JPH06167602A - 拡散板および拡散板用母型の作製方法 - Google Patents

拡散板および拡散板用母型の作製方法

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JPH06167602A
JPH06167602A JP32450792A JP32450792A JPH06167602A JP H06167602 A JPH06167602 A JP H06167602A JP 32450792 A JP32450792 A JP 32450792A JP 32450792 A JP32450792 A JP 32450792A JP H06167602 A JPH06167602 A JP H06167602A
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Hiroshi Kubotani
洋 窪谷
Toshiharu Takahashi
敏春 高橋
Makoto Iki
誠 壹岐
Moriyasu Shirayanagi
守康 白柳
Koichi Maruyama
晃一 丸山
Teruaki Hiyamuta
輝明 冷牟田
Takayuki Sensui
隆之 泉水
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Abstract

(57)【要約】 【目的】砂摺りマット、周期マットの持つそれぞれの欠
点を解消し、明るい視界を多線ボケや色ムラを生じるこ
となく得ることができ、かつ、マットの構造等が視認さ
れない拡散板を提供することを目的とする。 【構成】本発明にかかる拡散板は、微小構造物が多数配
置された基本パターンを複数重ね合わせることにより形
成される拡散板において、微小構造物の配置を二次元周
期パターンとし、この二次元周期の格子ベクトルは前記
複数の基本パターンごとに異なることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、一眼レフカメラのフ
ォーカシングスクリーン等に用いられる拡散板およびそ
れを製造する際に用いられる拡散板用母型の作製方法の
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、一眼レフカメラ等には、フィ
ルム面と光学的に等価な位置にフォーカシングスクリー
ンが配置されている。撮影者は、撮影レンズを介してフ
ォーカシングスクリーン上に形成される像をファインダ
ーを介して観察し、構図や像のボケ具合を確認する。
【０００３】フォーカシングスクリーン上での像のボケ
具合を確認する方法として、微細な断面凹凸形状を形成
した拡散板をフォーカシングスクリーンとして用い、こ
の拡散板における光の拡散性を利用するものが知られて
いる。
【０００４】断面凹凸形状を有する拡散板は、表面に砂
摺り加工等により断面凹凸形状を施された金型等の成形
型を用い、例えばアクリル樹脂等のプラスチック光学材
料にその断面凹凸形状を転写成形して製造される。
【０００５】しかしながら、このようにして得られる拡
散板の断面凹凸形状は、さまざまな頂角の微小プリズム
の集合となっているため、撮影レンズ側から拡散板に入
射する光の頂角の大きな微小プリズムにより屈折された
部分がファインダーの瞳外へ達するため、ファインダー
を介して撮影者の眼に到る光束が少なくなり、像が暗く
なるという問題がある。
【０００６】また、凹凸形状の形や大きさが不揃いであ
るため、撮影絞りを絞った場合には、拡散板面の粒状性
が目立つようになり像画質が良好とは言い難かった。
【０００７】これらの欠点を改善するため、最近では、
砂摺り等の機械工作的手段ではなく、マスクのパターン
を露光プロセスによりフォトレジスト等の感材が塗布さ
れた基板に転写るすことにより、微細なレンズが集合す
る拡散板用母型を作製する方法が用いられている。特開
昭55-90931号公報、同57-148728号公報には、このよう
な光学的手段により形成された拡散板用母型を基にして
電鋳法により金型等の成形型を製作し、プラスチック光
学部材に成形型の微細パターンを転写成形して規則的に
配列した微細レンズを有する拡散板を製造する技術が開
示されている。
【０００８】さらに、特開昭63-221329号公報には、微
細レンズが周期格子点に対して所定範囲内のバラツキを
もって配置された拡散板が開示され、また、特開平2-22
6201号公報には、微小パターンを複数個不規則に配置し
て単位パターンとし、この単位パターンを複数個規則的
に配置して得られるパターン部を数種類用いた拡散板が
開示される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
規則的な(二次元周期的)パターン構造をもった拡散板は
回折格子として機能し、拡散特性が離散的となるため、
焦点の合っていない像を観察する場合に像が多重に見え
る、いわゆる多線ボケを生じる。また、波長によって回
折の角度が変化するため、特にピッチ(二次元格子ベク
トルの長さpおよびq)が小さく回折角度が大きい場合に
は、観察される像の色ムラが顕著となる。
【００１０】多線ボケおよび色ムラの発生を抑えるため
には、ピッチを大きくすればよいが、この場合にはファ
インダーの視野にマットの周期構造が視認されることに
より、像の観察の妨げになるという問題を生じる。
【００１１】
【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、砂摺りマット、周期マット
の持つそれぞれの欠点を解消し、明るい視界を多線ボケ
や色ムラを生じることなく得ることができ、かつ、マッ
トの構造等が視認されない拡散板を提供すること、そし
て、このような拡散板を容易に製造できる方法を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる拡散板
は、上記の目的を達成させるため、微小構造物が多数配
置された基本パターンを複数重ね合わせることにより形
成される拡散板において、微小構造物の配置は二次元周
期的であって、二次元周期の格子ベクトルは複数の基本
パターンごとに異なることを特徴とする。
【００１３】また、本発明にかかる拡散板用母型の作製
方法は、感光材料が被着された基板と微細パターンが画
成されたマスクとを所定間隔をおいて対向させ、マスク
側から光照射を行って基板の感光材料面に微細パターン
を投影して露光したのち、感光材料を現像処理して基板
に微細構造を形成する拡散板用母型の作製方法におい
て、基板またはマスクを同一平面内で所定の方位角度だ
け回転変位させて基板に対するマスクの相対位置を少な
くとも２つ設定し、相対位置毎に露光を行い基板に所望
の微細構造を形成することを特徴とする。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。実施例
の拡散板は、一眼レフカメラ等のファインダーに設けら
れるフォーカシングスクリーンとして利用されるもので
あり、撮影レンズを介して入射した被写体からの光束が
結像され、撮影者はファインダーのアイピースを介して
その像を観察する。
【００１５】ここでは、まず透過関数のフーリエ変換で
表される拡散板の拡散特性について説明する。規則的な
(二次元周期的)パターン構造をもった拡散板の透過関数
f(x,y) は、微小構造物の透過関数を g(x,y)、 二次元
周期の格子ベクトルを(1)式のように定義すると、(2)式
で表される。
【００１６】
【数２】
【００１７】ここで、δはディラックのデルタ関数、**
は二次元の畳み込み積分を意味する。f(x,y) のフーリ
エ変換 F(ωx,ωy) は、(3)式のとおりとなり、離散的
な関数になる。
【００１８】
【数３】
【００１９】ここで、G(ωx,ωy) は g(x,y) のフーリ
エ変換である。また、(a1,b1)、(a2,b2)は、拡散特性の
二次元格子ベクトルであり、(px,py)、(qx,qy) との間
には、以下に示す関係がある。 D = a1b2-a2b1 = (-pxqy-pyqx)-1 a1 = pyD b1 = -pxD a2 = -qyD b2 = qxD
【００２０】また、ωx,ωy は拡散の観察方向の方向余
弦(α,β,γ)と波長λとを介して、以下の関係がある。 α = λωx β = λωy γ = √(1-α2-β2)
【００２１】次に、二次元周期パターンを有する拡散板
の具体的な性能を２例説明する。図１は、ピッチ16μm
の最密充填で直径10μm、高さ1.6μmの微小レンズを配
列した拡散板の構造を示す。そして、図２から図１０
は、図１の拡散板の光学的な性能を示す。
【００２２】図２から図４は、それぞれ波長 450nm、55
0nm、650nmにおける拡散の具合、すなわち点光源に対す
るボケ味を視覚的に示したものであり、図中の小さな円
(点)の直径はその方向への回折光強度に相当し、大きな
円は拡散板に入射する光束のＦナンバーで外側から 2.
0、2.8、4.0、5.6、8.0 に相当する。
【００２３】図５から図７は、それぞれ波長 450nm、55
0nm、650nmにおける包含光量であり、横軸は角度座標
を、縦軸は図１の拡散板を透過する全光量を1.0 とした
ときの横軸で示される半径の円内に含まれる光量を示
す。
【００２４】図８から図１０は、それぞれ波長 450nm、
550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線
は横の線光源)のボケ味であり、横軸は角度座標を、縦
軸はピーク強度を1.0とした時の相対強度を示す。
【００２５】なお、拡散板の性能を示す３種類の図面
は、以下の例においても添付されているが、表現方法は
同一であるので、以下の説明では簡略に記載する。
【００２６】図１１は、ピッチ16μmの正方充填で直径1
0μm、高さ1.6μmの微小レンズを配列した拡散板の構造
を示す。
【００２７】図１２から図２０は、図１１の拡散板の光
学的な性能を示し、図１２から図１４はそれぞれ波長45
0nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図１５から図
１７はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける包含
光量、図１８から図２０はそれぞれ波長450nm、550nm、
650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線は横の線
光源)のボケ味を示す。
【００２８】これら２つの例から、二次元周期パターン
を有する拡散板は、拡散特性が離散的で波長依存性も大
きく、したがって、ボケ味が悪く色ムラも発生しやすい
ことが解る。
【００２９】本発明による拡散板の透過関数f(x,y)
は、これを構成する基本パターンの透過関数をf1(x,y),
f2(x,y), f3(x,y)…とするとき、これらの積f(x,y) =
f1(x,y)・f2(x,y)・f3(x,y) … で表される。
【００３０】したがって、拡散板の拡散特性すなわち f
(x,y) のフーリエ変換は、 F(ωx,ωy) = F1(ωx,ωy)**F2(ωx,ωy)**F3(ωx,ωy)
** … となる。ここで、F1(ωx,ωy) , F2(ωx,ωy) , F
3(ωx,ωy) … はそれぞれ基本パターンの透過関数 f
1(x,y) , f2(x,y) , f3(x,y) … のフーリエ変換であ
る。
【００３１】それぞれの基本パターンの拡散特性は離散
的ではあるが、互いに二次元格子ベクトルが異なるの
で、これらの畳み込み積分をした結果である合成された
拡散板の拡散特性は元の基本パターンの拡散特性の離散
性よりも間が詰まったものになり、ボケ味等が改善され
る。
【００３２】次に、畳み込み積分による離散性の改善を
簡単な模式図を用いて以下に説明する。
【００３３】図２１に示すような７個の離散的スペクト
ルが得られる拡散特性を有する基本パターンＡと、基本
パターンＡを９０゜回転して得られる基本パターンＢと
を用意する。基本パターンＢの拡散特性は、図２１を９
０゜回転した図２２のようになる。
【００３４】そして、基本パターンＡと基本パターンＢ
とを重ね合わせて得られる拡散板の拡散特性は、図２１
と図２２の畳み込み積分を行ったものであり、図２３に
示すように７×７＝４９個の離散的スペクトルになる。
この結果を見れば、図２１、図２２の拡散特性の離散性
が図２３で改善されていることが明かである。
【００３５】以下、この発明の拡散板の具体的な実施例
を説明する。
【００３６】
【実施例１】図２４は、実施例１の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図２５
は実施例１のもうひとつの基本パターンを示す。図２５
の基本パターンは、図２４と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に30゜回転させて配列方向を異ならせたも
のである。
【００３７】図２６は、図２４と図２５の基本パターン
を重ね合わせた実施例１の拡散板の構造を示す。重ね合
わせパターンには一見周期性があるように見えるが、実
際この方向での重ね合わせの場合には周期性が存在しな
い。
【００３８】図２７から図３５は、図２６の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図２７から図２９はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図３
０から図３２はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図３３から図３５はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。なお、図３３から図
３５では線光源の方向による分布の違いがないため、実
線と破線が重ねて表されている。
【００３９】図２から図１０と、図２７から図３５を比
較すると、二次元の周期的拡散板より実施例１の拡散板
の方が拡散特性が連続的であり、波長依存性が少なく、
良好なボケ味になることが理解できる。
【００４０】図３６および図３７は、図１に示した周期
的拡散板と図２６に示した実施例１の拡散板とにおけ
る、入射光束のＦナンバーと配光比率との関係を示す。
絞り開放のときには、いずれの拡散板も波長450nm、550
nm、650nmのそれぞれの光束が等比率でアイピースレン
ズを介して撮影者の眼に入射する。
【００４１】しかしながら、光束を絞ってゆくに従い、
すなわち、Ｆナンバーが大きくなるに従い、周期的拡散
板の場合には配光比率が不均等となる。このため、ファ
インダーを介して観察される被写体像に色のムラが発生
する。これに対して、実施例１の拡散板を用いる場合に
は、Ｆナンバーが変化しても配光比率がほとんど変化せ
ず、色ムラが発生しないことが理解できる。
【００４２】
【実施例２】図３８は、実施例２の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図３９
は実施例２のもうひとつの基本パターンを示す。図３９
の基本パターンは、図３８と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に21.78゜回転させて配列方向を異ならせた
ものである。
【００４３】図４０は、図３８と図３９の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例２の拡散板の構造を示
す。この相対的回転角度においては、重ね合わせパター
ンもまた周期的になる。
【００４４】図４１から図４９は、図４０の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図４１から図４３はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図４
４から図４６はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図４７から図４９はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。
【００４５】実施例２では、重ね合わせパターンも周期
的となるため、拡散特性に離散性は残るが、図２から図
１０で示される最密充填単独の拡散板の性能と比較する
と、特性が非常に改良されているのが解る。また、単純
に周期構造のピッチを大きくしただけのものと違い、拡
散板の構造は視認されにくい。
【００４６】
【実施例３】図５０は、実施例３の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図５１
は実施例３のもうひとつの基本パターンを示し、配列は
ピッチ10.67μmの最密充填、微小構造物は直径6.67μ
m、高さ1.2μmの微小レンズであり、配列方向は図５０
のパターンと同一である。
【００４７】図５２は、図５０と図５１の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例３の拡散板の構造を示
す。この実施例の場合には、重ね合わせパターンもまた
周期的になる。
【００４８】図５３から図６１は、図５２の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図５３から図５５はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図５
６から図５８はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図５９から図６１はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。
【００４９】実施例３では、重ね合わせパターンも周期
的となるため、拡散特性に離散性は残るが、図２から図
１０で示される最密充填単独の拡散板の性能と比較する
と、特性が非常に改良されているのが解る。また、単純
に周期構造のピッチを大きくしただけのものと違い、拡
散板の構造は視認されにくい。
【００５０】なお、実施例３では、ピッチの異なる基本
パターンを同一の方向性を持たせて重ね合わせることに
より拡散板を形成しているが、さらにこれを実施例１や
２のように所定角度相対的に回転させて重ね合わせても
良い。
【００５１】
【実施例４】図６２は、実施例４の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの正方充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図６３
は実施例４のもうひとつの基本パターンを示す。図６３
の基本パターンは、図６２と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に４５゜回転させて配列方向を異ならせた
ものである。
【００５２】図６４は、図６２と図６３の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例４の拡散板の構造を示
す。重ね合わせパターンには一見周期性があるように見
えるが、実際この方向での重ね合わせの場合には周期性
が存在しない。
【００５３】図６５から図７３は、図６４の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図６５から図６７はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図６
８から図７０はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図７１から図７３はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。
【００５４】なお、図７１から図７３では、線光源の方
向による分布の違いがないため、実線と破線とが重ねて
表されている。
【００５５】
【実施例５】図７４は、実施例５の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図７５
は実施例５のもうひとつの基本パターンを示し、配列は
ピッチ16μmの正方充填、微小構造物は直径10μm、高さ
1.2μmの微小レンズである。これらの格子ベクトルは、
以下の表１に示される。
【００５６】
【表１】
【００５７】図７６は、図７４と図７５の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例５の拡散板の構造を示
す。重ね合わせパターンには一見周期性があるように見
えるが、実際この配列の重ね合わせの場合には周期性が
存在しない。
【００５８】図７７から図８５は、図７６の拡散板の光
学的な性能を示す。図７７から図７９はそれぞれ波長45
0nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図８０から図
８２はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける包含
光量、図８３から図８５はそれぞれ波長450nm、550nm、
650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線は横の線
光源)のボケ味を示す。
【００５９】以上の実施例に示した微小構造物は、すべ
て微小レンズで、基本パターンに垂直な方向から見た形
状は円形であり、これがもっとも好ましい形状ではある
が、図８６に示すような六角錐を並び詰めたような基本
パターンの複数を配列方向を変えて重ね合わせても、畳
み込み積分により、拡散特性の離散性が改善され、ボケ
味が良くなり、色ムラが少なくなるという本発明の効果
はある。
【００６０】周期的基本パターンの拡散特性の各離散ス
ペクトルの相対的強度を決めているもの(包絡面)は、微
小構造物の透過関数g(x,y) のフーリエ変換G(ωx,ωy)
であるから、g(x,y)が回転対称であればG(ωx,ωy)も回
転対称になる。基本パターンを重ね合わせた拡散板の拡
散特性の包絡面は、回転対称な関数の畳み込み積分であ
るから、これもまた回転対称となる。したがって、微小
構造物の、基本パターンに垂直な方向から見た形状は、
円形であるとより好ましいボケ味になる。
【００６１】
【実施例６】図８７は、実施例６の拡散板の具体的な配
置の断面形状を示す。この例では、第１の基本パターン
が形成された第１の拡散板１と第２の基本パターンが形
成された第２の拡散板２とが向い合わせて配置されてい
る。本発明の拡散板は、後述する作製方法によって、物
理的にひとつの面内に形成することもできるが、図８７
に示すように基本パターンが形成された物理的に異なる
複数個の拡散面を近接して配置して構成することもでき
る。
【００６２】なお、図８７では凹の微小構造物３が配列
されているように描かれているが、同じ形状の凸の微小
構造物の配列でも拡散効果は同一である。
【００６３】
【実施例７】図８８は、実施例７の拡散板の平面図を示
す。この実施例では、基本パターンが形成された部材４
と、部材４と同じ基本パターンが形成された部材５が、
パターン面と垂直な回転軸回りに互いに回転可動になっ
ている。φは両部材のなす角度で-15゜から+15゜の範囲を
取り、φ=-15゜のときに両部材に形成されている基本パ
ターンが同じ配列方向になるように設定されている。
【００６４】基本パターンは図２４と同一であり、ピッ
チ16μmの最密充填で直径10μm、高さ1.2μmの微小レン
ズが配列して構成されている。
【００６５】図８９から図９７は、実施例７の拡散板の
φ=-15゜の場合の光学的な性能を示す図である。図８９
から図９１はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおけ
る拡散の具合、図９２から図９４はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける包含光量、図９５から図９７
はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける線光源(実
線は縦の線光源、破線は横の線光源)のボケ味を示す。
【００６６】回動角度φを変化させることにより、図４
０の拡散板(φ=6.78゜)や図２６の拡散板(φ=15゜)を含
む、様々な光学性能を有する拡散板を作り出すことが可
能となる。撮影者は例えば、よりきれいなボケ味を好む
場合にはφ=15゜、より滑らかなマット構造を好む場合に
はφ=6.78゜、意図的に多線ボケを利用してピントを確認
したい場合にはφ=-15゜というように、自分の好みとす
る拡散状態を選択できるようになる。
【００６７】以上のように、微小構造物が二次元周期的
に配列された基本パターンを複数重ね合わせることによ
り、明るく、ボケ味が良く、色ムラのない拡散板を作製
することができる。しかし、この拡散板には、(周期的
ではない重ね合わせパターンができる場合にも)パター
ンに規則性が存在し、一眼レフカメラのフォーカシング
スクリーンとして用いる場合、コンデンサレンズとして
スクリーンの手前に配置されるフレネルレンズのパター
ンとの間でモアレ縞を発生させ、構図や像のボケ具合の
確認が妨げられる虞がある。
【００６８】図９８は、フレネルレンズの３６×２４mm
の範囲を示す模式図であり、図９９は図２６に示した拡
散板と図９８のフレネルレンズとを重ねた場合に視認さ
れるモアレ縞を示す。
【００６９】上記欠点を解決するため、重ね合わせられ
る基本パターンのうちの少なくともひとつは、微小構造
物の配置が、基準となる二次元周期にランダムな揺らぎ
を付加した配置であるようにすることにより、非規則的
な重ね合わせパターンを形成し、モアレ縞の発生を防止
している。
【００７０】
【数４】
【００７１】フレネルレンズとの間で発生するモアレ縞
を目だたなくするには揺らぎ量を大きくすれば良いが、
大きくし過ぎるとザラツキ感が現れフォーカシングスク
リーンとしての品位を損なうことになる。
【００７２】発明者らの実験によれば、格子ベクトルの
長さが16μmの最密充填の基本パターンを互いに 90゜回
転して重ね合わせた拡散板に対して、揺らぎ量の標準偏
差σ[μm]とフレネルレンズとのモアレ縞の目だちにく
さ・ザラツキ感のなさの関係は以下の表２の通りであっ
た。表中の記号×は、モアレが目立つこと、ザラツキ感
があること、△はモアレがほぼ目立たないこと、ザラツ
キ感がほぼないこと、○はモアレが目立たないこと、ザ
ラツキ感がないことを意味する。
【００７３】
【表２】
【００７４】この表から、適当な性能の拡散板を得るた
めには、揺らぎ量に適正な範囲があることがわかる。具
体的には、揺らぎ量の標準偏差σは、格子ベクトルの長
さの平均値ρに対して以下の範囲にあることが望まし
い。 ０．０４＜σ／ρ＜０．２
【００７５】
【数５】
【００７６】
【実施例８】図１０１は、実施例８の第１の基本パター
ンを示す直径０．４mmの範囲の拡大図である。微小構造
物は直径１０μm、高さ１．２μmの微小レンズである。
そして、図１０２は、第１の基本パターンを９０°回転
してできる第２の基本パターンの説明図である。これら
の基本パターンの格子ベクトル及び揺らぎ量の標準偏差
は以下の表３のとおりである。
【００７７】
【表３】
【００７８】図１０３は、図１０１と図１０２との基本
パターンを重ね合わせた拡散板の実施例８の構造でσ／
ρ＝0.088 となっている。
【００７９】
【実施例９】図１０４は、実施例９の第１の基本パター
ンを示す直径０．４mmの範囲の拡大図である。微小構造
物は直径１０μm、高さ１．２μmの微小レンズである。
そして、図１０５は、第２の基本パターンの説明図であ
る。これらの基本パターンの格子ベクトル及び揺らぎ量
の標準偏差は以下の表４のとおりである。
【００８０】
【表４】
【００８１】図１０６は、図１０４と図１０５との基本
パターンを重ね合わせた拡散板の実施例８の構造でσ／
ρ＝0.044となっている。
【００８２】上記のように重ね合わせられる基本パター
ンの少なくともひとつに揺らぎを付加することにより、
得られる重ね合わせパターンは非規則的となり、フレネ
ルレンズとのモアレ縞が発生し難くなる。また、揺らぎ
のないパターンを重ね合わせて得られる拡散板よりも、
より自然なボケ味を出すことができると共に、色ムラも
減少させることができる。
【００８３】
【実施例１０】図１０７は、実施例１０のフォーカシン
グスクリーンの断面形状を示す。複数のパターンを重ね
合わせた拡散板７を物理的にひとつの面内に形成し、拡
散面でない側にフレネルレンズ８を形成したものであ
る。
【００８４】
【実施例１１】図１０８は、実施例１１のフォーカシン
グスクリーンの断面形状を示す。基本パターン９および
１０を異なる部材１１および１２の向かい合う面に形成
し、部材１２の拡散面でない側にフレネルレンズ１３を
形成したものである。
【００８５】
【実施例１２】以下に、本発明に係わる拡散板用母型の
作製方法の実施例を説明する。
【００８６】図１０９において、１４は例えばガラスか
らなる基板で、基板１４には感光材料として２〜３μｍ
程度の膜厚範囲で均一なポジ型フォトレジスト膜１５が
スピンコート法により被着されている。
【００８７】１６は、ポジ型フォトレジスト膜１５に所
定のパターンを露光するためのガラスからなるマスク
で、マスク１６には図１１０に示すようにクロムからな
るドット状の微細パターン１７が断面凸状に形成されて
いる。微細パターン１７は１０〜２０μｍの直径を有
し、互いに１５〜２０μｍのピッチで離間している。
【００８８】マスク１６は図１０９に示すように、ポジ
型フォトレジスト膜１５に微細パターン１７を対向させ
て基板１４から所定間隔Δｔ(約７５μｍ)をおいて位置
合わせされている。
【００８９】このような基板１４とマスク１６の位置関
係を保ちつつ、マスク１６の微細パターン１７の背後か
ら紫外光１８を所定時間照射してポジ型フォトレジスト
膜１５の表面に微細パターン１７を投影して露光する。
【００９０】次に、図１１１に示すように、マスク１６
を同一平面内で(紙面に直交する回転軸Ｌを中心として)
所定の方位角度θ(図１１０では５゜)だけ回転変位させ
て前述と同様の露光を行う。
【００９１】これらの工程を経た後、基板１４を現像処
理することによってポジ型フォトレジスト膜１５には、
図１１２(ａ)に示すような微細パターンの重なりを持っ
た新たな微細パターン１９が投影された凹凸レリーフが
形成される。
【００９２】このようにして得られた凹凸レリーフは、
単純な形状ではなく、凹凸の大きさや起伏の度合いが適
度に異なったものとなっている。つまり、図１１２(ａ)
中Ａ−Ａ部によって形成される凹凸形状断面は、図１１
２(ｂ)に示すように、微細パターン１９を構成するドッ
ト２０が重なり合って投影される部分Ｘ、ドット２０が
単独で投影される部分Ｙ、ドット２０の他の部分Ｚの順
で低くなっている。
【００９３】また、ポジ型フォトレジスト膜１５とマス
ク１６との間隔Δｔは、紫外光１８が散乱して微細パタ
ーン１７に回り込める程度に約７５μｍとされているの
で、ドット２０以外の部分も直線的な形状ではなく曲線
的で緩やかな斜面を呈し、微細パターン１９全体は緩や
かな起伏となっている。
【００９４】こうして基板１４は拡散板用母型として成
形され、基板１４をもとにして電鋳金型を製造し、射出
成形等を用い光学樹脂に転写することにより、拡散性に
優れ、粒状性のない明るく自然なボケを呈する拡散板を
製造することができる。
【００９５】なお、マスク１６は典型的には、フォトリ
ソグラフ法により製造する。図１の規則的パターンや図
１０１に示したような位置の揺らぎを持ったパターンを
フォトプロッタ等で描き、レチクルを作製する。このレ
チクルを縮小投影し、段階的に移動させつつ露光を繰り
返して所望の大きさのマスクを作製する。微細パターン
の寸法、間隔等は、拡散板に求められる性能に応じて任
意に選択でき、また、ランダムな位置の揺らぎも計算機
による疑似乱数で任意にコントロールできる。
【００９６】以上、基本パターンとしては二次元周期パ
ターン、または二次元周期を基準としてランダムな位置
の揺らぎを付加した基本パターンを重ね合わせて、拡散
板を構成したが、拡散板全体に渡って均一の周期である
必要はない。すなわち、拡散板の中央部分と周辺部分と
で、異なる構造の基本パターンを用いて、特性の異なる
拡散板を得るなどの変形も可能である。
【００９７】母型の作製方法においてはマスクを相対的
に回転して多重露光を行う方法について示したが、最初
から重ね合わせパターンが描画されたマスクを用いて一
回で露光する方法でもほぼ同様の結果が得られる。
【００９８】また、重ね合わせの多重度は２段でかなり
の効果があるが、３段以上重ねたものも本発明の範囲外
ではない。
【００９９】
【効果】この発明の拡散板によれば、拡散特性をコント
ロールしてザラツキ感のない明るい視界を確保すること
ができ、多線ボケや色ムラを生じることなく、かつ、拡
散板の構造やフレネルレンズとのモアレ縞が視認されな
い拡散板を提供することができる。
【０１００】また、周期的拡散板では微小構造物に僅か
でも構造的欠陥があると目だつが、この発明の拡散板で
は多少の欠陥があっても目だたないため、結果的に良品
率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 最密充填による拡散板の構造を示す図であ
る。
【図２】 図１の拡散板による波長450nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。
【図３】 図１の拡散板による波長550nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。
【図４】 図１の拡散板による波長650nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。
【図５】 図１の拡散板による波長450nmにおける拡散
光の分布を、図２の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。
【図６】 図１の拡散板による波長550nmにおける拡散
光の分布を、図３の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。
【図７】 図１の拡散板による波長650nmにおける拡散
光の分布を、図４の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。
【図８】 図１の拡散板による波長450nmにおける拡散
光の分布を、図２の縦軸、横軸方向に積分したもので、
それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。
【図９】 図１の拡散板による波長550nmにおける拡散
光の分布を、図３の縦軸、横軸方向に積分したもので、
それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。
【図１０】 図１の拡散板による波長650nmにおける拡
散光の分布を、図４の縦軸、横軸方向に積分したもの
で、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。
【図１１】 正方充填による拡散板の構造を示す図であ
る。
【図１２】 図１１の拡散板による波長450nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図１３】 図１１の拡散板による波長550nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図１４】 図１１の拡散板による波長650nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図１５】 図１１の拡散板による波長450nmにおける
拡散光の分布を、図１２の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図１６】 図１１の拡散板による波長550nmにおける
拡散光の分布を、図１３の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図１７】 図１１の拡散板による波長650nmにおける
拡散光の分布を、図１４の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図１８】 図１１の拡散板による波長450nmにおける
拡散光の分布を、図１２の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図１９】 図１１の拡散板による波長550nmにおける
拡散光の分布を、図１３の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図２０】 図１１の拡散板による波長650nmにおける
拡散光の分布を、図１４の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図２１】 離散的な拡散特性の模式図である。
【図２２】 離散的な拡散特性の模式図で、図２１を９
０゜回転したものである。
【図２３】 図２１の拡散特性と図２２の拡散特性を畳
み込み積分した拡散特性であり、本発明の原理を説明す
る図である。
【図２４】 実施例１の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図２５】 実施例１の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図２６】 図２４の基本パターンと図２５の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例１の構
造を示す図である。
【図２７】 実施例１の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図２８】 実施例１の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図２９】 実施例１の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図３０】 実施例１の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図２７の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図３１】 実施例１の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図２８の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図３２】 実施例１の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図２９の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図３３】 実施例１の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図２７の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図３４】 実施例１の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図２８の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図３５】 実施例１の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図２９の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図３６】 図１の拡散板に入射する光束のＦナンバー
と拡散光の配光比率との関係を示すグラフである。
【図３７】 実施例１の拡散板に入射する光束のＦナン
バーと拡散光の配光比率との関係を示すグラフである。
【図３８】 実施例２の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図３９】 実施例２の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図４０】 図３８の基本パターンと図３９の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例２の構
造を示す図である。
【図４１】 実施例２の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図４２】 実施例２の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図４３】 実施例２の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図４４】 実施例２の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図４１の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図４５】 実施例２の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図４２の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図４６】 実施例２の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図４３の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図４７】 実施例２の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図４１の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図４８】 実施例２の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図４２の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図４９】 実施例２の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図４３の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図５０】 実施例３の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図５１】 実施例３の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図５２】 図５０の基本パターンと図５１の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例３の構
造を示す図である。
【図５３】 実施例３の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図５４】 実施例３の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図５５】 実施例３の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図５６】 実施例３の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図５３の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図５７】 実施例３の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図５４の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図５８】 実施例３の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図５５の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図５９】 実施例３の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図５３の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図６０】 実施例３の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図５４の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図６１】 実施例３の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図５５の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図６２】 実施例４の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図６３】 実施例４の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図６４】 図６２の基本パターンと図６３の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例４の構
造を示す図である。
【図６５】 実施例４の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図６６】 実施例４の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図６７】 実施例４の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図６８】 実施例４の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図６５の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図６９】 実施例４の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図６６の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図７０】 実施例４の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図６７の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図７１】 実施例４の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図６５の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図７２】 実施例４の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図６６の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図７３】 実施例４の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図６７の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図７４】 実施例５の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図７５】 実施例５の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図７６】 図７４の基本パターンと図７５の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例５の構
造を示す図である。
【図７７】 実施例５の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図７８】 実施例５の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図７９】 実施例５の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図８０】 実施例５の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図７７の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図８１】 実施例５の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図７８の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図８２】 実施例５の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図７９の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図８３】 実施例５の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図７７の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図８４】 実施例５の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図７８の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図８５】 実施例５の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図７９の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図８６】 六角錐を最密充填に配列した基本パターン
を示す図である。
【図８７】 実施例６の拡散板の断面形状を示す図であ
る。
【図８８】 実施例７の拡散板の平面図を示す図であ
る。
【図８９】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図９０】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図９１】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図９２】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける拡散光の分布を、図８９の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。
【図９３】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける拡散光の分布を、図９０の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。
【図９４】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける拡散光の分布を、図９１の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。
【図９５】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける拡散光の分布を、図８９の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。
【図９６】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける拡散光の分布を、図９０の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。
【図９７】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける拡散光の分布を、図９１の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。
【図９８】 フレネルレンズの３６×２４mmの範囲を示
す模式図である。
【図９９】 図２６の拡散板と図９８のフレネルレンズ
を重ねた場合にみられるモアレ縞の模式図である。
【図１００】 二次元周期配列に付加されたランダムな
位置の揺らぎの説明図である。
【図１０１】 実施例８の基本パターンのひとつを示す
図である。
【図１０２】 実施例８の基本パターンの他のひとつを
示す図である。
【図１０３】 図１０１の基本パターンと図１０２の基
本パターンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例
８の構造を示す図である。
【図１０４】 実施例９の基本パターンのひとつを示す
図である。
【図１０５】 実施例９の基本パターンの他のひとつを
示す図である。
【図１０６】 図１０４の基本パターンと図１０５の基
本パターンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例
９の構造を示す図である。
【図１０７】 実施例１０のフォーカシングスクリーン
の断面形状を示す図である。
【図１０８】 実施例１１のフォーカシングスクリーン
の断面形状を示す図である。
【図１０９】 基板とマスクの位置関係を示す断面図で
ある。
【図１１０】 マスクに形成された微細パターンを示す
平面図である。
【図１１１】 マスクの同一平面内での回転変位による
基板に対するマスクの相対位置を示す平面図である。
【図１１２】 (ａ)は、規則的微細パターンの重なりに
よって生じる新たな投影微細パターンを示す平面図であ
る。(ｂ)は、新たな投影微細パターンによって形成され
た凹凸レリーフの断面図である。
【符号の説明】
１…基本パターンの拡散板 ２…基本パターンの拡散板 ３…微小構造物 ４…基本パターンが形成された部材 ５…基本パターンが形成された部材 ６…ファインダーの視野範囲 φ…部材４と部材５のなす角 ７…重ね合わせパターンによる拡散面 ８…フレネルレンズ ９…基本パターン １０…基本パターン １１…基本パターン９が形成された部材 １２…基本パターン１０とフレネルレンズ１３が別の面
に形成された部材 １３…フレネルレンズ １４…基板 １５…ポジ型フォトレジスト膜(感光材料) １６…マスク １７…微細パターン １８…紫外光 Δｔ…所定間隔 θ…方位角度 Ｌ…回転軸 １９…新たな微細パターン ２０…ドットパターン Ｘ…ドットパターン２０が重なり合って投影される部分 Ｙ…ドットパターン２０が単独で投影される部分 Ｚ…ドットパターン２０の他の部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白柳 守康 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学 工業株式会社内 (72)発明者 丸山 晃一 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学 工業株式会社内 (72)発明者 冷牟田 輝明 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学 工業株式会社内 (72)発明者 泉水 隆之 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学 工業株式会社内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】微小構造物が多数配置された基本パターン
    を複数重ね合わせることにより形成される拡散板におい
    て、前記微小構造物の配置は二次元周期的であって、該
    二次元周期の格子ベクトルが前記複数の基本パターンご
    とに異なることを特徴とする拡散板。
  2. 【請求項２】同一の配置を有する基本パターンを、当該
    パターンの平面内で所定角度回転させて、異なる配列方
    向で重ね合わせて形成されることを特徴とする請求項１
    に記載の拡散板。
  3. 【請求項３】互いに相似形の基本パターンを、同一の配
    列方向で重ね合わせて形成されることを特徴とする請求
    項１に記載の拡散板。
  4. 【請求項４】互いに等しい充填方式の基本パターンを重
    ね合わせて形成されることを特徴とする請求項１に記載
    の拡散板。
  5. 【請求項５】互いに異なる充填方式の基本パターンを重
    ね合わせて形成されることを特徴とする請求項１に記載
    の拡散板。
  6. 【請求項６】前記微小構造物の平面形状が円形であるこ
    とを特徴とする請求項１に記載の拡散板。
  7. 【請求項７】前記拡散板は、微細構造をもった物理的に
    ひとつの面であることを特徴とする請求項１に記載の拡
    散板。
  8. 【請求項８】前記拡散板は、基本パターンが形成された
    物理的に異なる複数個の拡散面を近接して配置して構成
    されることを特徴とする請求項１に記載の拡散板。
  9. 【請求項９】前記基本パターンが形成された複数の拡散
    板は、互いに回動可能であることを特徴とする請求項８
    に記載の拡散板。
  10. 【請求項１０】前記基本パターンのうちの少なくともひ
    とつは、前記微小構造物の配置が、基準となる二次元周
    期にランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴
    とする請求項１に記載の拡散板。
  11. 【請求項１１】前記基本パターンの揺らぎ量の標準偏差
    をσ、二次元周期の格子ベクトルの長さの平均値をρと
    するとき、 ０．０４＜σ／ρ＜０．２ を満たすことを特徴とする請求項１０に記載の拡散板。 【数１】
  12. 【請求項１２】微小構造物が多数配置された基本パター
    ンを複数重ね合わせることにより形成される拡散板と、
    該拡散板に近接して置かれたフレネルレンズとを含み、
    前記微小構造物の配置は二次元周期的であって、該二次
    元周期の格子ベクトルは前記複数の基本パターンごとに
    異なり、前記基本パターンのうちの少なくともひとつ
    は、前記微小構造物の配置が、基準となる二次元周期に
    ランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴とす
    るフォーカシングスクリーン。
  13. 【請求項１３】感光材料が被着された基板と微細パター
    ンが画成されたマスクとを所定間隔をおいて対向させ、
    前記マスク側から光照射を行って前記基板の感光材料面
    に前記微細パターンを投影して露光したのち、該感光材
    料を現像処理して前記基板に微細構造を形成する拡散板
    用母型の作製方法において、前記基板または前記マスク
    を同一平面内で所定の方位角度だけ回転変位させて前記
    基板に対する前記マスクの相対位置を少なくとも２つ設
    定し、該相対位置毎に前記露光を行い前記基板に所望の
    微細構造を形成することを特徴とする拡散板用母型の作
    製方法。
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