前記搬
    送手段の進入を検知したときに、前記搬送手段への駆動
    電力の供給を遮断する第2スイッチ手段と、を備えるこ
    とを特徴とする基板処理装置。
  3. 【請求項3】 それぞれが扉を備えた複数の処理部を有
    し、搬送手段によって前記複数の処理部間で基板の搬送
    を行う基板処理装置であって、 前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、前記扉が開放
    されていることを検知して開放信号を活性化する扉開放
    検知手段と、 前記複数の処理部のそれぞれに設けられ、それらの各処
    理部に前記搬送手段が進入していることを検知して進入
    信号を活性化する進入検知手段と、 前記複数の処理部のうちのいずれかの処理部についての
    前記開放信号と当該処理部についての前記進入信号との
    論理積によって得られる信号が活性化されているときに
    前記搬送手段を停止させる搬送停止手段と、を備えるこ
    とを特徴とする基板処理装置。
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