JPS633291B2 - - Google Patents
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- JPS633291B2 JPS633291B2 JP53165092A JP16509278A JPS633291B2 JP S633291 B2 JPS633291 B2 JP S633291B2 JP 53165092 A JP53165092 A JP 53165092A JP 16509278 A JP16509278 A JP 16509278A JP S633291 B2 JPS633291 B2 JP S633291B2
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
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- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
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- G02B3/0043—Inhomogeneous or irregular arrays, e.g. varying shape, size, height
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学的な二次元周期性パターンを空
間中に生じさせ、更にそのパターンを光学的に記
録することによつて微小構造素子配列体を製造す
る方法に関するものである。ここでいう光学的記
録法には、可視光以外の光による記録も含まれ
る。このような微小凹凸構造及び微小網目構造等
の微小構造素子配列体は、カメラの焦点板等の光
学の分野のみならず、たとえば、研磨剤の粒度選
択用フイルター、網点スクリーン等、化学、印
刷、機械等の諸分野で使用し得るものである。本
明細書においては、光学の分野で用いられるもの
に重点をおいて微小構造素子配列体の製法及び好
ましい用途について説明する。
間中に生じさせ、更にそのパターンを光学的に記
録することによつて微小構造素子配列体を製造す
る方法に関するものである。ここでいう光学的記
録法には、可視光以外の光による記録も含まれ
る。このような微小凹凸構造及び微小網目構造等
の微小構造素子配列体は、カメラの焦点板等の光
学の分野のみならず、たとえば、研磨剤の粒度選
択用フイルター、網点スクリーン等、化学、印
刷、機械等の諸分野で使用し得るものである。本
明細書においては、光学の分野で用いられるもの
に重点をおいて微小構造素子配列体の製法及び好
ましい用途について説明する。
光学の分野において知られる微小構造素子配列
としては、ハエノ目レンズ、マイクロプリズム等
があり、カメラのフアインダースクリーン及び焦
点整合装置、プロジエクター用スクリーン等、映
像の投影装置として用いられ得るほか、照明装
置、情報処理装置の一部として広い用途が考えら
れる。
としては、ハエノ目レンズ、マイクロプリズム等
があり、カメラのフアインダースクリーン及び焦
点整合装置、プロジエクター用スクリーン等、映
像の投影装置として用いられ得るほか、照明装
置、情報処理装置の一部として広い用途が考えら
れる。
近年、特にカメラのフアインダースクリーンと
して通常用いられる拡散板の欠点として暗さが指
摘され、種々の改善策が試みられている。そのよ
うな改善策の一つとして、ハエノ目レンズをフア
インダースクリーンとして用いることが考えられ
る。カメラのフアインダースクリーンとして、ハ
エノ目レンズを用いる場合は、後に述べる理由に
より、一個一個のレンズの直径が、10μ程度かそ
れ以下であることが望ましい。しかしながら、従
来、そのような微小レンズを密に並べたハエノ目
レンズの製法が無いために、カメラにおけるハエ
ノ目レンズスクリーンは未だ実現されていない。
して通常用いられる拡散板の欠点として暗さが指
摘され、種々の改善策が試みられている。そのよ
うな改善策の一つとして、ハエノ目レンズをフア
インダースクリーンとして用いることが考えられ
る。カメラのフアインダースクリーンとして、ハ
エノ目レンズを用いる場合は、後に述べる理由に
より、一個一個のレンズの直径が、10μ程度かそ
れ以下であることが望ましい。しかしながら、従
来、そのような微小レンズを密に並べたハエノ目
レンズの製法が無いために、カメラにおけるハエ
ノ目レンズスクリーンは未だ実現されていない。
本発明の目的は、このような微小ハエノ目レン
ズスクリーンの製造法を提供するものである。本
発明の他の目的は、配光特性を制御した像投影ス
クリーンの製造法を提供するものである。更に本
発明の他の目的は、回転非対称な配光特性を有す
るスクリーンの容易な製造法を提供するものであ
る。更に本発明の目的は、微小構造素子の配列に
関し、二次元的に規則的な配列からなるスクリー
ンの製造法を提供するものである。
ズスクリーンの製造法を提供するものである。本
発明の他の目的は、配光特性を制御した像投影ス
クリーンの製造法を提供するものである。更に本
発明の他の目的は、回転非対称な配光特性を有す
るスクリーンの容易な製造法を提供するものであ
る。更に本発明の目的は、微小構造素子の配列に
関し、二次元的に規則的な配列からなるスクリー
ンの製造法を提供するものである。
更に本発明の目的は、このような微小構造素子
配列が周期性を有する状態で像投影用スクリーン
として用いられる場合において、しばしば現われ
るモアレ縞ノイズが、像観察系に悪影響を及ぼさ
ないような対策を講じた像投影用装置を提供する
ことにある。
配列が周期性を有する状態で像投影用スクリーン
として用いられる場合において、しばしば現われ
るモアレ縞ノイズが、像観察系に悪影響を及ぼさ
ないような対策を講じた像投影用装置を提供する
ことにある。
また、本発明の他の目的は、使用分野が、光学
産業に限られない、μオーダーの微小構造素子配
列、たとえば網目スクリーンの安価な製造法を提
供することにある。
産業に限られない、μオーダーの微小構造素子配
列、たとえば網目スクリーンの安価な製造法を提
供することにある。
本発明の一実施例として、ハエノ目レンズ状の
微小構造素子配列を有するスクリーンの作成法に
ついて、第１図を用いて詳しく説明する。第１図
において、１はレーザー光束、２，３はビームエ
キスパンダー系、４は３個のレンズ５1〜５3を保
持するレンズホルダー、６1〜６3は３個の凸レン
ズにより生ずる３個の実点光源であり、場合によ
つては、その位置に、レンズについたゴミ等によ
つて生ずるノイズを除去するために点光源の大き
さよりやや大きめの微小開口を有したフイルター
７を設けてもよい。８はパターン記録部材で、そ
の面上における各点光源からの光束の広がり９1
〜９3が重なり合う部分１０には三光束の干渉縞
が生ずる。三つの点光源６1〜６3がほぼ正三角形
の頂点に位置する場合は、この干渉パターン第２
図で与えられる如く二次元周期性を有する。但し
第２図のパターンは、フイルター７を用いず、更
に直接顕微鏡を用いて撮影したため干渉ノイズが
重なつている。後に示す第４〜６図も同様であ
る。このような干渉模様を銀塩乾板に記録し、公
知の漂白処理によつて、光の強度分布をゼラチン
層の凹凸分布に変換したところ、微小レンズが密
に並んだハエノ目レンズを得た。このような凹凸
構造は、種々公知のコピー法を用いて、大量生産
が可能である。
微小構造素子配列を有するスクリーンの作成法に
ついて、第１図を用いて詳しく説明する。第１図
において、１はレーザー光束、２，３はビームエ
キスパンダー系、４は３個のレンズ５1〜５3を保
持するレンズホルダー、６1〜６3は３個の凸レン
ズにより生ずる３個の実点光源であり、場合によ
つては、その位置に、レンズについたゴミ等によ
つて生ずるノイズを除去するために点光源の大き
さよりやや大きめの微小開口を有したフイルター
７を設けてもよい。８はパターン記録部材で、そ
の面上における各点光源からの光束の広がり９1
〜９3が重なり合う部分１０には三光束の干渉縞
が生ずる。三つの点光源６1〜６3がほぼ正三角形
の頂点に位置する場合は、この干渉パターン第２
図で与えられる如く二次元周期性を有する。但し
第２図のパターンは、フイルター７を用いず、更
に直接顕微鏡を用いて撮影したため干渉ノイズが
重なつている。後に示す第４〜６図も同様であ
る。このような干渉模様を銀塩乾板に記録し、公
知の漂白処理によつて、光の強度分布をゼラチン
層の凹凸分布に変換したところ、微小レンズが密
に並んだハエノ目レンズを得た。このような凹凸
構造は、種々公知のコピー法を用いて、大量生産
が可能である。
また、ICパターン記録の分野で知られるクロ
ムコートガラスに、光溶解形のレジストを塗布
し、第２図のパターンを記録、現像処理後、エツ
チング処理することによつて、干渉模様と相補的
な網目構造が得られた。クロム蒸着膜を、薄い金
属シートに置きかえれば、簡単に完全な微小網目
構造が得られる。
ムコートガラスに、光溶解形のレジストを塗布
し、第２図のパターンを記録、現像処理後、エツ
チング処理することによつて、干渉模様と相補的
な網目構造が得られた。クロム蒸着膜を、薄い金
属シートに置きかえれば、簡単に完全な微小網目
構造が得られる。
記録部材８としては、光源の波長に応じ、フオ
トポリマー、サーモプラスチツク、ダイクロメー
テイツドゼラチン、カルコーゲンガラス等が目的
に合せて使用される。更にこれらの感材の処理法
によつて、微小周期構造を凹凸構造としたものと
か内部の屈折率分布としたものとかにすることが
できる。
トポリマー、サーモプラスチツク、ダイクロメー
テイツドゼラチン、カルコーゲンガラス等が目的
に合せて使用される。更にこれらの感材の処理法
によつて、微小周期構造を凹凸構造としたものと
か内部の屈折率分布としたものとかにすることが
できる。
第１図に示した干渉パターン発生装置におい
て、レンズ５1〜５3は、凹レンズでもよいし、ま
た干渉縞を生じさせる光束は、発散光束に限ら
ず、収束光束、平行光束、その他干渉パターンに
不規則な周期を形成しない程度の収差を帯びたも
のでもよい。
て、レンズ５1〜５3は、凹レンズでもよいし、ま
た干渉縞を生じさせる光束は、発散光束に限ら
ず、収束光束、平行光束、その他干渉パターンに
不規則な周期を形成しない程度の収差を帯びたも
のでもよい。
特に、第１図に示した方法では、干渉パターン
に歪みが入るので、広い面積にわたつて歪みのな
いパターンを得たい場合には、平面波同志の干渉
にすることが望ましい。多少収差が入る可能性は
あるが、簡単に三本の平面波を得るには、第３図
の光学系を用いればよい。
に歪みが入るので、広い面積にわたつて歪みのな
いパターンを得たい場合には、平面波同志の干渉
にすることが望ましい。多少収差が入る可能性は
あるが、簡単に三本の平面波を得るには、第３図
の光学系を用いればよい。
第３図において、１１はレーザー光束、１２，
１３はビームエキスパンダー光学系、１４はレン
ズ配列１５1〜１５3のホルダー、１６1〜１６3は
点光源配列で、１６1〜１６3の３点で決まる面は
レンズ１７の焦点面と一致させてあるため、レン
ズ１７からは、三本の平行光束１８1〜１８3が出
射し、光記録材料１９に入射する。レンズ１２と
１３の間隔を調整することにより、三本の平行光
束の感材面での照射領域を、領域２０として重ね
合せることもできる。第２図における個々のパタ
ーンの大きさは、第１，３図における点光源同志
の間隔を変えたり、第１図における点光源配列
と、パターン記録材料との間隔を変えることによ
つて簡単に制御でき、大きさ1μ前後のパターン
を得るのも容易である。
１３はビームエキスパンダー光学系、１４はレン
ズ配列１５1〜１５3のホルダー、１６1〜１６3は
点光源配列で、１６1〜１６3の３点で決まる面は
レンズ１７の焦点面と一致させてあるため、レン
ズ１７からは、三本の平行光束１８1〜１８3が出
射し、光記録材料１９に入射する。レンズ１２と
１３の間隔を調整することにより、三本の平行光
束の感材面での照射領域を、領域２０として重ね
合せることもできる。第２図における個々のパタ
ーンの大きさは、第１，３図における点光源同志
の間隔を変えたり、第１図における点光源配列
と、パターン記録材料との間隔を変えることによ
つて簡単に制御でき、大きさ1μ前後のパターン
を得るのも容易である。
多光束を得る手段としては、このほかビームス
プリツターや各種のプリズム等が知られている。
プリツターや各種のプリズム等が知られている。
更に点光源の配列としては、第１図又は第３図
の如く、三角形に並べる以外に、複数個の三角形
の頂点にそれぞれ点光源を配置するもの、ある点
に対してほぼ点対称な２個の点光源を少なくとも
２組含むように配列したもの、菱形に配列したも
の、矩形に置いたもの、リング上に置いたもの、
楕円上に配列したもの等の規則的な配列以外に、
不規則配列も考えられる。点光源の配列が不規則
であつても、得られる干渉パターンに周期性があ
れば本発明の主旨を逸脱するものではない。
の如く、三角形に並べる以外に、複数個の三角形
の頂点にそれぞれ点光源を配置するもの、ある点
に対してほぼ点対称な２個の点光源を少なくとも
２組含むように配列したもの、菱形に配列したも
の、矩形に置いたもの、リング上に置いたもの、
楕円上に配列したもの等の規則的な配列以外に、
不規則配列も考えられる。点光源の配列が不規則
であつても、得られる干渉パターンに周期性があ
れば本発明の主旨を逸脱するものではない。
即ち、４つの点光源の配列１９1〜１９4が第８
図に示す如く不規則であつても、ある直線方向に
沿つた強度分布は、たとえば第９図に示すような
規則性を有する。
図に示す如く不規則であつても、ある直線方向に
沿つた強度分布は、たとえば第９図に示すような
規則性を有する。
第９図において、区間Δx内では規則性はない
が、より大きなスケールで見れば、Δxの周期構
造を有している。規則的配列の場合の他の実施例
として、菱形に置いた場合の二次元周期性干渉パ
ターンを第４図に示す。この場合、個々の微細パ
ターンは、菱形の角がとれて楕円に近い形状をし
ている。点光源の配列を長方形に置いた場合の二
次元周期性パターンを第５図に示す。第５図にお
いて、１個のパターンは角がとれた長方形となつ
ている。正方形配列の場合はパターンも角がとれ
た正方形になる。
が、より大きなスケールで見れば、Δxの周期構
造を有している。規則的配列の場合の他の実施例
として、菱形に置いた場合の二次元周期性干渉パ
ターンを第４図に示す。この場合、個々の微細パ
ターンは、菱形の角がとれて楕円に近い形状をし
ている。点光源の配列を長方形に置いた場合の二
次元周期性パターンを第５図に示す。第５図にお
いて、１個のパターンは角がとれた長方形となつ
ている。正方形配列の場合はパターンも角がとれ
た正方形になる。
以上、各種の実施例で示した如く、本発明の方
法によれば、点光源の配列法を変えることによつ
て、二次元周期性干渉パターンのサイズ、形状、
分布状態を簡単に制御できる。従つて、そのよう
なパターンを種々公知の記録方法、たとえば銀塩
ブリーチ法、フオトレジ法、サーモプラスチツク
法によつて凹凸分布に変換し、スクリーンとして
用いた場合、配光特性を制御できることとなり、
画像投影の分野で望まれていた種々のスクリー
ン、即ち、限定指向性スクリーン、回転非対称配
光特性スクリーン、粒状性の目立たないクリアー
なスクリーンが容易に実現可能となつた。
法によれば、点光源の配列法を変えることによつ
て、二次元周期性干渉パターンのサイズ、形状、
分布状態を簡単に制御できる。従つて、そのよう
なパターンを種々公知の記録方法、たとえば銀塩
ブリーチ法、フオトレジ法、サーモプラスチツク
法によつて凹凸分布に変換し、スクリーンとして
用いた場合、配光特性を制御できることとなり、
画像投影の分野で望まれていた種々のスクリー
ン、即ち、限定指向性スクリーン、回転非対称配
光特性スクリーン、粒状性の目立たないクリアー
なスクリーンが容易に実現可能となつた。
特に、第４図、第５図の如く、縦方向と横方向
で基本周波数が異なるパターンは、回転非対称な
配光特性を有するスクリーン作成に好適であり、
そのようなスクリーンは、カメラ等、フアインダ
ースクリーンからの拡散光の一部を使つて測光す
る場合とか、プロジエクタースクリーンのよう
に、縦方向の拡散性をおさえ、横方向の拡散性を
大きくしたい場合とかに目的に対して有効であ
る。
で基本周波数が異なるパターンは、回転非対称な
配光特性を有するスクリーン作成に好適であり、
そのようなスクリーンは、カメラ等、フアインダ
ースクリーンからの拡散光の一部を使つて測光す
る場合とか、プロジエクタースクリーンのよう
に、縦方向の拡散性をおさえ、横方向の拡散性を
大きくしたい場合とかに目的に対して有効であ
る。
しかしながら、第２図、第４，５図等、周期構
造を有するパターンから作成したスクリーンを像
投影装置に用いる場合には、投影像に含まれるか
も知れない周期性パターンとの間でモアレ縞が発
生する可能性がある。たとえばカラーテレビのシ
ヤドウマスクのマトリツクス構造と、画像、たと
えば人物が着ている洋服の格子縞との間で生じる
モアレ縞はよく経験され、画像が非常に見づらく
なる。このようなモアレ縞の発生を防ぐ方法とし
ては、スクリーンから、周期構造を排除すること
が考えられる。即ち、本発明の実施例に示した如
く、質の良い点光源の配列を用いた場合には、第
２，４，５図に示されるような二次元周期構造を
有するので、点光源の配列の光学的な質を削減し
てやればよい。そのような例の１つとして、二重
リング上に点光源を並べた場合のパターンを第６
図に示す。この点光源の配列は、第７図に示すよ
うなカメラに組込まれた露出計のためのプラスチ
ツクレンズ配列を用いて得られた。この場合、レ
ンズの配列は、巨視的に見れば規則性を有してい
るが、波長オーダーで見ればレンズの材質、レン
ズの面形状、レンズ間隔等に不均質性や不規則性
があるため、干渉パターンも、不規則なスペツク
ル様パターンとなつている。他方、スクリーンか
ら周期構造を排除しない場合においても、投影観
察光学系の最適設計によつてモアレの影響を低減
することもできる。
造を有するパターンから作成したスクリーンを像
投影装置に用いる場合には、投影像に含まれるか
も知れない周期性パターンとの間でモアレ縞が発
生する可能性がある。たとえばカラーテレビのシ
ヤドウマスクのマトリツクス構造と、画像、たと
えば人物が着ている洋服の格子縞との間で生じる
モアレ縞はよく経験され、画像が非常に見づらく
なる。このようなモアレ縞の発生を防ぐ方法とし
ては、スクリーンから、周期構造を排除すること
が考えられる。即ち、本発明の実施例に示した如
く、質の良い点光源の配列を用いた場合には、第
２，４，５図に示されるような二次元周期構造を
有するので、点光源の配列の光学的な質を削減し
てやればよい。そのような例の１つとして、二重
リング上に点光源を並べた場合のパターンを第６
図に示す。この点光源の配列は、第７図に示すよ
うなカメラに組込まれた露出計のためのプラスチ
ツクレンズ配列を用いて得られた。この場合、レ
ンズの配列は、巨視的に見れば規則性を有してい
るが、波長オーダーで見ればレンズの材質、レン
ズの面形状、レンズ間隔等に不均質性や不規則性
があるため、干渉パターンも、不規則なスペツク
ル様パターンとなつている。他方、スクリーンか
ら周期構造を排除しない場合においても、投影観
察光学系の最適設計によつてモアレの影響を低減
することもできる。
本発明の他の実施例は、このような周期構造を
用いた場合にも、被投影画像との間にモアレ縞が
観測されないか、観測されても殆んど目立たない
ような像投影装置に関する。本実施例を、カメラ
のフアインダースクリーンを例にとつて説明す
る。
用いた場合にも、被投影画像との間にモアレ縞が
観測されないか、観測されても殆んど目立たない
ような像投影装置に関する。本実施例を、カメラ
のフアインダースクリーンを例にとつて説明す
る。
たとえば、１眼レフカメラでは、レンズの絞り
値Ｆ／5.6あたりの使用頻度が高い。Ｆ／5.6の像
面上における理想分解能は300本／mm程度である
が、フアインダー空中像の場合は、クイツクリタ
ーンミラーにより入る収差、被写体の明るさ、コ
ントラスト等の影響により、通常半分程度に落ち
150本／mm程度となる。一方、フアインダー光学
系の倍率は５倍程度であるから、明視の距離にお
ける眼の分解能を10本／mmとして、眼を含めたフ
アインダー光学系のスクリーン上でのパターンに
対する分解能は50本／mmとなる。
値Ｆ／5.6あたりの使用頻度が高い。Ｆ／5.6の像
面上における理想分解能は300本／mm程度である
が、フアインダー空中像の場合は、クイツクリタ
ーンミラーにより入る収差、被写体の明るさ、コ
ントラスト等の影響により、通常半分程度に落ち
150本／mm程度となる。一方、フアインダー光学
系の倍率は５倍程度であるから、明視の距離にお
ける眼の分解能を10本／mmとして、眼を含めたフ
アインダー光学系のスクリーン上でのパターンに
対する分解能は50本／mmとなる。
従つて、像画上に生じる可能性のあるモアレ縞
の空間周波数が50本／mmより大きければ、そのモ
アレ縞は観測されない。即ち、スクリーンの周期
構造が200本／mm以上であれば、画像がもちうる
周期構造の最大空間周波数150本／mmとの差が50
本／mm以上となり、モアレ縞は観測されない。従
つて、１眼レフカメラのフアインダースクリーン
の周期構造のピツチは5μ程度であればよい。即
ち、本発明の周期構造（ls／mm）を有する微小構
造素子配列体が、像投影用スクリーンとして用い
られる場合において、投影像がスクリーン上で有
する解像力（li／mm）と、該投影像観察系がスク
リーン上のパターンに対して有する解像力（lo／
mm）との間に、ほぼ次の関係 lols〜li（lsとliの差） (1) 又は、 lo＞ls〜li (2) を満足する様に、スクリーンを製作すれば、良好
な投影画像の観察が行い得る。ところで、通常、
フアインダースクリーンは位相タイプであり、レ
ンズが明るい場合、殆んどフアインダースクリー
ンそのものが明暗の分布として観測されることは
ないし、絞つていつて、明暗の分布が生じたとし
てもコンストラストは低く、実用上、ピツチが
10μ程度なら、すべての絞り値でモアレの発生を
気にする必要はない。
の空間周波数が50本／mmより大きければ、そのモ
アレ縞は観測されない。即ち、スクリーンの周期
構造が200本／mm以上であれば、画像がもちうる
周期構造の最大空間周波数150本／mmとの差が50
本／mm以上となり、モアレ縞は観測されない。従
つて、１眼レフカメラのフアインダースクリーン
の周期構造のピツチは5μ程度であればよい。即
ち、本発明の周期構造（ls／mm）を有する微小構
造素子配列体が、像投影用スクリーンとして用い
られる場合において、投影像がスクリーン上で有
する解像力（li／mm）と、該投影像観察系がスク
リーン上のパターンに対して有する解像力（lo／
mm）との間に、ほぼ次の関係 lols〜li（lsとliの差） (1) 又は、 lo＞ls〜li (2) を満足する様に、スクリーンを製作すれば、良好
な投影画像の観察が行い得る。ところで、通常、
フアインダースクリーンは位相タイプであり、レ
ンズが明るい場合、殆んどフアインダースクリー
ンそのものが明暗の分布として観測されることは
ないし、絞つていつて、明暗の分布が生じたとし
てもコンストラストは低く、実用上、ピツチが
10μ程度なら、すべての絞り値でモアレの発生を
気にする必要はない。
以上詳しく述べたとおり、本発明の方法は、各
種の像投影装置に用いられるスクリーンの最適設
計と、それに追従し得るスクリーンの作成を可能
とし、更には、化学、印刷、機械等の諸分野で用
いられている網目構造体の微細化、高精度化、広
面積化を実現し、産業上、極めて有効なものであ
ることが認められた。
種の像投影装置に用いられるスクリーンの最適設
計と、それに追従し得るスクリーンの作成を可能
とし、更には、化学、印刷、機械等の諸分野で用
いられている網目構造体の微細化、高精度化、広
面積化を実現し、産業上、極めて有効なものであ
ることが認められた。
第１図は、本発明の微小構造素子配列体を作成
するためのパターン発生、記録装置の一例を示す
図、第２図は、同装置によつて発生したパターン
の一例を示す顕微鏡写真図、第３図は、歪みのな
い微小構造素子配列を作成するためのパターン発
生、記録装置の一例を示す図、第４図は、第１図
示の装置において、点光源の配列を菱形にして得
られたパターンを示す顕微鏡写真図、第５図は、
第１図示の装置において、点光源の配列を長方形
にして得られたパターンを示す顕微鏡写真図、第
６図は、第１図示の装置において、点光源の配列
を二重リング状にして得られたパターンを示す顕
微鏡写真図、第７図は、第６図のパターンを得る
ために用いた点光源発生装置を示す図、第８図
は、不規則な点光源の配列を示す図、第９図は、
第８図の点光源配列によつて作成されたスクリー
ンの強度分布を示す図である。 図中、１はレーザービーム、２は顕微鏡対物レ
ンズ、３はコリメーターレンズ、４はレンズホル
ダー、５1〜５3はレンズ、６1〜６3は点光源、７
はノイズ除去フイルター、８は光記録材料、９1
〜９3は点光源からの光束が光記録材料面を照明
する領域、１０は三つの照明領域の共通部分、１
１はレーザービーム、１２は顕微鏡対物レンズ、
１３はコリメーターレンズ、１４はレンズホルダ
ー、１５1〜１５3はレンズ、１６1〜１６3は点光
源、１７はレンズ、１８1〜１８3は三本の平行光
束、１９は光記録材料、２０は三本の平行光束の
光記録材料面上での照明領域である。
するためのパターン発生、記録装置の一例を示す
図、第２図は、同装置によつて発生したパターン
の一例を示す顕微鏡写真図、第３図は、歪みのな
い微小構造素子配列を作成するためのパターン発
生、記録装置の一例を示す図、第４図は、第１図
示の装置において、点光源の配列を菱形にして得
られたパターンを示す顕微鏡写真図、第５図は、
第１図示の装置において、点光源の配列を長方形
にして得られたパターンを示す顕微鏡写真図、第
６図は、第１図示の装置において、点光源の配列
を二重リング状にして得られたパターンを示す顕
微鏡写真図、第７図は、第６図のパターンを得る
ために用いた点光源発生装置を示す図、第８図
は、不規則な点光源の配列を示す図、第９図は、
第８図の点光源配列によつて作成されたスクリー
ンの強度分布を示す図である。 図中、１はレーザービーム、２は顕微鏡対物レ
ンズ、３はコリメーターレンズ、４はレンズホル
ダー、５1〜５3はレンズ、６1〜６3は点光源、７
はノイズ除去フイルター、８は光記録材料、９1
〜９3は点光源からの光束が光記録材料面を照明
する領域、１０は三つの照明領域の共通部分、１
１はレーザービーム、１２は顕微鏡対物レンズ、
１３はコリメーターレンズ、１４はレンズホルダ
ー、１５1〜１５3はレンズ、１６1〜１６3は点光
源、１７はレンズ、１８1〜１８3は三本の平行光
束、１９は光記録材料、２０は三本の平行光束の
光記録材料面上での照明領域である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 相互に可干渉な光束を発する３個以上の点光
源を配列する段階と、前記３個以上の点光源から
の光束を重ね合わせて、２次元の規則的な周期性
干渉パターンを形成する段階と、前記周期性干渉
パターンを記録材料に記録する段階と、前記記録
材料に記録された周期性干渉パターンを、複数個
の微小構造素子から成る凹凸分布に変換する段階
とを含み、前記点光源の配列状態を制御すること
により、前記周期性干渉パターンの大きさと形状
を制御することを特徴とする微小構造素子配列体
の製造方法。 ２ 特許請求の範囲第１項の微小構造素子配列体
の製造方法において、前記周期性干渉パターン
が、ほぼ三角形の頂点に位置する相互に可干渉な
３個の点光源の組を少なくとも１組含む点光源の
配列よりの光束によつて形成されることを特徴と
する微小構造素子配列体の製造方法。 ３ 特許請求の範囲第１項の微小構造素子配列体
の製造方法において、前記周期性干渉パターン
が、ある点に対してほぼ点対称な２個の点光源を
少なくとも２組含むような点光源の配列よりの光
束によつて形成されることを特徴とする微小構造
素子配列体の製造方法。 ４ 特許請求の範囲第１項の微小構造素子配列体
の製造方法において、前記周期性干渉パターン
が、ほぼ円、又は橢円上に位置する３個以上の点
光源の組を少なくとも１組含むような点光源の配
列からの光束によつて形成されることを特徴とす
る微小構造素子配列体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16509278A JPS5590931A (en) | 1978-12-29 | 1978-12-29 | Production of micro structure element array |
| DE2952607A DE2952607C2 (de) | 1978-12-29 | 1979-12-28 | Verfahren zur optischen Herstellung einer Einstellscheibe für eine Kamera |
| US06/614,398 US4523807A (en) | 1978-12-29 | 1984-05-25 | Method for making a member having microstructure elements arranged thereon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16509278A JPS5590931A (en) | 1978-12-29 | 1978-12-29 | Production of micro structure element array |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5590931A JPS5590931A (en) | 1980-07-10 |
| JPS633291B2 true JPS633291B2 (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=15805727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16509278A Granted JPS5590931A (en) | 1978-12-29 | 1978-12-29 | Production of micro structure element array |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4523807A (ja) |
| JP (1) | JPS5590931A (ja) |
| DE (1) | DE2952607C2 (ja) |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4427265A (en) * | 1980-06-27 | 1984-01-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffusion plate |
| DE3125317A1 (de) * | 1980-06-27 | 1982-04-01 | Canon K.K., Tokyo | Einstellscheibe |
| JPS57148728A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-14 | Canon Inc | Diffusing plate |
| US4716417A (en) * | 1985-02-13 | 1987-12-29 | Grumman Aerospace Corporation | Aircraft skin antenna |
| CA1294470C (en) * | 1986-07-26 | 1992-01-21 | Toshihiro Suzuki | Process for the production of optical elements |
| JP2572626B2 (ja) * | 1988-04-28 | 1997-01-16 | 旭光学工業株式会社 | 焦点板及び微細構造配列体の形成方法 |
| US5119235A (en) * | 1989-12-21 | 1992-06-02 | Nikon Corporation | Focusing screen and method of manufacturing same |
| US5177637A (en) * | 1990-09-11 | 1993-01-05 | Nikon Corporation | Focusing screen including different height microlenses arranged in a cyclical pattern |
| US5965327A (en) * | 1991-12-03 | 1999-10-12 | Asahi Kogaku Kogyo Kaisha | Method for manufacturing a master die for a diffusion plate and diffusion manufactured by said method |
| US5733710A (en) * | 1991-12-03 | 1998-03-31 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a master die for a diffusion plate and diffusion plate manufactured by said method |
| CA2114703A1 (en) * | 1993-02-22 | 1994-08-23 | Kenneth M. Baker | Directional light filter and holographic projector system for its production |
| US5822091A (en) * | 1993-02-22 | 1998-10-13 | Baker; Kenneth M. | Extreme depth-of-field optical lens and holographic projector system for its production |
| CA2168106C (en) * | 1993-07-27 | 2002-08-20 | Joel Petersen | High brightness directional viewing screen |
| CA2168107C (en) * | 1993-07-27 | 2001-02-13 | Joel Petersen | Light source destructuring and shaping device |
| US6391528B1 (en) | 2000-04-03 | 2002-05-21 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making wire grid optical elements by preferential deposition of material on a substrate |
| US6881203B2 (en) | 2001-09-05 | 2005-04-19 | 3M Innovative Properties Company | Microneedle arrays and methods of manufacturing the same |
| BR0312671A (pt) * | 2002-07-19 | 2005-04-26 | 3M Innovative Properties Co | Dispositivo de microagulhas, método para utilizar um dispositivo de microagulhas, e, método para aplicar um dispositivo de microagulhas |
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| US7753888B2 (en) * | 2003-11-21 | 2010-07-13 | The Regents Of The University Of California | Method and/or apparatus for puncturing a surface for extraction, in situ analysis, and/or substance delivery using microneedles |
| CN100376354C (zh) * | 2004-12-29 | 2008-03-26 | 中国科学院理化技术研究所 | 用激光在光敏性材料中制有多重周期微结构的方法及系统 |
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| US20090131778A1 (en) * | 2006-03-28 | 2009-05-21 | Jina Arvind N | Devices, systems, methods and tools for continuous glucose monitoring |
| US20080154107A1 (en) * | 2006-12-20 | 2008-06-26 | Jina Arvind N | Device, systems, methods and tools for continuous glucose monitoring |
| US20100049021A1 (en) * | 2006-03-28 | 2010-02-25 | Jina Arvind N | Devices, systems, methods and tools for continuous analyte monitoring |
| US20080058726A1 (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Arvind Jina | Methods and Apparatus Incorporating a Surface Penetration Device |
| US20080234562A1 (en) * | 2007-03-19 | 2008-09-25 | Jina Arvind N | Continuous analyte monitor with multi-point self-calibration |
| US20080312518A1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Arkal Medical, Inc | On-demand analyte monitor and method of use |
| US20090099427A1 (en) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Arkal Medical, Inc. | Microneedle array with diverse needle configurations |
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| JP6478488B2 (ja) | 2014-06-18 | 2019-03-06 | キヤノン株式会社 | Ａｄ変換装置及び固体撮像装置 |
| JP6423685B2 (ja) | 2014-10-23 | 2018-11-14 | キヤノン株式会社 | 電子部品、モジュール及びカメラ |
| JP6547283B2 (ja) * | 2014-12-02 | 2019-07-24 | ウシオ電機株式会社 | 基板上構造体の製造方法 |
| US9978675B2 (en) | 2015-11-20 | 2018-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Package, electronic component, and electronic apparatus |
| JP7027178B2 (ja) | 2018-01-24 | 2022-03-01 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| JP2021141483A (ja) | 2020-03-06 | 2021-09-16 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置のための制御装置 |
| JP2022057717A (ja) | 2020-09-30 | 2022-04-11 | キヤノン株式会社 | 記録装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE2012191C3 (de) * | 1970-03-14 | 1978-08-31 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Projektionsflächen beliebiger Indicatrix |
| DE2036904A1 (de) * | 1970-07-24 | 1972-02-03 | Philips Patentverwaltung | Verfahren und Anordnung zur Herstellung von Punkthologrammen |
| DE2239853C3 (de) * | 1972-08-12 | 1978-06-22 | Reitter & Schefenacker Kg, 7300 Esslingen | Haltevorrichtung für Außenrückblickspiegel von Kraftfahrzeugen o.dgl |
| US3977766A (en) * | 1975-04-24 | 1976-08-31 | Eastman Kodak Company | Projection screen and apparatus for the fabrication thereof |
| IL50125A (en) * | 1976-07-26 | 1980-11-30 | Yeda Res & Dev | Holographic focusing screens |
| JPS5342726A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-18 | Canon Inc | Camera finder |
| JPS5351755A (en) * | 1976-10-21 | 1978-05-11 | Canon Inc | Preparing apparatus for speckle diffusion plate |
-
1978
- 1978-12-29 JP JP16509278A patent/JPS5590931A/ja active Granted
-
1979
- 1979-12-28 DE DE2952607A patent/DE2952607C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-05-25 US US06/614,398 patent/US4523807A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5590931A (en) | 1980-07-10 |
| DE2952607C2 (de) | 1994-04-14 |
| US4523807A (en) | 1985-06-18 |
| DE2952607A1 (de) | 1980-07-10 |
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