JP2005148427A - 焦点板原盤及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン基板1の全面にフォトレジスト膜2で形成したマイクロレンズアレイからなる焦点板原盤において、マイクロレンズアレイを、高さ、曲率半径及び曲面形状が個々に異なる複数のマイクロレンズ2bを配列して構成する。
【選択図】図1
Description
S=(πL2 )/4×RAND()
このように乱数の活用により、無段階にレンズ高さを設定することができる。なお、発生したレンズ高さの割合は焦点板上のどの部分でも一定割合となる。
X=RAND()×2/L
Y=RAND()×L/√3
R′≦|(tan30°)X+Y+L/√3|/√〔1+(tan30°)2 〕において
R=RAND()×R′
S=πR2
2 フォトレジスト膜
2a 多段形状レジスト膜
2b マイクロレンズ
3 第1のフォトマスク
4 第1のレンズパターン
5 露光
6 第2のフォトマスク
7 第2のレンズパターン
11 第1のレンズパターンの平面形状
12 第2のレンズパターンの平面形状
13 マイクロレンズ
13a ピーク位置
21 レジスト膜
21a 残存レジスト
22 マイクロレンズ
25,26 接平面
27 マイクロレンズ
28 連結部
31 第1のレンズパターン
32 第2のレンズパターン
Claims (13)
- 平面基板全面に形成されたマイクロレンズアレイからなる焦点板原盤において、前記マイクロレンズアレイは、高さ、曲率半径及び曲面形状が個々に異なる複数種類のマイクロレンズを配列して構成されたものであることを特徴とする焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズアレイは、前記複数種類のマイクロレンズをそれぞれ一定の割合で配列して構成されていることを特徴とする請求項1に係る焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズアレイは、前記複数種類のマイクロレンズをそれぞれ任意の割合で配列して構成されていることを特徴とする請求項1に係る焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズアレイは、前記複数種類のマイクロレンズをランダムに配列して構成されていることを特徴とする請求項2又は3に係る焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズは、その断面形状が対称断面形状であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に係る焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズは、その断面形状が非対称断面形状であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に係る焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズは、対称断面形状と非対称断面形状のものが混合して配列されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に係る焦点板原盤。
- 前記マイクロレンズアレイは、マイクロレンズ間に間隙がなく、マイクロレンズ同士は接合面で鋭角的に交わるように連結されて構成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に係る焦点板原盤。
- 請求項1〜8のいずれか1項に係る焦点板原盤の製造方法において、複数枚のフォトマスクを用いて連続的に多段露光してマイクロレンズを形成することを特徴とする焦点板原盤の製造方法。
- 前記多段露光工程は、最初のフォトマスクのマイクロレンズ形成領域内に、徐々に小さくなる2番目の以降のフォトマスクのマイクロレンズ形成領域が重なるように行うことを特徴とする請求項9に係る焦点板原盤の製造方法。
- 前記2番目以降のフォトマスクのマイクロレンズ形成領域は、最初のフォトマスクのマイクロレンズ形成領域と中心が一致していることを特徴とする請求項10に係る焦点板原盤の製造方法。
- 前記2番目以降のフォトマスクのマイクロレンズ形成領域は、最初のフォトマスクのマイクロレンズ形成領域と中心が一致していないことを特徴とする請求項10に係る焦点板原盤の製造方法。
- 前記各露光工程は、マイクロレンズの非形成領域にフォトレジストが残るようなアンダー領域の露光工程であることを特徴とする請求項9〜12のいずれか1項に係る焦点板原盤の製造方法。
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