JPH06337305A - マットの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 中心から周辺まで一様な明るさを得る。 【構成】 平面基板上にポジ型フォトレジストパターン
を形成する。次に、平面基板を基板平面内で回転しつつ
加熱して、上記フォトレジストパターンを変形し、上部
が平面基板の外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有
するフォトレジストの集合体を形成する。その後、上記
集合体を母型に用いて電鋳反転し、凹形のファーザーを
得る。次に、ファーザーを電鋳反転して凸形のスタンパ
を作り、このスタンパを用いて凹状のマットを得る。凹
状の形状は、その頂点がマットの外周方向に偏心してお
り、凹状を透過した光は、マットの中心軸の方向に回折
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、一眼レフカメラ等に搭
載される焦点板におけるマットの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上記マットの製造方法に係る技術
として、特開平１−１７８９４３号公報に開示されてい
るものが知られている。特開平１−１７８９４３号公報
に開示された発明は、マットを製造する際に用いられる
母型の製造方法に関するもので、周知の方法により基板
上にフォトレジストからなる凹凸状のパターンを形成し
た後、加熱処理してパターンをレンズ状に変形すること
で母型を作製している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記母型は、
加熱処理のみによってレンズ状にパターンを変形してい
るので、全面が同じパターン形状になってしまう。その
ため、かかる母型を用いて製造したマットは、全面が同
じパターンであり、全面にわたり拡散性（回折特性）が
一様となるので、マット周辺部での拡散光の一部はファ
インダー光学系に入射せず、その結果、中心より周辺の
方が暗いマットとなる問題点がある。本発明は、上記従
来技術の問題点に鑑みてなされたもので、中心から周辺
まで一様な明るさを有するマットを得ることができるマ
ットの製造方法を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のマットの製造方法は、図１から図６に示す
ように構成した。なお、図１及び図２は、理解を容易に
するため、フォトレジストパターンを１個のみ拡大して
示してある。まず、平面基板１上にポジ型フォトレジス
トを塗布した後、プレベークし、次いでフォトマスクを
通して上記ポジ型フォトレジストを露光、現像処理し、
上記フォトマスクの遮光部の形状を底面あるいは上面と
する略柱状のフォトレジストパターン２を形成する（図
１参照）。次に、平面基板１を基板平面内で中心５を中
心に回転させつつ加熱して上記フォトレジストパターン
２を変形させ、その上部が平面基板１の外周方向に偏向
した略レンズ状の曲面４ａを有するフォトレジスト４の
集合体を形成する（図２，３参照）。その後、降温して
上記フォトレジスト４の集合体を硬化したものを母型に
用いて電鋳反転し、凹形のファーザー６を作る（図４参
照）。そして、凹形のファーザー６を電鋳反転して凸形
のスタンパ７を作り（図５参照）、スタンパ７を用いて
樹脂を成形し、凹状のマット８を得る（図６参照）。

【０００５】また、図３に示す略レンズ状の曲面を有す
るフォトレジスト４の集合体は、平面基板１の外周から
エアを吸引しつつ加熱して形成してもよい。

【０００６】

【作用】架橋硬化後のフォトレジストパターン２は、軟
化温度があり、その位の温度にまで過熱してやれば、フ
ォトレジストパターン２は軟化する。フォトレジスト特
有の適当な温度に設定してやれば、フォトレジストパタ
ーン２は軟化し、外力３や自重により変形可能となる。
この時、回転による遠心力または、外周からのエア吸引
による圧力差による力３は、中心５から外周向きに作用
する力となり、フォトレジストパターン２は、変形して
外周向きに偏向した略レンズ状の曲面４ａをなす（図２
参照）。このとき、フォトレジストパターン２が集合体
であれば、上記作用により外周向きに偏向した略レンズ
状の曲面４ａを有するフォトレジスト４の集合体が得ら
れる（図３参照）。

【０００７】こうして得られたフォトレジスト４のパタ
ーンを母型とし、電鋳反転してファーザー６（図４参
照）、ファーザーを電鋳反転してスタンパ７（図５参
照）スタンパ７で樹脂を成形して製品（マスク）８（図
６参照）とすると、母型が凸形、ファーザーが凹形、ス
タンパ７が凸形、製品８は凹形となる。すなわち、製品
８は、頂点が外側に偏芯した凹状のくぼみの集合体の形
状となる。

【０００８】ところで、頂点９の偏芯した凹状のレンズ
に光が透過した時は、回折光強度のピークは偏芯方向の
逆方向に生ずる（図７参照）。従って、頂点が外周方向
に偏芯した凹状の形状の周辺部を透過した光は、中心方
向に向かって拡散（回折）する（図８参照）。このた
め、周辺部を透過した光も効率良く、ファインダー光学
系に入り、全面が一様な明るさのマットが製造できる。
頂点の偏芯度合は、外側に設けたパターン程大きい方が
理想的である。

【０００９】

【実施例１】本発明の実施例１を図９から図１３を用い
て説明する。まず、石英基板１０をオーブンにより２０
０℃の温度で３０分間ベーキングし、乾燥する。次に、
石英基板１０の表面にシランカップリング処理を施し、
その表面にポジ型フォトレジスト１１をスピンコーター
で厚さ４μｍに塗布する。その後、φ１４μｍの円形遮
光部１２をピッチ１７μｍで配列して形成したフォトマ
スク１３（図９参照）を通して、上記ポジ型フォトレジ
スト１１を露光する（図１０参照）。そして、露光した
ポジ型フォトレジスト１１を有機アルカリ現像液で現像
処理し、複数の略円柱状からなるレジストパターン１４
の配列体１５を得る（図１１参照）。

【００１０】次に、上記配列体１５を加熱装置１６内の
回転台１７の上に載置し（図１２参照）、加熱装置１６
内の温度雰囲気を１６０℃に加熱保持しつつ、回転台１
７を回転する。これにより、レジストパターン１４は軟
化され、また遠心力と重力によって変形し、レジストパ
ターン１４の上部が、基板１０の外周側ほどより一層外
側に偏向した略レンズ状の曲面１８ａを有する凸形の変
形レジストパターン１８が得られる（図１３参照）。そ
して、変形レジストパターン１８が所望の形状になった
時点で、加熱及び回転を止め、変形レジストパターン１
８を冷却し、硬化する。この時の条件として、変形レジ
ストパターン１８の裾と基板１０とのなす角（接触角）
θは、鋭角となることが必要で、望ましくは６０°以下
が好ましい。

【００１１】次に、上記凸形の変形レジストパターン１
８を有する配列体１５を母型とし、その表面に真空蒸着
により金を１０００Åの厚さで成膜した後、Ｎｉ電鋳す
る。そして、母型と分離して表面のフォトレジストをア
ルコール、アセトン等の有機溶剤で除去し、上記変形レ
ジストパターン１８を反転した凹形のファーザーを得
る。次に、ファーザーの表面を脱脂洗浄、酸洗浄し、周
知の離型処理を施した後、Ｎｉ電鋳をして凸形のスタン
パを得る。そして、上記スタンパを用いて樹脂を成形
し、上記変形レジストパターン１８を反転した形状の凹
形を有する製品（マット）を得る。以上のように、本実
施例によれば、簡易な方法で、全面が一様な明るさを有
するマットを得ることができる。

【００１２】

【実施例２】本発明の実施例２を図９から図１３及び図
１４を用いて説明する。まず、Ｓｉ基板１０の表面にシ
ランカップリング処理を施し、ポジ型フォトレジスト１
１をスピンコーターで厚さ４μｍに塗布した後、ホット
プレートでプレベークし、溶剤を飛ばす。次に、φ１４
μｍの円形遮光部１２をピッチ１７μｍで配列して形成
したフォトマスク１３（図９参照）を通して、上記ポジ
型フォトレジスト１１を露光する（図１０参照）。そし
て、有機アルカリ現像液により現像処理し、複数の略円
柱状からなるレジストパターン１４の配列体１５を得る
（図１１参照）。

【００１３】次に、上記配列体１５を加熱装置２０内の
回転台２１上にセットし（図１４参照）、加熱装置２０
内の温度雰囲気を１６５℃に加熱保持する。回転台２１
は、冷却チャンネル２２を有しており、回転台２１自体
は冷却されるようになっている。そして、回転台２１を
冷却チャンネル２２で１１０℃に冷却して回転する。こ
れにより、レジストパターン１４は軟化され、また、遠
心力と自重によって変形し、レジストパターン１４の上
部が、基板１０の外周側ほど外側に偏向した略レンズ状
の曲面１８ａを有する変形レジストパターン１８が得ら
れる（図１３参照）。そして、変形レジストパターン１
８が所望の形状になった所で加熱及び回転を止め、変形
レジストパターン１８を冷却し、硬化する。この時の条
件として、変形レジストパターン１８の裾と基板１０と
のなす角（接触角）θは、鋭角となることが必要で、望
ましくは６０℃以下が好ましい。

【００１４】なお、凹形のファーザー、凸形のスタンパ
及び凹形の製造を得る方法は実施例１と同様であるの
で、その説明は省略する。

【００１５】本実施例によれば、変形レジストパターン
１８を形成する際、レジストパターン１４の下部を冷却
することができるため、レジストパターン１４の上部
を、より高い温度に加熱できるので、より軟化させ、そ
の変形をスムースに行うことができる。

【００１６】

【実施例３】本発明の実施例３を図９から図１３及び図
１５を用いて説明する。まず、石英基板１０をオーブン
により２００℃の温度で３０分間ベーキングし、乾燥す
る。次に、石英基板１０の表面にシランカップリング処
理を施し、その表面にポジ型フォトレジスト１１をスピ
ンコーターで厚さ４μｍに塗布する。その後、φ１４μ
ｍの円形遮光部１２をピッチ１７μｍで配列して形成し
たフォトマスク１３（図９参照）を通して、上記ポジ型
フォトレジスト１１を露光する（図１０参照）。そし
て、露光したポジ型フォトレジスト１１を有機アルカリ
現像液で現像処理し、複数の略円柱状からなるレジスト
パターン１４の配列体１５を得る（図１１参照）。

【００１７】次に、上記配列体１５を加熱装置２５内の
置き台２６上にセットする（図１５参照）。加熱装置２
５には、ヒータを兼ねる蓋２７が設けられており、蓋２
７の中心部には穴２８が形成されている。そして、基板
１０の外周は、置き台２６と蓋２７の間がスリット状の
吸引口２９となっており、この吸引口２９からエアを吸
引するロータリーポンプ３０が設けられている。

【００１８】配列体１５を置き台２６上にセットした
後、ヒータ（蓋２７）を動作させ、２６０℃に加熱する
と同時に、ロータリーポンプ３０によりスリット状の吸
引口２９からエアを吸引する。このとき、外気と加熱装
置２５内の圧力差により、蓋２７の中心部に設けた穴２
８から空気が加熱装置２５内に入ってくる。これによ
り、レジストパターン１４は、加熱によって軟化され、
かつ、圧力差による力を受けて、その上部がエアの流れ
る力を受けて、その上部がエアの流れる方向に変形する
とともに自重によって丸みを帯び、基板１０の外周側ほ
ど外側に偏向した略レンズ状の曲面１８ａを有する変形
レジストパターン１８が得られる（図１３参照）。そし
て、変形レジストパターン１８が所望の形状になった所
で、ヒータ、ロータリーポンプ３０の動作を止め、変形
レジストパターン１８を冷却し、硬化する。その後、実
施例１と同様にして、ファーザー、スタンパを形成し、
凹形の製品を得る。

【００１９】本実施例によれば、全面が一様な明るさの
マットを得ることができる。

【００２０】

【実施例４】本発明の実施例４を図９から図１３及び図
１６を用いて説明する。まず、Ｓｉ基板１０の表面にシ
ランカップリング処理を施し、ポジ型フォトレジスト１
１をスピンコーターで厚さ４μｍに塗布した後、ホット
プレートでプレベークし、溶剤を飛ばす。次に、φ１４
μｍの円形遮光部１２をピッチ１７μｍで配列して形成
したフォトマスク１３（図９参照）を通して、上記ポジ
型フォトレジスト１１を露光する（図１０参照）。そし
て、有機アルカリ現像液により現像処理し、複数の略円
柱状からなるレジストパターン１４の配列体１５を得る
（図１１参照）。

【００２１】次に、上記配列体１５を加熱装置３１内の
置き台３２上にセットする（図１６参照）。置き台３２
内には、冷却チャンネル３３が設けられている。加熱装
置３１には、ヒータを兼ねる蓋３４が設けられており、
蓋３４の中心部には穴３５が形成されている。そして、
基板１０の外周は、置き台３２と蓋３４の間がスリット
状の吸引口３６となっており、この吸引口３６からエア
を吸引するロータリーポンプ３７が設けられている。

【００２２】配列体１５を置き台３２上にセットした
後、ヒータ（蓋３４）を動作させ、１６５℃に加熱する
とともに、置き台３２の冷却チャンネル３３を動作させ
て、置き台３２を１２０℃に冷却する。同時に、ロータ
リーポンプ３７でスリット状の吸引口３６からエアを吸
引する。このとき、外気と加熱装置３１内の圧力差によ
り、蓋３４の中心部に設けた穴３５から空気が加熱装置
３１内に入ってくる。これにより、レジストパターン１
４は、加熱により軟化され、かつ、圧力差による力を受
けて、その上部がエアの流れる方向に変形するとともに
自重によって丸みを帯び、基板１０の外周側ほど外側に
偏向した略レンズ状の曲面１８ａを有する変形レジスト
パターン１８が得られる（図１３参照）。そして、変形
レジストパターン１８が、所望の形状になった所で冷却
し、硬化する。その後、実施例１と同様にして、ファー
ザー、スタンパを形成し、凹形の製品を得る。

【００２３】本実施例によれば、変形レジストパターン
１８を形成する際、その下部を置き台３２により冷却し
ているので、レジストパターン１４の上部を、より高い
温度に加熱して、より軟化させてその変形をスムースに
行うことができる。

【００２４】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、フォト
レジストパターンを加熱すると同時に、回転あるいは吸
引してフォトレジストパターンに力を作用させ、基板の
外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有するフォトレ
ジストを得ることができる。従って、これを母型に用い
ることによって、同様に偏向した凹形を形成し、中心か
ら周辺まで一様な明るさを有するマットを製造すること
が可能になった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一工程におけるレジストパターンの説
明図である。

【図２】本発明の一工程における偏向したフォトレジス
トの説明図である。

【図３】本発明の一工程における偏向したフォトレジス
トの集合体の説明図である。

【図４】本発明の一工程におけるファーザーの断面図で
ある。

【図５】本発明の一工程におけるスタンパの断面図であ
る。

【図６】本発明により製造したマットの断面図である。

【図７】偏向した凹状レンズにおける回折光を説明する
ための図である。

【図８】本発明により製造したマットの透過光を説明す
るための図である。

【図９】本発明の各実施例に用いるフォトマスクの平面
図である。

【図１０】本発明の各実施例におけるポジ型フォトレジ
ストの露光状態を示す断面図である。

【図１１】本発明の各実施例におけるレジストパターン
を示す断面図である。

【図１２】本発明の実施例１に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。

【図１３】本発明の各実施例における変形レジストパタ
ーンを示す断面図である。

【図１４】本発明の実施例２に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。

【図１５】本発明の実施例３に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。

【図１６】本発明の実施例４に用いる加熱装置を示す概
略構成図である。

【符号の説明】

１ 平面基板 ２ フォトレジストパターン ４ フォトレジスト ７ スタンパ ９ マット

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平面基板上にポジ型フォトレジストを塗
   布した後、プレベークし、次いでフォトマスクを通して
   上記ポジ型フォトレジストを露光、現像処理し、上記フ
   ォトマスクの遮光部の形状を底面あるいは上面とする略
   柱状のフォトレジストパターンを形成する工程と、上記
   平面基板を基板平面内で回転させつつ加熱して上記フォ
   トレジストパターンを変形させ、その上部が平面基板の
   外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有するフォトレ
   ジストの集合体を形成する工程と、降温して上記フォト
   レジストの集合体を硬化したものを母型に用いて電鋳反
   転し、ファーザーを作る工程と、上記ファーザーを電鋳
   反転してスタンパ作る工程と、上記スタンパを用いて樹
   脂を成形しマットを得る工程とからなるマットの製造方
   法。
2. 【請求項２】 前記フォトレジストパターンの上部が平
   面基板の外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有する
   フォトレジストの集合体を形成する工程は、平面基板の
   外周からエアを吸引しつつ加熱してフォトレジストパタ
   ーンを変形することを特徴とする請求項１記載のマット
   の製造方法。