JPH06337305A - マットの製造方法 - Google Patents

マットの製造方法

Info

Publication number
JPH06337305A
JPH06337305A JP15112193A JP15112193A JPH06337305A JP H06337305 A JPH06337305 A JP H06337305A JP 15112193 A JP15112193 A JP 15112193A JP 15112193 A JP15112193 A JP 15112193A JP H06337305 A JPH06337305 A JP H06337305A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mat
substrate
photoresist
see
flat substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15112193A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3396056B2 (ja
Inventor
Kazunari Tokuda
一成 徳田
Yoshiki Nitta
佳樹 新田
Bunji Akimoto
文二 秋元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP15112193A priority Critical patent/JP3396056B2/ja
Publication of JPH06337305A publication Critical patent/JPH06337305A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3396056B2 publication Critical patent/JP3396056B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Viewfinders (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 中心から周辺まで一様な明るさを得る。 【構成】 平面基板上にポジ型フォトレジストパターン
を形成する。次に、平面基板を基板平面内で回転しつつ
加熱して、上記フォトレジストパターンを変形し、上部
が平面基板の外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有
するフォトレジストの集合体を形成する。その後、上記
集合体を母型に用いて電鋳反転し、凹形のファーザーを
得る。次に、ファーザーを電鋳反転して凸形のスタンパ
を作り、このスタンパを用いて凹状のマットを得る。凹
状の形状は、その頂点がマットの外周方向に偏心してお
り、凹状を透過した光は、マットの中心軸の方向に回折
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一眼レフカメラ等に搭
載される焦点板におけるマットの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、上記マットの製造方法に係る技術
として、特開平1−178943号公報に開示されてい
るものが知られている。特開平1−178943号公報
に開示された発明は、マットを製造する際に用いられる
母型の製造方法に関するもので、周知の方法により基板
上にフォトレジストからなる凹凸状のパターンを形成し
た後、加熱処理してパターンをレンズ状に変形すること
で母型を作製している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記母型は、
加熱処理のみによってレンズ状にパターンを変形してい
るので、全面が同じパターン形状になってしまう。その
ため、かかる母型を用いて製造したマットは、全面が同
じパターンであり、全面にわたり拡散性(回折特性)が
一様となるので、マット周辺部での拡散光の一部はファ
インダー光学系に入射せず、その結果、中心より周辺の
方が暗いマットとなる問題点がある。本発明は、上記従
来技術の問題点に鑑みてなされたもので、中心から周辺
まで一様な明るさを有するマットを得ることができるマ
ットの製造方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のマットの製造方法は、図1から図6に示す
ように構成した。なお、図1及び図2は、理解を容易に
するため、フォトレジストパターンを1個のみ拡大して
示してある。まず、平面基板1上にポジ型フォトレジス
トを塗布した後、プレベークし、次いでフォトマスクを
通して上記ポジ型フォトレジストを露光、現像処理し、
上記フォトマスクの遮光部の形状を底面あるいは上面と
する略柱状のフォトレジストパターン2を形成する(図
1参照)。次に、平面基板1を基板平面内で中心5を中
心に回転させつつ加熱して上記フォトレジストパターン
2を変形させ、その上部が平面基板1の外周方向に偏向
した略レンズ状の曲面4aを有するフォトレジスト4の
集合体を形成する(図2,3参照)。その後、降温して
上記フォトレジスト4の集合体を硬化したものを母型に
用いて電鋳反転し、凹形のファーザー6を作る(図4参
照)。そして、凹形のファーザー6を電鋳反転して凸形
のスタンパ7を作り(図5参照)、スタンパ7を用いて
樹脂を成形し、凹状のマット8を得る(図6参照)。
【0005】また、図3に示す略レンズ状の曲面を有す
るフォトレジスト4の集合体は、平面基板1の外周から
エアを吸引しつつ加熱して形成してもよい。
【0006】
【作用】架橋硬化後のフォトレジストパターン2は、軟
化温度があり、その位の温度にまで過熱してやれば、フ
ォトレジストパターン2は軟化する。フォトレジスト特
有の適当な温度に設定してやれば、フォトレジストパタ
ーン2は軟化し、外力3や自重により変形可能となる。
この時、回転による遠心力または、外周からのエア吸引
による圧力差による力3は、中心5から外周向きに作用
する力となり、フォトレジストパターン2は、変形して
外周向きに偏向した略レンズ状の曲面4aをなす(図2
参照)。このとき、フォトレジストパターン2が集合体
であれば、上記作用により外周向きに偏向した略レンズ
状の曲面4aを有するフォトレジスト4の集合体が得ら
れる(図3参照)。
【0007】こうして得られたフォトレジスト4のパタ
ーンを母型とし、電鋳反転してファーザー6(図4参
照)、ファーザーを電鋳反転してスタンパ7(図5参
照)スタンパ7で樹脂を成形して製品(マスク)8(図
6参照)とすると、母型が凸形、ファーザーが凹形、ス
タンパ7が凸形、製品8は凹形となる。すなわち、製品
8は、頂点が外側に偏芯した凹状のくぼみの集合体の形
状となる。
【0008】ところで、頂点9の偏芯した凹状のレンズ
に光が透過した時は、回折光強度のピークは偏芯方向の
逆方向に生ずる(図7参照)。従って、頂点が外周方向
に偏芯した凹状の形状の周辺部を透過した光は、中心方
向に向かって拡散(回折)する(図8参照)。このた
め、周辺部を透過した光も効率良く、ファインダー光学
系に入り、全面が一様な明るさのマットが製造できる。
頂点の偏芯度合は、外側に設けたパターン程大きい方が
理想的である。
【0009】
【実施例1】本発明の実施例1を図9から図13を用い
て説明する。まず、石英基板10をオーブンにより20
0℃の温度で30分間ベーキングし、乾燥する。次に、
石英基板10の表面にシランカップリング処理を施し、
その表面にポジ型フォトレジスト11をスピンコーター
で厚さ4μmに塗布する。その後、φ14μmの円形遮
光部12をピッチ17μmで配列して形成したフォトマ
スク13(図9参照)を通して、上記ポジ型フォトレジ
スト11を露光する(図10参照)。そして、露光した
ポジ型フォトレジスト11を有機アルカリ現像液で現像
処理し、複数の略円柱状からなるレジストパターン14
の配列体15を得る(図11参照)。
【0010】次に、上記配列体15を加熱装置16内の
回転台17の上に載置し(図12参照)、加熱装置16
内の温度雰囲気を160℃に加熱保持しつつ、回転台1
7を回転する。これにより、レジストパターン14は軟
化され、また遠心力と重力によって変形し、レジストパ
ターン14の上部が、基板10の外周側ほどより一層外
側に偏向した略レンズ状の曲面18aを有する凸形の変
形レジストパターン18が得られる(図13参照)。そ
して、変形レジストパターン18が所望の形状になった
時点で、加熱及び回転を止め、変形レジストパターン1
8を冷却し、硬化する。この時の条件として、変形レジ
ストパターン18の裾と基板10とのなす角(接触角)
θは、鋭角となることが必要で、望ましくは60°以下
が好ましい。
【0011】次に、上記凸形の変形レジストパターン1
8を有する配列体15を母型とし、その表面に真空蒸着
により金を1000Åの厚さで成膜した後、Ni電鋳す
る。そして、母型と分離して表面のフォトレジストをア
ルコール、アセトン等の有機溶剤で除去し、上記変形レ
ジストパターン18を反転した凹形のファーザーを得
る。次に、ファーザーの表面を脱脂洗浄、酸洗浄し、周
知の離型処理を施した後、Ni電鋳をして凸形のスタン
パを得る。そして、上記スタンパを用いて樹脂を成形
し、上記変形レジストパターン18を反転した形状の凹
形を有する製品(マット)を得る。以上のように、本実
施例によれば、簡易な方法で、全面が一様な明るさを有
するマットを得ることができる。
【0012】
【実施例2】本発明の実施例2を図9から図13及び図
14を用いて説明する。まず、Si基板10の表面にシ
ランカップリング処理を施し、ポジ型フォトレジスト1
1をスピンコーターで厚さ4μmに塗布した後、ホット
プレートでプレベークし、溶剤を飛ばす。次に、φ14
μmの円形遮光部12をピッチ17μmで配列して形成
したフォトマスク13(図9参照)を通して、上記ポジ
型フォトレジスト11を露光する(図10参照)。そし
て、有機アルカリ現像液により現像処理し、複数の略円
柱状からなるレジストパターン14の配列体15を得る
(図11参照)。
【0013】次に、上記配列体15を加熱装置20内の
回転台21上にセットし(図14参照)、加熱装置20
内の温度雰囲気を165℃に加熱保持する。回転台21
は、冷却チャンネル22を有しており、回転台21自体
は冷却されるようになっている。そして、回転台21を
冷却チャンネル22で110℃に冷却して回転する。こ
れにより、レジストパターン14は軟化され、また、遠
心力と自重によって変形し、レジストパターン14の上
部が、基板10の外周側ほど外側に偏向した略レンズ状
の曲面18aを有する変形レジストパターン18が得ら
れる(図13参照)。そして、変形レジストパターン1
8が所望の形状になった所で加熱及び回転を止め、変形
レジストパターン18を冷却し、硬化する。この時の条
件として、変形レジストパターン18の裾と基板10と
のなす角(接触角)θは、鋭角となることが必要で、望
ましくは60℃以下が好ましい。
【0014】なお、凹形のファーザー、凸形のスタンパ
及び凹形の製造を得る方法は実施例1と同様であるの
で、その説明は省略する。
【0015】本実施例によれば、変形レジストパターン
18を形成する際、レジストパターン14の下部を冷却
することができるため、レジストパターン14の上部
を、より高い温度に加熱できるので、より軟化させ、そ
の変形をスムースに行うことができる。
【0016】
【実施例3】本発明の実施例3を図9から図13及び図
15を用いて説明する。まず、石英基板10をオーブン
により200℃の温度で30分間ベーキングし、乾燥す
る。次に、石英基板10の表面にシランカップリング処
理を施し、その表面にポジ型フォトレジスト11をスピ
ンコーターで厚さ4μmに塗布する。その後、φ14μ
mの円形遮光部12をピッチ17μmで配列して形成し
たフォトマスク13(図9参照)を通して、上記ポジ型
フォトレジスト11を露光する(図10参照)。そし
て、露光したポジ型フォトレジスト11を有機アルカリ
現像液で現像処理し、複数の略円柱状からなるレジスト
パターン14の配列体15を得る(図11参照)。
【0017】次に、上記配列体15を加熱装置25内の
置き台26上にセットする(図15参照)。加熱装置2
5には、ヒータを兼ねる蓋27が設けられており、蓋2
7の中心部には穴28が形成されている。そして、基板
10の外周は、置き台26と蓋27の間がスリット状の
吸引口29となっており、この吸引口29からエアを吸
引するロータリーポンプ30が設けられている。
【0018】配列体15を置き台26上にセットした
後、ヒータ(蓋27)を動作させ、260℃に加熱する
と同時に、ロータリーポンプ30によりスリット状の吸
引口29からエアを吸引する。このとき、外気と加熱装
置25内の圧力差により、蓋27の中心部に設けた穴2
8から空気が加熱装置25内に入ってくる。これによ
り、レジストパターン14は、加熱によって軟化され、
かつ、圧力差による力を受けて、その上部がエアの流れ
る力を受けて、その上部がエアの流れる方向に変形する
とともに自重によって丸みを帯び、基板10の外周側ほ
ど外側に偏向した略レンズ状の曲面18aを有する変形
レジストパターン18が得られる(図13参照)。そし
て、変形レジストパターン18が所望の形状になった所
で、ヒータ、ロータリーポンプ30の動作を止め、変形
レジストパターン18を冷却し、硬化する。その後、実
施例1と同様にして、ファーザー、スタンパを形成し、
凹形の製品を得る。
【0019】本実施例によれば、全面が一様な明るさの
マットを得ることができる。
【0020】
【実施例4】本発明の実施例4を図9から図13及び図
16を用いて説明する。まず、Si基板10の表面にシ
ランカップリング処理を施し、ポジ型フォトレジスト1
1をスピンコーターで厚さ4μmに塗布した後、ホット
プレートでプレベークし、溶剤を飛ばす。次に、φ14
μmの円形遮光部12をピッチ17μmで配列して形成
したフォトマスク13(図9参照)を通して、上記ポジ
型フォトレジスト11を露光する(図10参照)。そし
て、有機アルカリ現像液により現像処理し、複数の略円
柱状からなるレジストパターン14の配列体15を得る
(図11参照)。
【0021】次に、上記配列体15を加熱装置31内の
置き台32上にセットする(図16参照)。置き台32
内には、冷却チャンネル33が設けられている。加熱装
置31には、ヒータを兼ねる蓋34が設けられており、
蓋34の中心部には穴35が形成されている。そして、
基板10の外周は、置き台32と蓋34の間がスリット
状の吸引口36となっており、この吸引口36からエア
を吸引するロータリーポンプ37が設けられている。
【0022】配列体15を置き台32上にセットした
後、ヒータ(蓋34)を動作させ、165℃に加熱する
とともに、置き台32の冷却チャンネル33を動作させ
て、置き台32を120℃に冷却する。同時に、ロータ
リーポンプ37でスリット状の吸引口36からエアを吸
引する。このとき、外気と加熱装置31内の圧力差によ
り、蓋34の中心部に設けた穴35から空気が加熱装置
31内に入ってくる。これにより、レジストパターン1
4は、加熱により軟化され、かつ、圧力差による力を受
けて、その上部がエアの流れる方向に変形するとともに
自重によって丸みを帯び、基板10の外周側ほど外側に
偏向した略レンズ状の曲面18aを有する変形レジスト
パターン18が得られる(図13参照)。そして、変形
レジストパターン18が、所望の形状になった所で冷却
し、硬化する。その後、実施例1と同様にして、ファー
ザー、スタンパを形成し、凹形の製品を得る。
【0023】本実施例によれば、変形レジストパターン
18を形成する際、その下部を置き台32により冷却し
ているので、レジストパターン14の上部を、より高い
温度に加熱して、より軟化させてその変形をスムースに
行うことができる。
【0024】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、フォト
レジストパターンを加熱すると同時に、回転あるいは吸
引してフォトレジストパターンに力を作用させ、基板の
外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有するフォトレ
ジストを得ることができる。従って、これを母型に用い
ることによって、同様に偏向した凹形を形成し、中心か
ら周辺まで一様な明るさを有するマットを製造すること
が可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一工程におけるレジストパターンの説
明図である。
【図2】本発明の一工程における偏向したフォトレジス
トの説明図である。
【図3】本発明の一工程における偏向したフォトレジス
トの集合体の説明図である。
【図4】本発明の一工程におけるファーザーの断面図で
ある。
【図5】本発明の一工程におけるスタンパの断面図であ
る。
【図6】本発明により製造したマットの断面図である。
【図7】偏向した凹状レンズにおける回折光を説明する
ための図である。
【図8】本発明により製造したマットの透過光を説明す
るための図である。
【図9】本発明の各実施例に用いるフォトマスクの平面
図である。
【図10】本発明の各実施例におけるポジ型フォトレジ
ストの露光状態を示す断面図である。
【図11】本発明の各実施例におけるレジストパターン
を示す断面図である。
【図12】本発明の実施例1に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。
【図13】本発明の各実施例における変形レジストパタ
ーンを示す断面図である。
【図14】本発明の実施例2に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。
【図15】本発明の実施例3に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。
【図16】本発明の実施例4に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。
【符号の説明】
1 平面基板 2 フォトレジストパターン 4 フォトレジスト 7 スタンパ 9 マット

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面基板上にポジ型フォトレジストを塗
    布した後、プレベークし、次いでフォトマスクを通して
    上記ポジ型フォトレジストを露光、現像処理し、上記フ
    ォトマスクの遮光部の形状を底面あるいは上面とする略
    柱状のフォトレジストパターンを形成する工程と、上記
    平面基板を基板平面内で回転させつつ加熱して上記フォ
    トレジストパターンを変形させ、その上部が平面基板の
    外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有するフォトレ
    ジストの集合体を形成する工程と、降温して上記フォト
    レジストの集合体を硬化したものを母型に用いて電鋳反
    転し、ファーザーを作る工程と、上記ファーザーを電鋳
    反転してスタンパ作る工程と、上記スタンパを用いて樹
    脂を成形しマットを得る工程とからなるマットの製造方
    法。
  2. 【請求項2】 前記フォトレジストパターンの上部が平
    面基板の外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有する
    フォトレジストの集合体を形成する工程は、平面基板の
    外周からエアを吸引しつつ加熱してフォトレジストパタ
    ーンを変形することを特徴とする請求項1記載のマット
    の製造方法。
JP15112193A 1993-05-28 1993-05-28 マットの製造方法 Expired - Fee Related JP3396056B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15112193A JP3396056B2 (ja) 1993-05-28 1993-05-28 マットの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15112193A JP3396056B2 (ja) 1993-05-28 1993-05-28 マットの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06337305A true JPH06337305A (ja) 1994-12-06
JP3396056B2 JP3396056B2 (ja) 2003-04-14

Family

ID=15511829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15112193A Expired - Fee Related JP3396056B2 (ja) 1993-05-28 1993-05-28 マットの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3396056B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100456242B1 (ko) * 2000-03-22 2004-11-10 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 성형광학패널 및 그 성형금형
JP2005148427A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Olympus Corp 焦点板原盤及びその製造方法
JP2010049267A (ja) * 1998-05-08 2010-03-04 Asahi Kasei Corp マスター光学拡散体の作成方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010049267A (ja) * 1998-05-08 2010-03-04 Asahi Kasei Corp マスター光学拡散体の作成方法
KR100456242B1 (ko) * 2000-03-22 2004-11-10 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 성형광학패널 및 그 성형금형
JP2005148427A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Olympus Corp 焦点板原盤及びその製造方法
JP4527967B2 (ja) * 2003-11-17 2010-08-18 オリンパス株式会社 焦点板原盤及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3396056B2 (ja) 2003-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63148631A (ja) ウエハ基板上に平坦な被膜を形成する方法
JP2945440B2 (ja) 固体撮像装置の製造方法
TWI641072B (zh) 微拾取陣列及其製造方法
JPH03198003A (ja) マイクロレンズアレイの製造方法
JPH11119013A (ja) 反射体の製造方法及び製造装置
JP3396056B2 (ja) マットの製造方法
WO2005008780A1 (en) Image sensor, method for fabricating the image sensor, and mold for fabricating micro condenser element array used in the same
KR19990072941A (ko) 치수정밀도가높은포토마스크를형성할수있는포토마스크형성방법및열처리장치
JP2981256B2 (ja) 光学部品の製造方法
CN113740942B (zh) 一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用
TWI747504B (zh) 遮罩版及其製備方法
CN110954977B (zh) 一种环烯烃共聚物微透镜阵列的制备方法
JP2001518206A (ja) 光誘導構造体の製造方法
KR101401579B1 (ko) 와이어 그리드 편광자 제조 방법
JPH06347871A (ja) マット用母型の製造方法
CN110780365A (zh) 利用光刻、电铸工艺制作微透镜阵列的方法
CN113759451B (zh) 一种曲面光栅的加工装置及制备方法
JP2969842B2 (ja) 固体撮像素子の製造方法
TWI714445B (zh) 微透鏡結構及其製造方法
KR20190087028A (ko) 마이크로렌즈 어레이 및 그 형성 방법
JP3041916B2 (ja) レンズアレイの製造方法
CN111483099B (zh) 用于隐形眼镜脱模的模具及其方法
JPS60102740A (ja) 半導体装置の製造装置
JPH08190134A (ja) 焦点板用原盤の作製方法
JP3947279B2 (ja) 凹凸パターンの形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030121

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees