JPH04299319A - 焦点板の製造方法 - Google Patents
焦点板の製造方法Info
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- JPH04299319A JPH04299319A JP3087298A JP8729891A JPH04299319A JP H04299319 A JPH04299319 A JP H04299319A JP 3087298 A JP3087298 A JP 3087298A JP 8729891 A JP8729891 A JP 8729891A JP H04299319 A JPH04299319 A JP H04299319A
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一眼レフカメラ等に使
用される焦点板の製造方法に関するものである。
用される焦点板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、一眼レフカメラ等に用いられる焦
点板の製造方法としては、まず、表面に微細な凹凸面を
有する焦点板用母型を製作し、この母型から金型をとっ
てプラスチック材料の表面に微細凹凸面を転写するとい
った方法が知られている。この焦点板用母型の製造方法
としては、従来、ガラス等の母材の表面に砂掛けを施す
ことにより、微細凹凸を形成させるといった方法がとら
れていた。このような方法で製作された焦点板用母型か
ら作製される焦点板は、ボケ味が自然である点に関して
は評価が高い反面、暗くザラツキが目立つといった欠点
があった。その原因は、このような製造方法によると、
第１１図に要部拡大断面図で示すように焦点板１の表面
の微細凹凸面がランダム性が極めて高いことに起因して
いる。このような欠点をなくすために焦点板１の表面の
微細凹凸を規則的または半規則的（適度にランダム性の
ある）微細凹凸面にすることが考え出され、種々の製造
方法が提案されたが、その中の１つとして微細パタ−ン
を有するマスク原板を用い、これを基板に塗布された感
光材料の表面に近接させて露光し、この感光材料表面に
露光量に応じた微細凹凸を形成させる焦点板の製造方法
が例えば特開昭５７−１４８７２８号公報または特開昭
６３−２２１３２９号公報などで提案されている。この
方法は、半導体装置などの製造に用いられるいわゆるプ
ロキシミティ露光法を焦点板の製造にそのまま用いたも
ので、第１２図に平面図で示すようなマスク原板２に微
細パタ−ン３が形成されたマスク４と、第１３図に断面
図で示すように表面に感光材料５を塗布した基板６とを
距離Δｄ離して露光光線７により露光する（Δｄをプロ
キシミティと言う）。感光材料５の表面には、マスク原
板２の微細パタ−ン３とプロキシミティ（Δｄ）とに応
じた照度分布ができ、露光後、現像処理をすれば、照度
分布に応じた微細凹凸面が感光材料５の表面に形成され
、これが焦点板用母型となる。このような焦点板用母型
から作製される焦点板は、その表面の微細凹凸面が規則
的あるいは適度なランダム性を持つものとなるので、十
分な明るさを持ち、ザラツキ感もあまり目立たない。
点板の製造方法としては、まず、表面に微細な凹凸面を
有する焦点板用母型を製作し、この母型から金型をとっ
てプラスチック材料の表面に微細凹凸面を転写するとい
った方法が知られている。この焦点板用母型の製造方法
としては、従来、ガラス等の母材の表面に砂掛けを施す
ことにより、微細凹凸を形成させるといった方法がとら
れていた。このような方法で製作された焦点板用母型か
ら作製される焦点板は、ボケ味が自然である点に関して
は評価が高い反面、暗くザラツキが目立つといった欠点
があった。その原因は、このような製造方法によると、
第１１図に要部拡大断面図で示すように焦点板１の表面
の微細凹凸面がランダム性が極めて高いことに起因して
いる。このような欠点をなくすために焦点板１の表面の
微細凹凸を規則的または半規則的（適度にランダム性の
ある）微細凹凸面にすることが考え出され、種々の製造
方法が提案されたが、その中の１つとして微細パタ−ン
を有するマスク原板を用い、これを基板に塗布された感
光材料の表面に近接させて露光し、この感光材料表面に
露光量に応じた微細凹凸を形成させる焦点板の製造方法
が例えば特開昭５７−１４８７２８号公報または特開昭
６３−２２１３２９号公報などで提案されている。この
方法は、半導体装置などの製造に用いられるいわゆるプ
ロキシミティ露光法を焦点板の製造にそのまま用いたも
ので、第１２図に平面図で示すようなマスク原板２に微
細パタ−ン３が形成されたマスク４と、第１３図に断面
図で示すように表面に感光材料５を塗布した基板６とを
距離Δｄ離して露光光線７により露光する（Δｄをプロ
キシミティと言う）。感光材料５の表面には、マスク原
板２の微細パタ−ン３とプロキシミティ（Δｄ）とに応
じた照度分布ができ、露光後、現像処理をすれば、照度
分布に応じた微細凹凸面が感光材料５の表面に形成され
、これが焦点板用母型となる。このような焦点板用母型
から作製される焦点板は、その表面の微細凹凸面が規則
的あるいは適度なランダム性を持つものとなるので、十
分な明るさを持ち、ザラツキ感もあまり目立たない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
５７−１４８７２８号公報の規則的な微細凹凸配置では
、ザラツキ感がなく、明るいといった長所がある反面、
図１４に示すように拡散分布が輝点８の集まりとなるた
め、多線ボケを生じるなどボケ味が不自然であるなどの
問題があった。また、このボケ味の不自然さを解消する
ために微細凹凸の配置にランダム性を与えた特開昭６３
−２２１３２９号公報では、ランダム性が弱いと、まだ
特に低次の輝点が目立つし、目立たないようにランダム
性を強くすると、ザラツキ感が感じられてしまうなどの
問題があった。
５７−１４８７２８号公報の規則的な微細凹凸配置では
、ザラツキ感がなく、明るいといった長所がある反面、
図１４に示すように拡散分布が輝点８の集まりとなるた
め、多線ボケを生じるなどボケ味が不自然であるなどの
問題があった。また、このボケ味の不自然さを解消する
ために微細凹凸の配置にランダム性を与えた特開昭６３
−２２１３２９号公報では、ランダム性が弱いと、まだ
特に低次の輝点が目立つし、目立たないようにランダム
性を強くすると、ザラツキ感が感じられてしまうなどの
問題があった。
【０００４】したがって本発明は、前述したザラツキ感
もなく、それでいてボケの不自然さも目立たず、また、
フレネルとのモアレも目立ち難い焦点板の製造方法を提
供することを目的としている。
もなく、それでいてボケの不自然さも目立たず、また、
フレネルとのモアレも目立ち難い焦点板の製造方法を提
供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために本発明による第１の発明は、微細パタ−ンを有
するマスク原板を基板上に塗布された感光材料の表面に
近接させて配置し、露光してこの感光材料表面に露光量
に応じた微細凹凸を形成する焦点板の製造方法において
、この微細パターンは各々の形状はｎ種類（ｎは１より
大きい自然数）の大きさからなりかつ互いに等しい大き
さの微細パターンを周期的に配列するようにしたもので
ある。本発明による第２の発明は、第１の発明において
、この微細パターンの大きさの最大値をａ，最小値をｂ
，大きさの種類をｎとしたとき、各々の微細パターンの
大きさはＱ＜（ａ−ｂ）／（ｎ−１）で表せる範囲Ｑで
ランダムにばらつきを持たせたものである。本発明によ
る第３の発明は、第１の発明および第２の発明において
、基板に予め微細凹凸を形成するようにしたものである
。
るために本発明による第１の発明は、微細パタ−ンを有
するマスク原板を基板上に塗布された感光材料の表面に
近接させて配置し、露光してこの感光材料表面に露光量
に応じた微細凹凸を形成する焦点板の製造方法において
、この微細パターンは各々の形状はｎ種類（ｎは１より
大きい自然数）の大きさからなりかつ互いに等しい大き
さの微細パターンを周期的に配列するようにしたもので
ある。本発明による第２の発明は、第１の発明において
、この微細パターンの大きさの最大値をａ，最小値をｂ
，大きさの種類をｎとしたとき、各々の微細パターンの
大きさはＱ＜（ａ−ｂ）／（ｎ−１）で表せる範囲Ｑで
ランダムにばらつきを持たせたものである。本発明によ
る第３の発明は、第１の発明および第２の発明において
、基板に予め微細凹凸を形成するようにしたものである
。
【０００６】
【作用】この第１の発明においては、輝点の数を増やす
ことにより、輝点を目立たなくする、すなわちボケの不
自然さを目立たなくする。また、第２の発明および第３
の発明においては、さらに輝点を目立たなくするととも
にモワレも目立ち難くなる。
ことにより、輝点を目立たなくする、すなわちボケの不
自然さを目立たなくする。また、第２の発明および第３
の発明においては、さらに輝点を目立たなくするととも
にモワレも目立ち難くなる。
【０００７】
【実施例】次に図面を用いて本発明の実施例を詳細に説
明する。図１は、本発明による焦点板の製造方法の一実
施例を説明するマスクの構成を示す平面図であり、形状
が３種類（ｎ＝３）の値をもつ場合を示したものである
。同図において、マスク原板２の表面には、互いに形状
の大きさｒ１ ，ｒ２ ，ｒ３ （ｒ１ ＜ｒ２ ＜ｒ
３ ）が異なる３種類の微細パターン３１ ，３２ ，
３３ が周期的に配列されてマスク４Ａが形成されてい
る。その３種類の大きさは ｒ１ ＝ｒ０ −Δｒ ｒ２ ＝ｒ０ ｒ３ ＝ｒ０ ＋Δｒ である。ここにΔｒは０＜Δｒ＜（ｐ−ｒ０ ）であり
、また、ｐは微細パターンの配列周期である。
明する。図１は、本発明による焦点板の製造方法の一実
施例を説明するマスクの構成を示す平面図であり、形状
が３種類（ｎ＝３）の値をもつ場合を示したものである
。同図において、マスク原板２の表面には、互いに形状
の大きさｒ１ ，ｒ２ ，ｒ３ （ｒ１ ＜ｒ２ ＜ｒ
３ ）が異なる３種類の微細パターン３１ ，３２ ，
３３ が周期的に配列されてマスク４Ａが形成されてい
る。その３種類の大きさは ｒ１ ＝ｒ０ −Δｒ ｒ２ ＝ｒ０ ｒ３ ＝ｒ０ ＋Δｒ である。ここにΔｒは０＜Δｒ＜（ｐ−ｒ０ ）であり
、また、ｐは微細パターンの配列周期である。
【０００８】このように形成されるマスク４Ａを用いる
と、図１に示すように従来の図１２の周期性より大きい
、新しい周期性が形成されているいることがわかる。 この周期性はそのまま焦点板に引き継がれ、図１のよう
なマスク４Ａを用いて形成された焦点板の拡散分布は図
２に示すようになる。従来の図１４と比較すれば、輝点
８の数が大幅に増えていることがわかる。なお、ここに
揚げた拡散分布は全体でなく、一部分（３０度の範囲）
である。
と、図１に示すように従来の図１２の周期性より大きい
、新しい周期性が形成されているいることがわかる。 この周期性はそのまま焦点板に引き継がれ、図１のよう
なマスク４Ａを用いて形成された焦点板の拡散分布は図
２に示すようになる。従来の図１４と比較すれば、輝点
８の数が大幅に増えていることがわかる。なお、ここに
揚げた拡散分布は全体でなく、一部分（３０度の範囲）
である。
【０００９】図３は本発明による焦点板の製造方法の他
の実施例によるマスクの構成を示す平面図であり、前述
の図と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略す
る。同図において、各々の微細パターン３１ ，３２
，３３ の大きさに ０＜Ｑ＜（ｒ３ −ｒ１ ）／３ なるランダムさＱを導入したものである。すなわち図３
の微細パターン３１ ，３２ ，３３ の大きさｒはｒ
＝ｒｉ ＋Ｑ×ＲＡＤ （ｉ ＝１または２ま
たは３である） である。ここにＲＡＤ は、−１から＋１の範囲のラン
ダム変数である。
の実施例によるマスクの構成を示す平面図であり、前述
の図と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略す
る。同図において、各々の微細パターン３１ ，３２
，３３ の大きさに ０＜Ｑ＜（ｒ３ −ｒ１ ）／３ なるランダムさＱを導入したものである。すなわち図３
の微細パターン３１ ，３２ ，３３ の大きさｒはｒ
＝ｒｉ ＋Ｑ×ＲＡＤ （ｉ ＝１または２ま
たは３である） である。ここにＲＡＤ は、−１から＋１の範囲のラン
ダム変数である。
【００１０】このように形成されるマスク４Ｂを用いる
と、このマスク４Ｂを用いて形成された焦点板の拡散分
布は、図４に示すようにさらに輝点８が目立たなくなる
とともにランダム性を有しているので、フレネルとのモ
ワレも目立たなくなる。もちろんこの程度のランダム性
ではザラツキ感は感じられない。
と、このマスク４Ｂを用いて形成された焦点板の拡散分
布は、図４に示すようにさらに輝点８が目立たなくなる
とともにランダム性を有しているので、フレネルとのモ
ワレも目立たなくなる。もちろんこの程度のランダム性
ではザラツキ感は感じられない。
【００１１】前述したような僅かにランダム性を導入す
るには、前述した図１３に示したようにレジスト法にお
いて、図５に断面で示すようにその表面に予め微細凹凸
が形成された基板６Ａを使用することによっても可能で
ある。
るには、前述した図１３に示したようにレジスト法にお
いて、図５に断面で示すようにその表面に予め微細凹凸
が形成された基板６Ａを使用することによっても可能で
ある。
【００１２】実際、本発明の他の実施例である図６に示
すマスク４Ｃと、図５に示す基板６Ａとを用いて作製し
た焦点板の拡散特性は、図７のようになるが、図７が図
８に比べて輝点８がさらに目立たなくなっていることは
、前述した図２と図４との関係と同じである。また、同
様にこの程度のランダム性ではザラツキ感は感じられな
い。
すマスク４Ｃと、図５に示す基板６Ａとを用いて作製し
た焦点板の拡散特性は、図７のようになるが、図７が図
８に比べて輝点８がさらに目立たなくなっていることは
、前述した図２と図４との関係と同じである。また、同
様にこの程度のランダム性ではザラツキ感は感じられな
い。
【００１３】なお、前述した実施例においては、微細パ
ターンの大きさの種類を３種類（ｎ＝３）とした場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、図９に示すように２種類（ｎ＝２）の大きさの微
細パターンのマスク４Ｄまたは図１０に示すような４種
類（ｎ＝４）の大きさの微細パターンのマスク４Ｅなど
でも良い。また、これらの微細パターンにランダム性を
導入しても良い。
ターンの大きさの種類を３種類（ｎ＝３）とした場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、図９に示すように２種類（ｎ＝２）の大きさの微
細パターンのマスク４Ｄまたは図１０に示すような４種
類（ｎ＝４）の大きさの微細パターンのマスク４Ｅなど
でも良い。また、これらの微細パターンにランダム性を
導入しても良い。
【００１４】また、前述した実施例においては、マスク
の微細パターンの形状を円形状とした場合について説明
したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例え
ば正六角形，正八角形などの正多角形状に形成して前述
と同様の効果が得られることは言うまでもない。
の微細パターンの形状を円形状とした場合について説明
したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例え
ば正六角形，正八角形などの正多角形状に形成して前述
と同様の効果が得られることは言うまでもない。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、微
細パタ−ンを有するマスク原板を基板上に塗布された感
光材料の表面に近接させて配置し、露光して前記感光材
料表面に露光量に応じた微細凹凸を形成する焦点板の製
造方法において、微細パターンは各々の形状はｎ種類（
ｎは１より大きい自然数）の大きさからなりかつ互いに
等しい大きさの微細パターンは周期的に配列させること
によってザラツキ感もなく、それでいてボケの不自然さ
も目立たない焦点板が得られる。また、微細パターンの
大きさの最大値をａ，最小値をｂ，大きさの種類をｎと
したとき、各々の微細パターンの大きさはＱ＜（ａ−ｂ
）／（ｎ−１）で表せる範囲Ｑでランダムにばらつを持
たせることによってフレネルとのモワレも目立ち難い焦
点板が得られる。また、焦点板を形成する基板に予め微
細凹凸が形成されていることによってフレネルとのモワ
レもさらに目立ち難い焦点板が得られるなどの極めて優
れた効果が得られる。
細パタ−ンを有するマスク原板を基板上に塗布された感
光材料の表面に近接させて配置し、露光して前記感光材
料表面に露光量に応じた微細凹凸を形成する焦点板の製
造方法において、微細パターンは各々の形状はｎ種類（
ｎは１より大きい自然数）の大きさからなりかつ互いに
等しい大きさの微細パターンは周期的に配列させること
によってザラツキ感もなく、それでいてボケの不自然さ
も目立たない焦点板が得られる。また、微細パターンの
大きさの最大値をａ，最小値をｂ，大きさの種類をｎと
したとき、各々の微細パターンの大きさはＱ＜（ａ−ｂ
）／（ｎ−１）で表せる範囲Ｑでランダムにばらつを持
たせることによってフレネルとのモワレも目立ち難い焦
点板が得られる。また、焦点板を形成する基板に予め微
細凹凸が形成されていることによってフレネルとのモワ
レもさらに目立ち難い焦点板が得られるなどの極めて優
れた効果が得られる。
【図１】本発明による焦点板の製造方法の一実施例によ
るマスクの構成を示す平面図である。
るマスクの構成を示す平面図である。
【図２】図１のマスクにより作製された焦点板の拡散特
性を示す図である。
性を示す図である。
【図３】本発明による焦点板の製造方法の他の実施例に
よるマスクの構成を示す平面図である。
よるマスクの構成を示す平面図である。
【図４】図３のマスクにより作製された焦点板の拡散特
性を示す図である。
性を示す図である。
【図５】表面に微細凹凸を有する基板を示す断面図であ
る。
る。
【図６】本発明による焦点板の製造方法の他の実施例に
よるマスクの構成を示す平面図である。
よるマスクの構成を示す平面図である。
【図７】図５の基板上に図６のマスクを用いて作製され
た焦点板の拡散特性を示す図である。
た焦点板の拡散特性を示す図である。
【図８】図６のマスクにより作製された焦点板の拡散特
性を示す図である。
性を示す図である。
【図９】本発明による焦点板の製造方法の他の実施例に
よるマスクの構成を示す平面図である。
よるマスクの構成を示す平面図である。
【図１０】図９のマスクにより作製された焦点板の拡散
特性を示す図である。
特性を示す図である。
【図１１】極めてランダム性の高い微細凹凸面を有する
焦点板の断面図である。
焦点板の断面図である。
【図１２】従来のマスクの構成を示す平面図である。
【図１３】レジスト法を説明する断面図である。
【図１４】図１２のマスクにより作製された焦点板の拡
散特性を示す図である。
散特性を示す図である。
１ 焦点板
２ マスク原板
３１ 微細パターン
３２ 微細パターン
３３ 微細パターン
３４ 微細パターン
３５ 微細パターン
３６ 微細パターン
３７ 微細パターン
４Ａ マスク
４Ｂ マスク
４Ｃ マスク
４Ｄ マスク
５ 感光材料
６Ａ 基板
７ 露光光線
８ 輝線
Claims (3)
- 【請求項１】 微細パタ−ンを有するマスク原板を基
板上に塗布された感光材料の表面に近接させて配置し、
露光して前記感光材料表面に露光量に応じた微細凹凸を
形成する焦点板の製造方法において、前記微細パターン
は各々の形状はｎ種類（ｎは１より大きい自然数）の大
きさからなりかつ互いに等しい大きさの微細パターンは
周期的に配列されていることを特徴とする焦点板の製造
方法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記微細パターン
の大きさの最大値をａ，最小値をｂ，大きさの種類をｎ
としたとき、各々の微細パターンの大きさはＱ＜（ａ−
ｂ）／（ｎ−１） で表せる範囲Ｑでランダムにばらついていることを特徴
とする焦点板の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１，請求項２において、前記基
板に予め微細凹凸が形成されていることを特徴とする焦
点板の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087298A JPH04299319A (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 焦点板の製造方法 |
| US07/756,031 US5177637A (en) | 1990-09-11 | 1991-09-06 | Focusing screen including different height microlenses arranged in a cyclical pattern |
| EP19910308296 EP0475741A3 (en) | 1990-09-11 | 1991-09-11 | Focusing screen and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087298A JPH04299319A (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 焦点板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04299319A true JPH04299319A (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=13910919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3087298A Pending JPH04299319A (ja) | 1990-09-11 | 1991-03-28 | 焦点板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04299319A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005148427A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Olympus Corp | 焦点板原盤及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP3087298A patent/JPH04299319A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005148427A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Olympus Corp | 焦点板原盤及びその製造方法 |
| JP4527967B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2010-08-18 | オリンパス株式会社 | 焦点板原盤及びその製造方法 |
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