JPH0544652B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一眼レフレツクスカメラ等の焦点合
わせ用ピント板として使用するに好適なフオーカ
シングスクリーンの製造方法に関するものであ
る。

従来の一眼レフレツクスカメラ等のピント板の
マツト面、即ちフオーカシングスクリーンは、金
属の表面を砂で形成した型を使用し、その型の凹
凸をプラスチツク材料で表面に転写して製作して
いる。従つて、その表面は第１図に断面で示すよ
うに、鋭く尖つた稜線を有する微小な凹凸から成
り、その表面で急角度に曲げられる光線の成分が
多く存在し、これがフアインダを暗くする原因に
なつている。この欠点を改善するいため、最近で
は新しい形式の明るいピント板が種々開発され実
用化されるに至つている。例えば、レーザー光線
によつて発生するスペツクルパターンの粒状性を
調整し、銀塩乾板やフオトレジスト剤に滑らかな
凹凸として記録し、これを基にして金型を製作
し、アクリル板の表面に転写することによつて明
るく像画質の良好なフオーカシングスクリーンを
得る方法が、特開昭53−42726号、同53−51755
号、同54−92232号、同55−88002号、同55−
89806号の各公報等により提案されている。この
ような方法で得られたスクリーンの表面は、第２
図に示すように粒子の大きさはほぼ４〜7μｍ程
度に細かく滑なかな山の連なりから成り、山の高
さを平均化することにより拡散特性を調整して、
カメラのフアインダに最適のスクリーンを得るこ
とができる。しかしこのスクリーンの場合、平均
的な粒子の大きさを調節するとは云え、所々に拡
散性の強弱が部分的に生ずるので、ＦNo.の大きな
レンズや明るいレンズの絞りを絞つた場合に、ス
クリーン面に細かな砂を撒いたような粒状性が僅
かに認められる。この粒状性は在来の製法による
スクリーンに比較すれば格段に少ないものの、未
だ改良すべき余地を十分に残している。

また、このような粒状性を皆無にする目的で、
本出願人は特開昭55−90931号公報で開示したよ
うに、スペツクルパターンの代りに特殊な干渉計
を用い、二次元的に規則的な干渉縞を発生させて
規則的な凹凸を求めて型を作り、第３図に示すよ
うな規則的表面凹凸を有するフオーカシングスク
リーンを得る方法を開発した。

一方、最近のフオーカシングスクリーンを製造
する一方向として、特開昭54−83846号公報に開
示されるように、マスクパターンを感光材料に露
光する方法が提案されている。第４図ａ，ｂはそ
の製法の一例を示したものであり、例えばフオト
レジスト剤にマスクパターンを露光し現像処理を
行うと、現像された基板１には第４図ａに示すよ
うな残存レジスト膜２が付着されているので、こ
れをエツチングすれば第４図ｂに示すような刻設
部３が得られる。そして、残存レジスト膜２を除
去すれば基板１上に拡散面が得られることにな
る。本発明の目的は、リソグラフイ技術を用いた
フオーカシングスクリーンに新規な製造方法を提
供することにある。

この目的を達成するために、本発明に係るフオ
ーカシングスクリーンの製造方法は、多数個の図
形を点在させたレチクルパターンから、ステツプ
アンドリピート法により該レチクルパターンが並
べて記録されたマスクを製作する工程と、該マス
クのパターンで感光材料を露光する工程と、該露
光工程により感光材料上に記録されたパターンを
凹凸パターンに変換する工程とを有するフオーカ
シングスクリーンの製造方法であつて、前記マス
ク製作する工程は、前記マスクの互いに隣接する
レチクルパターンの図形同志が互いに接すること
なく、各レチクルパターンが、密に記録されて前
記スクリーンの予め決めた凹凸に対応したパター
ンを形成するように、前記レチクルパターンの多
数個の図形のそれぞれの大きさと位置を定める工
程を含むことを特徴とする方法である。

本発明ではフオーカシングスクリーンを製作す
るには、マスク上に半規則性を有するランダムパ
ターンを設け、このマスクを照明してマスクパタ
ーンを最終的には滑らかな凹凸として形成する工
程が含まれるが、先ず、このマスクを作成するた
めのレチクルパターンについて説明する。通常の
一眼レフレツクスカメラのピント板の大きさは約
37mm×25mm程度であるから、マスクの大きさはそ
れよりも稍々大きめの約40mm×30mm程度になる。
仮に、フアインダの倍率を５倍とした場合に、ラ
ンダムな凹凸の個々の山と山との間隔が約30μｍ
以下であれば、個々の山を肉眼で判別することは
困難である。このような凹凸を作るには、マスク
上にはほぼ直径10〜20μｍの光透過部をランダム
に配置すればよい。

このような40mm×30mm程度の大きさのマスクを
作成する方法としては、電子ビーム露光法とステ
ツプアンドリピート露光法がある。ただし、電子
ビーム露光法によるパターン画面で、このような
大きさのマスクを作成しようとすると、時間とコ
ストが比較的多く費やされるので、電子ビーム露
光法は好ましい方法とは云えない。従つて、１ｍ
×１ｍ程度の面積に描かれた原画を1/50〜1/100
程度に縮小した約２mm×２mm程度のレチクルパタ
ーンを、ステツプアンドリピート法により必要な
大きさになるまで繰り返し焼き付けて、マスクを
作成する方法を採用することが好ましい。

本発明者は試みに75cm×75cmの面積の中に最大
径８mm、最小径４mmの多数の円を、円の直径・中
心位置・中心間隔について乱数を利用して配置し
た原画を描き、これを最終的に1/1000に縮小した
レチクルパターンを製作した。従つて、このマス
ク中の最大円の直径は8μｍとなるが、0.75mm×
0.75mmの面積のレチクルの継ぎ目が格子模様とな
り、このマスクを用いて作成したピント板をフア
インダに組込んだ際にその格子模様が見えてしま
うことが判つた。この原因を調べたところ、格子
模様が目につく場合は第５図、第６図、第７図に
示す３例であることが判明した。

その１つは第５図に示すように、単位パターン
Ｐ１とＰ２との間の境界領域Ａにおけるパターン
要素の重列であり、この重列を避けた場合には第
６図に示すように境界領域Ａにおいて、円形パタ
ーンの密度の低下に原因する不自然な間〓を生ず
るためである。勿論、レチクルパターンの境界を
直線にして並べた場合は最善の方法であろうが、
そのような場合でも第７図に示すように境界領域
Ａにおいて不完全な円が多数個発生し、このよう
なマスクで焼付けたパターンにはやはり格子状の
模様が認められるのである。

第８図は本発明の一実施例を示す説明図であ
り、フオーカシングスクリーンの製造に使用する
マスクを示している。これは計算機で発生させた
単位パターンを機械的に並べた第７図のマスクを
改良したものである。その改良点は第７図の境界
領域Ａに存在する不完全な円について、単位パタ
ーンの隣接する行及び列の分布を考慮に入れて、
単位パターンを機械的に並べたときに完全な円と
なるようにその位置と大きさを決めたことであ
る。点線１４を単位パターンＰ１，Ｐ２の左右の
境界線とし、上下の境界線についても同様にして
決めることにより、境界領域の目立たないマスク
が得られる。なお、この場合に円の最大径と最小
径の比は２対１よりも小さいことが望ましい。

次に、スクリーンの型の作り方について説明す
ると、前述の方法で得られたマスクを例えばレジ
スト剤をコーテイングした基板又は銀塩乾板など
から、好ましくは約10〜20μｍ程度の僅かな距離
を離して露光する。この僅かに離して露光するの
は次の理由による。即ち、通常のICパターン印
刷に用いられるクロムマスクの透過率分布は２値
であり、中間的透過率を有していない。このよう
なマスクを通常のフオトレジスト剤に密着露光し
た場合に得られう凹凸の断面形状は、第４図ａに
示したようにエツジが相当に切立つたものとな
り、このエツジで光線が急角度に曲折されるた
め、カメラ用のフオーカシングスクリーンとして
は不適当なものとなる。そこで、第２図に示した
ような滑らかな凹凸を得るためには、マスクと感
光剤との間を数μｍ〜数10μｍ程度に僅かに離し
て露光することが望ましい。このようにすれば、
微小開口を通過した光線の回折効果又は光源の有
する光伝播方向の角度の拡がりにより、感光剤上
の強度分布は急激な変化を伴うこともなく滑なか
ら変化となり、現像処理後のレジスト面も第２図
に示すような滑なかに変化したものとなる。感光
剤が銀塩でブリーチ法によつて凹凸表面を得る場
合であつても、マスクを密着露光するとフオトレ
ジスト剤の場合ほど急峻ではないにしても、その
断面形状は余り好ましいものが得られない。

更には、密着露光によつても滑なかな凹凸面を
有する拡散板を得る方法を説明する。マスクと感
光剤とを10〜数10μｍ程度離して露光する場合に
おいて、感光剤を銀塩乾板として露光後は通常の
現像処理を行う。乾板がホログラフイ用のように
γが余り高くない特性のものであれば、乾板面上
の滑らかに変化する強度分布をかなり正確な透過
率分布を有する濃度分布に変換することができ
る。こうして得られた乾板をマスクに使用すれ
ば、密着露光によつても滑なかな凹凸分布を有す
る拡散板が得られることになる。

以上説明したように本発明に係るフオーカシン
グスクリーンの製造方法は、レチクルパターンを
ステツプアンドリピート法で繰り返して大面積化
する際に生ずる継ぎ目におけるパターンの乱れを
無くしてマスクを作成することができ、またその
マスクを用いる光学的な焼付けを行う過程で滑ら
かな凹凸の型を作ることが可能である。即ち、凹
凸のパターンを人工的に制御し、凹凸部分がステ
ツプアンドリピート法による同期性を除けば、ラ
ンダムでありながら粒状性は全く目につかなくな
り、個々の山の形状がなめらかな曲面を有するた
め、入射光が急激に曲げられることもないという
好ましいフオーカシングスクリーンを実現するこ
とができる。従つて、これを一眼レフレツクスカ
メラ等のフアインダ光学系に組込めば明るいフア
インダが得られるし、しかもランダムネスの導入
により、ぼけの特殊性が薄められるため、如何な
る交換レンズに対しても汎用的に使用できるとい
うほぼ理想的なピント板を作ることが可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は従来の製法によつて作られた
フオーカシングスクリーンの断面図、第３図は一
般に二次元位相回折格子を有するフオーカシング
スクリーンの断面図、第４図ａ，ｂはエツチング
によるフオーカシングスクリーンを作る過程を示
す断面図、第５図〜第７図は本発明に直接関係し
ないマスクパターンを例示した説明図、第８図は
本発明の製造方法に用いるマスクパターンを例示
した説明図である。 符号Ｐ１，Ｐ２は単位パターン、Ａは境界領域
である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 多数個の図形を点在させたレチクルパターン
   から、ステツプアンドリピート法により該レチク
   ルパターンが並べて記録されたマスクを製作する
   工程と、該マスクのパターンで感光材料を露光す
   る工程と、該露光工程により感光材料上に記録さ
   れたパターンを凹凸パターンに変換する工程とを
   有するフオーカシングスクリーンの製造方法であ
   つて、前記マスク製作する工程は、前記マスクの
   互いに隣接するレチクルパターンの図形同志が互
   いに接することなく、各レチクルパターンが、密
   に記録されて前記スクリーンの予め決めた凹凸に
   対応したパターンを形成するように、前記レチク
   ルパターンの多数個の図形のそれぞれの大きさと
   位置を定める工程を含むことを特徴とするフオー
   カシングスクリーンの製造方法。