JPS59208536A - フオ−カシングスクリ−ンの製造方法 - Google Patents
フオ−カシングスクリ−ンの製造方法Info
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- JPS59208536A JPS59208536A JP8169783A JP8169783A JPS59208536A JP S59208536 A JPS59208536 A JP S59208536A JP 8169783 A JP8169783 A JP 8169783A JP 8169783 A JP8169783 A JP 8169783A JP S59208536 A JPS59208536 A JP S59208536A
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- pattern
- mask
- reticle pattern
- reticle
- manufacturing
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B13/00—Viewfinders; Focusing aids for cameras; Means for focusing for cameras; Autofocus systems for cameras
- G03B13/18—Focusing aids
- G03B13/24—Focusing screens
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Viewfinders (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、−眼レフレックスカメラ等の焦点合わせ用ピ
ント板として使用するのに好適なフォーカシングスクリ
ーンの製造方法に関するものである。
ント板として使用するのに好適なフォーカシングスクリ
ーンの製造方法に関するものである。
従来の一眼レフレックスカメラ等のピント板のマット面
、即ちフォーカシングスクリーンは、金属の表面を砂で
相く形成した型を使用し、その型の凹凸をプラスチック
材料の表面に転写して製作している。従って、その表面
は第１図に断面で示すように、鋭く尖った稜線を有する
微小な凹凸から成り、その表面で急角度に曲げられる光
線の成分が多く存在し、これがファインダを暗くする原
因になっている。この欠点を改善するため、最近では新
しい形式の明るいピント板が種々開発され、実用化され
るに至っている。
、即ちフォーカシングスクリーンは、金属の表面を砂で
相く形成した型を使用し、その型の凹凸をプラスチック
材料の表面に転写して製作している。従って、その表面
は第１図に断面で示すように、鋭く尖った稜線を有する
微小な凹凸から成り、その表面で急角度に曲げられる光
線の成分が多く存在し、これがファインダを暗くする原
因になっている。この欠点を改善するため、最近では新
しい形式の明るいピント板が種々開発され、実用化され
るに至っている。
例えば、レーザー光線によって発生するスペックルパタ
ーンの粒状性を調整し、銀塩乾板やフォトレジスト剤に
滑らかな凹凸として記録し、これを基にして金型を製作
し、アクリル板の表面に転写することによって明るく像
質の良好なフォーカシングスクリーンを得る方法が、特
開昭５３−４２７２６号、同５３−５１７５５号、同５
４−９２２３２号、同５５−８８００２号、同５５−８
９８０６号公報等により提案されている。
ーンの粒状性を調整し、銀塩乾板やフォトレジスト剤に
滑らかな凹凸として記録し、これを基にして金型を製作
し、アクリル板の表面に転写することによって明るく像
質の良好なフォーカシングスクリーンを得る方法が、特
開昭５３−４２７２６号、同５３−５１７５５号、同５
４−９２２３２号、同５５−８８００２号、同５５−８
９８０６号公報等により提案されている。
このような方法で得られたスクリーンの表面は、第２図
に示すように粒子の大きさはほぼ４〜７メＬｍ程度に細
かく滑らかな山の連なりから成り、山の高さを平均化す
ることにより拡散特性を調”整して、カメラのファイン
ダに最適のスクリーンを得ることができる。しかしこの
スクリーンの場合、平均的な粒子の大きさを調節すると
は云え、所々に拡散性の強弱が部分的に生ずるので、Ｆ
Ｎｏ、の大きなレンズや明るいレンズの絞りを絞った場
合に、スクリーン面に細かな砂をＩｌｌ※いたような粒
状性が僅かに認められる。この粒状性は在来の製法によ
るスクリーンに比較すれば格段に少ないものの、未だ改
良すべき余地を十分に残している。
に示すように粒子の大きさはほぼ４〜７メＬｍ程度に細
かく滑らかな山の連なりから成り、山の高さを平均化す
ることにより拡散特性を調”整して、カメラのファイン
ダに最適のスクリーンを得ることができる。しかしこの
スクリーンの場合、平均的な粒子の大きさを調節すると
は云え、所々に拡散性の強弱が部分的に生ずるので、Ｆ
Ｎｏ、の大きなレンズや明るいレンズの絞りを絞った場
合に、スクリーン面に細かな砂をＩｌｌ※いたような粒
状性が僅かに認められる。この粒状性は在来の製法によ
るスクリーンに比較すれば格段に少ないものの、未だ改
良すべき余地を十分に残している。
また、このような粒状性を皆無にする目的で、本出願人
は特開昭５５−９０９３１号公報で開示したように、ス
ペックルパターンの代りに特殊な干渉計を用い、２次元
的に規則的な干渉縞を発生させて規則的な凹凸を求めて
型を作り、第３図に示すような規則的表面凹凸を有する
フォーカシングスクリーンを得る方法を開発した。この
ようにして得られたスクリーンは、粒状性が全く無いの
で非常に明るいものが得られるが、スクリーンが一種の
回折格子となるので特殊なぼけ方が発生し、限定指向性
を有するために、例えばＦｌ、２〜Ｆｉｌの全ての交換
レンズに対して汎用的に使用できないという短所を有し
ている。
は特開昭５５−９０９３１号公報で開示したように、ス
ペックルパターンの代りに特殊な干渉計を用い、２次元
的に規則的な干渉縞を発生させて規則的な凹凸を求めて
型を作り、第３図に示すような規則的表面凹凸を有する
フォーカシングスクリーンを得る方法を開発した。この
ようにして得られたスクリーンは、粒状性が全く無いの
で非常に明るいものが得られるが、スクリーンが一種の
回折格子となるので特殊なぼけ方が発生し、限定指向性
を有するために、例えばＦｌ、２〜Ｆｉｌの全ての交換
レンズに対して汎用的に使用できないという短所を有し
ている。
一方、最近のフォーカシングスクリーンを製造する一方
法として、特開昭５４−８３８４６号公報に開示される
ように、マスクパターンを感光材料に露光する方法が提
案されている。第４図（ａ） 、 （ｂ）はその製法の
一例を示したものであり、例えばフォトレジスト剤にマ
スクパターンを露光して現像処理を行うと、現像された
基板ｌには第４図（ａ）に示すように残存レジスト膜２
が付着されているので、これをエツチングすれば第４図
（ｂ）に示すような刻設部３が得られる。そして、残存
レジスト膜２を除去すれば基板１上に拡散面が得られる
ことになる。しかしこの方法では、マスクパターンがラ
ンダムであると、エツチングにむらを生じ易く、またエ
ツチング岸−の制御も困難なため均質なスクリーンが得
難いという欠点がある。
法として、特開昭５４−８３８４６号公報に開示される
ように、マスクパターンを感光材料に露光する方法が提
案されている。第４図（ａ） 、 （ｂ）はその製法の
一例を示したものであり、例えばフォトレジスト剤にマ
スクパターンを露光して現像処理を行うと、現像された
基板ｌには第４図（ａ）に示すように残存レジスト膜２
が付着されているので、これをエツチングすれば第４図
（ｂ）に示すような刻設部３が得られる。そして、残存
レジスト膜２を除去すれば基板１上に拡散面が得られる
ことになる。しかしこの方法では、マスクパターンがラ
ンダムであると、エツチングにむらを生じ易く、またエ
ツチング岸−の制御も困難なため均質なスクリーンが得
難いという欠点がある。
本発明の目的は、以上述べたような従来の種々の問題点
を改善し、カメラのピント板として、粒状性が無く明る
くピント合わせが容易であり、しかも汎用性が高いとい
う理想的なスクリーンを製作するためのフォーカシング
スクリーンの製造方法を提供することにあり、その要旨
は、半規則的に図形を点在して構成したレチクルパター
ンをステップアンドリピート法によって繰り返しながら
大面積化してマスクを製作する工程と、該マスクのパタ
ーンを感光材料に滑らかな凹凸として記録する工程とを
有する方法であって、前記ステップアンドリピート法に
よってレチクルパターンを拡げて記録していく場合に、
隣接するレチクルパターンとのどの境界部においても、
構成図形の重なりや不自然な隙間等による継ぎ目が存在
しないように予め形成したレチクルパターンを用いるこ
とを特徴とする方法である。
を改善し、カメラのピント板として、粒状性が無く明る
くピント合わせが容易であり、しかも汎用性が高いとい
う理想的なスクリーンを製作するためのフォーカシング
スクリーンの製造方法を提供することにあり、その要旨
は、半規則的に図形を点在して構成したレチクルパター
ンをステップアンドリピート法によって繰り返しながら
大面積化してマスクを製作する工程と、該マスクのパタ
ーンを感光材料に滑らかな凹凸として記録する工程とを
有する方法であって、前記ステップアンドリピート法に
よってレチクルパターンを拡げて記録していく場合に、
隣接するレチクルパターンとのどの境界部においても、
構成図形の重なりや不自然な隙間等による継ぎ目が存在
しないように予め形成したレチクルパターンを用いるこ
とを特徴とする方法である。
本発明でフォーカシングスクリーンを製作するには、マ
スク１−に半規則性を有するランタムパターンを設け、
このマスクを照明してマスクパターンを最終的には滑ら
かな凹凸として形成する工程が含まれるが、先ずこのマ
スクを作成するためのレチクルパターンについて説明す
る。通常の一眼レフレックスカメラのピント板の大きさ
は約３７ ｍ ｍ ×２５ ｍ ｍ程度であるから、マ
スクの大きさはそれよりも稍々大きめの約４０ ｍｍＸ
３０ｍｍ程度になる。仮に、ファインダの倍率を５倍
とした場合に、ランダムな凹凸の個々の山と山との間隔
が約３０ｇｍ以下であれば、個々の山を肉眼で判別する
ことは困難である。このような凹凸を作るには、マスク
」−にはほぼ直径１０〜２０Ｂｍの光透過部をランダム
に配置すればよい。ただし、電子ビーム露光法等を除け
ば、４０ ｍ ｍ Ｘ３０ｍｍ程度の面積に一度にその
ようなパターンを描くことは不可能であり、通常はｌｍ
Ｘ１ｍ程度の面積に描かれた原画を１１５０〜１／１０
０程度に縮小した約２ ｍ ｍ Ｘ ２ ｍ ｍ程度の
レチクルパターンを、ステップアントリビー１・法によ
り必要な大きさになるまで繰り返して焼付ける方法が採
用されている。
スク１−に半規則性を有するランタムパターンを設け、
このマスクを照明してマスクパターンを最終的には滑ら
かな凹凸として形成する工程が含まれるが、先ずこのマ
スクを作成するためのレチクルパターンについて説明す
る。通常の一眼レフレックスカメラのピント板の大きさ
は約３７ ｍ ｍ ×２５ ｍ ｍ程度であるから、マ
スクの大きさはそれよりも稍々大きめの約４０ ｍｍＸ
３０ｍｍ程度になる。仮に、ファインダの倍率を５倍
とした場合に、ランダムな凹凸の個々の山と山との間隔
が約３０ｇｍ以下であれば、個々の山を肉眼で判別する
ことは困難である。このような凹凸を作るには、マスク
」−にはほぼ直径１０〜２０Ｂｍの光透過部をランダム
に配置すればよい。ただし、電子ビーム露光法等を除け
ば、４０ ｍ ｍ Ｘ３０ｍｍ程度の面積に一度にその
ようなパターンを描くことは不可能であり、通常はｌｍ
Ｘ１ｍ程度の面積に描かれた原画を１１５０〜１／１０
０程度に縮小した約２ ｍ ｍ Ｘ ２ ｍ ｍ程度の
レチクルパターンを、ステップアントリビー１・法によ
り必要な大きさになるまで繰り返して焼付ける方法が採
用されている。
本発明者は試みに７５ｃｍＸ７５ｃｍの面積の中に最大
径８ｍｍ、最小径４ ｍ ｍの多数の円を、円の直径・
中心位置・中心間隔について乱数を利用して配置した原
画を描き、これを最終的に１７１０００に縮小したレチ
クルパターンを製作した。従って、このマスク中の最大
円の直径は８ルｍとなるが、０．７５ｍｍＸ０．７５ｍ
ｍの面積のレチクルの継ぎ目が格子模様となり、このマ
スクを用いて作成したピント板をファインダに組込んだ
際にその格子模様が見えてしまうことが判った。この原
因を調べたところ、格子模様が目につく場合は第５図、
第６図、第７図に示す３例であることが判明した。
径８ｍｍ、最小径４ ｍ ｍの多数の円を、円の直径・
中心位置・中心間隔について乱数を利用して配置した原
画を描き、これを最終的に１７１０００に縮小したレチ
クルパターンを製作した。従って、このマスク中の最大
円の直径は８ルｍとなるが、０．７５ｍｍＸ０．７５ｍ
ｍの面積のレチクルの継ぎ目が格子模様となり、このマ
スクを用いて作成したピント板をファインダに組込んだ
際にその格子模様が見えてしまうことが判った。この原
因を調べたところ、格子模様が目につく場合は第５図、
第６図、第７図に示す３例であることが判明した。
その一つは第５図に示すような単位パターンＰ１と２２
との間の境界領域Ａにおけるパターン要素の重列であり
、この重列を避けた場合は第６図に示すように境界領域
Ａにおいて、円形パターンの密度の低下に原因する不自
然な間隙を生ずるためである。勿論、レチクルパターン
の境界を直線にして並べた場合は最善の方法であろうが
、そのような場合でも第７図に示すように境界領域Ａに
おいて不完全な円が多数個発生し、このようなマスクで
焼付けたパターンにはやはり格子状の模様が認められる
のである。
との間の境界領域Ａにおけるパターン要素の重列であり
、この重列を避けた場合は第６図に示すように境界領域
Ａにおいて、円形パターンの密度の低下に原因する不自
然な間隙を生ずるためである。勿論、レチクルパターン
の境界を直線にして並べた場合は最善の方法であろうが
、そのような場合でも第７図に示すように境界領域Ａに
おいて不完全な円が多数個発生し、このようなマスクで
焼付けたパターンにはやはり格子状の模様が認められる
のである。
先ず、本発明はこのようなステップアンドリピート法に
よる焼付けを行っても、境界領域が全く目立たないよう
なマスクの原画を作成する。第８図はマスクを作るため
のレチクルパターン１０の一例であり、−辺の長さＷ＝
１２ｍｍの正方形を例えば１２行Ｘ１２列に区切り、そ
の何れの行、何れの列をとってもマスクの開口部又は遮
光部となるハツチングを施した斜線部１１の占める面積
を例えば４／１２＝ １７３にする。また、このパター
ンは上下左右に隣接して配列していった場合に、レチク
ルパターン１０の輪郭線に一致するような如何なる正方
形でみても、各行、各列の斜線部１１の占める面積の割
合は変らず一様である。第８図のレチクルパターンを２
０Ｘ２０＝２００個並べた正方形は２４ｃｍＸ２４ｃｍ
の面積となり、それを原画として１／１００に縮小し、
２．４ｍｍＸ２．４ｍｍの面積のマスクを作成すると、
１個の正方形の大きさは２０ ｐＬｍＸ２０＃１．ｍと
なる。
よる焼付けを行っても、境界領域が全く目立たないよう
なマスクの原画を作成する。第８図はマスクを作るため
のレチクルパターン１０の一例であり、−辺の長さＷ＝
１２ｍｍの正方形を例えば１２行Ｘ１２列に区切り、そ
の何れの行、何れの列をとってもマスクの開口部又は遮
光部となるハツチングを施した斜線部１１の占める面積
を例えば４／１２＝ １７３にする。また、このパター
ンは上下左右に隣接して配列していった場合に、レチク
ルパターン１０の輪郭線に一致するような如何なる正方
形でみても、各行、各列の斜線部１１の占める面積の割
合は変らず一様である。第８図のレチクルパターンを２
０Ｘ２０＝２００個並べた正方形は２４ｃｍＸ２４ｃｍ
の面積となり、それを原画として１／１００に縮小し、
２．４ｍｍＸ２．４ｍｍの面積のマスクを作成すると、
１個の正方形の大きさは２０ ｐＬｍＸ２０＃１．ｍと
なる。
第９図はレチクルパターン１０の他の例である。この場
合、マスク上の斜線部１２を円とし、それぞれの円の中
心は第８図の斜線を施した正方形の重心と一致させる。
合、マスク上の斜線部１２を円とし、それぞれの円の中
心は第８図の斜線を施した正方形の重心と一致させる。
なお、この第９図では円の面積は４個の正方形の面積と
一致させである。
一致させである。
更に、この第９図では１行目を１３行目に、１列目を１
３列目に並べると、１２行目と１３行目及び１２列目と
１３列目の端縁の切口を一致するようにしてあり、この
レチクルパターン１０を１単位として上下左右に繰り返
して並べた場合に、境界線上の円の切口同志が隣接する
レチクルパターン１０とで完全に一致し、不完全な円形
や円の重なりが全く生ずることはない。また各行、各列
の斜線部１１の占める面積の割合も同じである。第９図
において円の直径は最終的に２２．６９．ｍとなり、隣
接円の中心間距離は最短で３３Ｂｍ、最長で５１用ｍと
している。
３列目に並べると、１２行目と１３行目及び１２列目と
１３列目の端縁の切口を一致するようにしてあり、この
レチクルパターン１０を１単位として上下左右に繰り返
して並べた場合に、境界線上の円の切口同志が隣接する
レチクルパターン１０とで完全に一致し、不完全な円形
や円の重なりが全く生ずることはない。また各行、各列
の斜線部１１の占める面積の割合も同じである。第９図
において円の直径は最終的に２２．６９．ｍとなり、隣
接円の中心間距離は最短で３３Ｂｍ、最長で５１用ｍと
している。
第１０図はレチクルパターン１０の更に別の例を示すも
のである。この第１０図において最終的な円の直径は縮
小率を１／１００とした場合に、２０ｇｍ、２４ｊＬｍ
、２８ｇｍの３種とする。また、各日を構成する釧線部
１３の中心位置は、第９図の円の中心位置と一致し、第
９図の場合と同様に境界線−１〕で隣接する円の切１１
同志が一致するようにしている。
のである。この第１０図において最終的な円の直径は縮
小率を１／１００とした場合に、２０ｇｍ、２４ｊＬｍ
、２８ｇｍの３種とする。また、各日を構成する釧線部
１３の中心位置は、第９図の円の中心位置と一致し、第
９図の場合と同様に境界線−１〕で隣接する円の切１１
同志が一致するようにしている。
本発明で得られるマスクパターンの最大の特長は、ステ
ップアンドリピート法によってレチクルパターン１０を
繰り返して露光してゆく場合に、隣接するレチクルパタ
ーン１０とのどの境界領域においても、第５図に示すよ
うなパターンの重列や第６図、第７図に示すような不自
然な間隙や継ぎ目が生じないことにあり、肉眼で格子模
様が認められることはない。
ップアンドリピート法によってレチクルパターン１０を
繰り返して露光してゆく場合に、隣接するレチクルパタ
ーン１０とのどの境界領域においても、第５図に示すよ
うなパターンの重列や第６図、第７図に示すような不自
然な間隙や継ぎ目が生じないことにあり、肉眼で格子模
様が認められることはない。
１
第１１図は境界部の目立たないマスクを作成する別の例
を示したものであり、これは計算機で発生させた単位パ
ターンを機械的に並べた第７図のマスクを改良したもの
である。その改良点ｔ−１′第７図の境界領域Ａに存在
する不完全な円について、単位パターンの隣接する行及
び重列の分布を考慮に入れて、単位パターンを機械的に
並べたときに完全な円となるようにその位置と大きさを
決めたことである。点線１４を単位パターンＰ１、Ｐ２
の左右の境界線とし、」；下の境界線についても同様に
して決めることにより、境界領域の目立たないマスクが
りηられる。なおこの場合に、円の最大径と最小径の比
は２対１よりも小さいことが望ましい。
を示したものであり、これは計算機で発生させた単位パ
ターンを機械的に並べた第７図のマスクを改良したもの
である。その改良点ｔ−１′第７図の境界領域Ａに存在
する不完全な円について、単位パターンの隣接する行及
び重列の分布を考慮に入れて、単位パターンを機械的に
並べたときに完全な円となるようにその位置と大きさを
決めたことである。点線１４を単位パターンＰ１、Ｐ２
の左右の境界線とし、」；下の境界線についても同様に
して決めることにより、境界領域の目立たないマスクが
りηられる。なおこの場合に、円の最大径と最小径の比
は２対１よりも小さいことが望ましい。
次にスクリーンの型の作り方について説明すると、前述
の方法で得られたマスクを例えばレジスト剤をコーティ
ングした基板又は銀塩乾板などから、好ましくは約ｌＯ
〜２０ルｍ程度の僅かな距離を離して露光する。この俤
かに離して露光するのは次の理由による。即ち、通常の
ＩＣパターン２ 印刷に用いられるクロムマスクの透過率分布は２（（Ｃ
ｆであり、中間的透過率を有していない。このようなマ
スクを通常のフォトレジスト剤に密着露光した場合に得
られる凹凸の断面形状は、第４図（ａ）に示したように
エツジが相当に切立ったものとなり、このエツジで光線
が急角度に曲折されるため、カメラ用のフォーカシング
スクリーンとしては不適当なものとなる。そこで、第２
図に示したような滑らかな凹凸を得るためには、マスク
と感光剤との間を数ｐＬｍ〜数１０ｐｍ程度に僅かに離
して露光することが望ましい。このようにすれば、微小
開口を通過した光線の回折効果又は光源の有する光伝播
方向の角度の拡がりにより、感光剤−にの強度分布は急
激な変化を伴うこともなく滑らかな変化となり、現像処
理後のレジスト面も第２図のような滑らかに変化したも
のとなる。感光剤が銀塩でブリーチ法によって凹争凸表
面を得る場合であっても、マスクを密着露光するとフォ
トレジスト剤の場合はど急峻ではないにしても、その断
面形状は余り好ましいものが得られない。
の方法で得られたマスクを例えばレジスト剤をコーティ
ングした基板又は銀塩乾板などから、好ましくは約ｌＯ
〜２０ルｍ程度の僅かな距離を離して露光する。この俤
かに離して露光するのは次の理由による。即ち、通常の
ＩＣパターン２ 印刷に用いられるクロムマスクの透過率分布は２（（Ｃ
ｆであり、中間的透過率を有していない。このようなマ
スクを通常のフォトレジスト剤に密着露光した場合に得
られる凹凸の断面形状は、第４図（ａ）に示したように
エツジが相当に切立ったものとなり、このエツジで光線
が急角度に曲折されるため、カメラ用のフォーカシング
スクリーンとしては不適当なものとなる。そこで、第２
図に示したような滑らかな凹凸を得るためには、マスク
と感光剤との間を数ｐＬｍ〜数１０ｐｍ程度に僅かに離
して露光することが望ましい。このようにすれば、微小
開口を通過した光線の回折効果又は光源の有する光伝播
方向の角度の拡がりにより、感光剤−にの強度分布は急
激な変化を伴うこともなく滑らかな変化となり、現像処
理後のレジスト面も第２図のような滑らかに変化したも
のとなる。感光剤が銀塩でブリーチ法によって凹争凸表
面を得る場合であっても、マスクを密着露光するとフォ
トレジスト剤の場合はど急峻ではないにしても、その断
面形状は余り好ましいものが得られない。
更には、密着露光によっても滑らかな凹凸面を有する拡
散板を得る方法を説明する。マスクと感光剤とを１０〜
数１０ｇｍ程度離して露光する場合において、感光剤を
銀塩乾板とし、露光後は通常の現像処理を行う。乾板が
ホログラフィ用のようにγが余り高くない特性のもので
あれば、乾板面上の滑らかに変化する強度分布をかなり
正確な透過率分布を有する濃度分布に変換することがで
きる。こうして得られた乾板をマスク１こ使用すれば、
密着露光によっても滑らかな凹凸分布を有する拡散板が
得られることになる。
散板を得る方法を説明する。マスクと感光剤とを１０〜
数１０ｇｍ程度離して露光する場合において、感光剤を
銀塩乾板とし、露光後は通常の現像処理を行う。乾板が
ホログラフィ用のようにγが余り高くない特性のもので
あれば、乾板面上の滑らかに変化する強度分布をかなり
正確な透過率分布を有する濃度分布に変換することがで
きる。こうして得られた乾板をマスク１こ使用すれば、
密着露光によっても滑らかな凹凸分布を有する拡散板が
得られることになる。
以」−説明したように本発明に係るフォーカシングスク
リーンの製造方法は、レチクルパターンをステップアン
ドリピート法で繰り返して大面積化する際に生ずる継ぎ
目におけるパターンの乱れを無くしたマスクを作成する
ことができ、またそのマスクを用いる光学的な焼付けを
行う過程で滑らかな凹凸の型を作ることが可能である。
リーンの製造方法は、レチクルパターンをステップアン
ドリピート法で繰り返して大面積化する際に生ずる継ぎ
目におけるパターンの乱れを無くしたマスクを作成する
ことができ、またそのマスクを用いる光学的な焼付けを
行う過程で滑らかな凹凸の型を作ることが可能である。
即ち、凹凸のパターンを人工的に制御し、凹凸部分がス
テップアンドリピート法による同期性を除けば、ランダ
ムでありながら粒状性は全く目につかなくなり、個々の
１１１の形状がなめらかな曲面を有するため、入用光が
急激に曲げられることもないという好ましいフォーカシ
ングスクリーンを実現することができる。従って、これ
を−眼レフレックスカメラ等のファインダ光学系に組込
めば明るいファインダが省１られるし、しかもランダム
ネスの導入により、ぼけの特殊性が薄められるため、如
何なる交換レンズに対しても汎用的に使用できるという
ほぼ理想的なピント板を作ることが可能である。
テップアンドリピート法による同期性を除けば、ランダ
ムでありながら粒状性は全く目につかなくなり、個々の
１１１の形状がなめらかな曲面を有するため、入用光が
急激に曲げられることもないという好ましいフォーカシ
ングスクリーンを実現することができる。従って、これ
を−眼レフレックスカメラ等のファインダ光学系に組込
めば明るいファインダが省１られるし、しかもランダム
ネスの導入により、ぼけの特殊性が薄められるため、如
何なる交換レンズに対しても汎用的に使用できるという
ほぼ理想的なピント板を作ることが可能である。
第１図、第２図は従来の製法によって作られたフォーカ
シングスクリーンの断面図、第３図は一般の２次元位相
回折格子を有するフォーカシングスクリーンの断面図、
第４図（ａ） 、 （ｂ）はエツチングによるフォーカ
シングスクリーンを作る過程を示す断面図、第５図〜第
７図は本発明の製造方法に不適当なマスクパターンを例
示した説明図、第８図〜第１０図は本発明の製造方法に
適当なし５ チクルパターンを例示した説明図、第１１圀は本発明の
製造方法に適した他のレチクルパターンを例示し、た説
明図である。 符５−１０はレチクルパターン、１１．１２．１３は斜
線部、Ｐｌ、Ｐ２は単位パターン、Ａは境界領域である
。 特許出願人 キャノン株式会社 ６ ２４ 第４図 （Ｇ） 第５図 第６図 Ｐｉ Ｐ２第８図 第１１図 Ｐｌ Ｐ２ ２４７−
シングスクリーンの断面図、第３図は一般の２次元位相
回折格子を有するフォーカシングスクリーンの断面図、
第４図（ａ） 、 （ｂ）はエツチングによるフォーカ
シングスクリーンを作る過程を示す断面図、第５図〜第
７図は本発明の製造方法に不適当なマスクパターンを例
示した説明図、第８図〜第１０図は本発明の製造方法に
適当なし５ チクルパターンを例示した説明図、第１１圀は本発明の
製造方法に適した他のレチクルパターンを例示し、た説
明図である。 符５−１０はレチクルパターン、１１．１２．１３は斜
線部、Ｐｌ、Ｐ２は単位パターン、Ａは境界領域である
。 特許出願人 キャノン株式会社 ６ ２４ 第４図 （Ｇ） 第５図 第６図 Ｐｉ Ｐ２第８図 第１１図 Ｐｌ Ｐ２ ２４７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 半規則的に図形を点在して構成したレチクルパタ
ーンをステップアンドリピート法によって繰り返しなが
ら大面積化してマスクを製作する工程と、該マスクのパ
ターンを感光材料に滑らかな凹凸として記録する工程と
を有する方法であって、前記ステップアンドリピート法
によってレチクルパターンを拡げて記録していく場合に
、隣接するレチクルパターンとのどの境界部においても
、構成図形の重なりや不自然な隙間等による継ぎ目が存
在しないように予め形成したレチクルパターンを用いる
ことを特徴とするフォーカシングスクリーンの製造方法
。 ２、前記レチクルパターンは、構成図形により形成され
た縦、横の単位幅の濃度分布が常に一定になるようにし
た特許請求の範囲第１項に記載のフォーカシングスクリ
ーンの製造方法。 ３、前記レチクルパターンの各構成図形を正方形とした
特許請求の範囲第１項に記載のフォーカシングスクリー
ンの製造方法。 ４、前記レチクルパターンの各構成図形を円形とした特
許請求の範囲第１項に記載のフォーカシングスクリーン
の製造方法。 ５、前記円形の構成図形から成るレチクルパターンの境
界部における不完全円は、レチクルパターンを隣接する
ことにより完全円となるようにした特許請求の範囲第４
項に記載のフォーカシングスクリーンの製造方法。 ６、前記マスクのパターンを感光材料に記録する場合に
、マスクと感光材料との間を僅かに離して露光するよう
にした特許請求の範囲第１項に記載のフォーカシングス
クリーンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8169783A JPS59208536A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | フオ−カシングスクリ−ンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8169783A JPS59208536A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | フオ−カシングスクリ−ンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59208536A true JPS59208536A (ja) | 1984-11-26 |
| JPH0544652B2 JPH0544652B2 (ja) | 1993-07-07 |
Family
ID=13753560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8169783A Granted JPS59208536A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | フオ−カシングスクリ−ンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59208536A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01280740A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-10 | Canon Inc | 位相型焦点板 |
| US5119235A (en) * | 1989-12-21 | 1992-06-02 | Nikon Corporation | Focusing screen and method of manufacturing same |
| WO2003023462A1 (fr) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Nec Corporation | Production de donnees de motif depourvues de tout chevauchement ou de toute separation excessive des motifs de points adjacents les uns aux autres |
| JP2005148427A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Olympus Corp | 焦点板原盤及びその製造方法 |
| US11125413B2 (en) | 2015-10-29 | 2021-09-21 | Dexerials Corporation | Diffuser plate, designing method of diffuser plate, manufacturing method of diffuser plate, display device, projection device, and lighting device |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9563877B2 (en) * | 2008-03-11 | 2017-02-07 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Customizable controls provided by a messaging application for performing selected actions |
-
1983
- 1983-05-12 JP JP8169783A patent/JPS59208536A/ja active Granted
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01280740A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-10 | Canon Inc | 位相型焦点板 |
| US5119235A (en) * | 1989-12-21 | 1992-06-02 | Nikon Corporation | Focusing screen and method of manufacturing same |
| WO2003023462A1 (fr) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Nec Corporation | Production de donnees de motif depourvues de tout chevauchement ou de toute separation excessive des motifs de points adjacents les uns aux autres |
| CN1324331C (zh) * | 2001-09-07 | 2007-07-04 | 日本电气株式会社 | 相邻点图案之间无重叠或无过大距离的图案数据的产生 |
| US7612847B2 (en) | 2001-09-07 | 2009-11-03 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Generation of pattern data with no overlapping or excessive distance between adjacent patterns |
| JP2005148427A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Olympus Corp | 焦点板原盤及びその製造方法 |
| JP4527967B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2010-08-18 | オリンパス株式会社 | 焦点板原盤及びその製造方法 |
| US11125413B2 (en) | 2015-10-29 | 2021-09-21 | Dexerials Corporation | Diffuser plate, designing method of diffuser plate, manufacturing method of diffuser plate, display device, projection device, and lighting device |
| US11592156B2 (en) | 2015-10-29 | 2023-02-28 | Dexerials Corporation | Diffuser plate, designing method of diffuser plate, manufacturing method of diffuser plate, display device, projection device, and lighting device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0544652B2 (ja) | 1993-07-07 |
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