TWI747504B - 遮罩版及其製備方法 - Google Patents

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TWI747504B
TWI747504B TW109131954A TW109131954A TWI747504B TW I747504 B TWI747504 B TW I747504B TW 109131954 A TW109131954 A TW 109131954A TW 109131954 A TW109131954 A TW 109131954A TW I747504 B TWI747504 B TW I747504B
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庄迪斯
秦毅
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大陸商豪威光電子科技(上海)有限公司
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Abstract

本發明提供了一種遮罩版及其製備方法,首先提供具有凹槽的底模,然後在凹槽中形成不透光層,接著在底模上形成透光過渡層並蓋上透光基板,透光過渡層可作為透光基板與不透光層之間的粘合層,以利於底模離模,離模之後,形成所述遮罩版。本發明中不透光層凸出於透光基板,利用所述遮罩版對具有坑穴的基底進行曝光時,不透光層可伸進基底的坑穴中,從而減小與坑穴底部之間的距離,增大曝光後形成的圖案的邊緣的銳利度和清晰度,進而提高器件的精度和可靠性。

Description

遮罩版及其製備方法
本發明係關於鏡頭製備技術領域,尤其關於一種遮罩版及其製備方法。
曝光技術可以可分為接近式曝光、接觸式曝光和非接近式曝光,三種曝光方式的區別在於:曝光時遮罩版與基片間相對關係是接近、貼緊還是分開。接近式曝光及接觸式曝光具有分辨率高、複印面積大、複印精度好、曝光設備簡單、操作方便和生產效率高等特點,但由於塗覆光刻膠的基片與遮罩版的接觸或接近會產生靜電吸附灰塵及其它顆粒,每一次接觸或接近過程,會在基片和遮罩版上都造成一定的缺陷,影響成品率和遮罩版版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制。因此,接近式曝光及接觸式曝光一般用於精密度要求不高的器件的製備,例如鏡頭的分立元件的製備或中、小規模集成電路的製備。
接近式曝光及接觸式曝光用的遮罩版可以通用,遮罩版包括透光基板及形成於透光基板上的不透光層,目前,接近式曝光及接觸式曝光用的遮罩版均為平整遮罩版,也即,透光基板的頂表面與不透光層的頂表面的高度近似相等,使得整個遮罩版的頂表面近似是平整的。利用這種平整的遮罩版對具有坑穴的基底進行接觸曝光時,由於不透光層與坑穴底部的距離較遠,曝光後形成的圖案的邊緣比較模糊,圖案的分辨率和精度下降,器件的精度和穩定性也隨之降低。
本發明的目的在於提供一種遮罩版及其製備方法,能夠提高對具有坑穴的基底進行接近式曝光後形成的圖案的分辨率和精度。
為了達到上述目的,本發明提供了一種遮罩版的製備方法,包括:
提供底模,所述底模內具有若干凹槽,所述凹槽從所述底模的頂表面延伸至所述底模內;
形成不透光層於所述凹槽中,所述不透光層至少覆蓋所述凹槽的底部;
形成透光過渡層於所述底模上,並在所述透光過渡層上蓋上透光基板;以及,
將所述底模離模以形成所述遮罩版。
可選的,所述不透光層完全填充所述凹槽;或者,所述不透光層填充所述凹槽的部分深度,所述透光過渡層填充所述凹槽的剩餘深度。
塗布第一膠材於所述底模上並固化以形成所述透光過渡層;或者,滴入第一膠材於所述底模上並壓合、固化以形成所述透光過渡層。
可選的,當所述第一膠材為熱固膠時,加熱所述第一膠材以進行固化;當所述第一膠材為感光膠時,採用預定波長的光照射所述第一膠材以進行固化。
可選的,塗布第一膠材於所述底模上並靜置固化以形成所述透光過渡層,其中,所述第一膠材為硬化膠,且所述底模的邊緣具有遮擋環。
可選的,塗布第一膠材於所述底模上之後以及固化所述第一膠材之前蓋上所述透光基板。
可選的,形成不透光層於所述凹槽中的步驟包括:
滴入第二膠材至所述凹槽中並固化以形成所述不透光層,所述第二膠材不透光。
可選的,當所述第二膠材為熱固膠時,加熱所述第二膠材以進行固化;當所述第二膠材為感光膠時,採用預定波長的光照射所述第二膠材以進行固化;當所述第二膠材為硬化膠時,靜置所述第二膠材以進行固化。
本發明還提供了一種遮罩版,包括:
透光基板;
透光過渡層,位於所述透光基板上;以及,
若干不透光層,分布於所述透光過渡層上,且凸出於所述透光過渡層。
可選的,所述不透光層的頂表面與所述透光基板的頂表面之間的距離大於或等於100微米。
在本發明提供的遮罩版及其製備方法中,首先提供具有凹槽的底模,然後在凹槽中形成不透光層,接著在底模上形成透光過渡層並蓋上透光基板,透光過渡層可作為透光基板與不透光層之間的粘合層,以利於底模離模,離模之後,形成所述遮罩版。本發明中不透光層凸出於透光基板,利用所述遮罩版對具有坑穴的基底進行曝光時,不透光層可伸進基底的坑穴中,從而減小與坑穴底部之間的距離,增大曝光後形成的圖案的邊緣的銳利度和清晰度,進而提高器件的精度和可靠性。
進一步,通過控制凹槽的深度可以控制不透光層相對所述透光基板向外凸出的距離,從而能夠適應更多的器件的製備。
進一步,第一膠材和第二膠材通過加熱或曝光的方式固化,可以減少固化時間,提高製備效率。
進一步,第一膠材在固化時還可以進行壓合處理,進一步減少了固化時間,並且可以減小透光過渡層的厚度,增大遮罩版在製備時的工藝窗口。
下面將結合示意圖對本發明的具體實施方式進行更詳細的描述。根據下列描述,本發明的優點和特徵將更清楚。需說明的是,附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例,僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
實施例一
圖1為本實施例提供的遮罩版的製備方法的流程圖。如圖1所示,所述遮罩版包括:
步驟S1:提供底模,所述底模內具有若干凹槽,所述凹槽從所述底模的表面延伸至所述底模內;
步驟S2:形成不透光層於所述凹槽中,所述不透光層至少覆蓋所述凹槽的底部;
步驟S3:形成透光過渡層於所述底模上,並在所述透光過渡層上蓋上透光基板;以及,
步驟S4:將所述底模離模以形成所述遮罩版。
具體的,請參閱圖2~圖6,其為所述遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖,接下來,將結合圖2~圖6對本實施例提供的遮罩版的製備方法作進一步說明,並且,為了便於描述,本實施例將以製備攝像頭的光圈用的遮罩版為例進行說明。應理解,本發明提供的遮罩版的製備方法也可以用於製備其他遮罩版。可以理解的是,本實施例中的遮罩版可以用於接觸式曝光,也可以用於接近式曝光,本實施例將以遮罩版用於接近式曝光為例進行說明。
請參閱圖2,首先執行步驟S1,提供底模100,所述底模100中具有若干凹槽101,所述凹槽101從所述底模100的頂表面延伸至所述底模100內的一定深度。所述凹槽101將對應於所述遮罩版上的不透光圖案,通過設計所述凹槽101的形狀及分布方式可以製備出不同的不透光圖案。本實施例中,由於所述遮罩版是用於製備攝像頭的光圈,所述凹槽101的形狀為圓形,且在所述底模100呈陣列式分布。
請繼續參閱圖2,所述底模100的邊緣具有遮擋環102,所述遮擋環102是沿著所述底模100的邊緣圍繞成一圈的擋板。所述遮擋環102具有一定的高度,以防止後續工藝中產生溢膠的問題,並能更好的控制後續工藝中塗布的膠材的厚度均勻性。
本實施例中,所述底模100為金屬模具,利用數控機床在金屬模具上加工出所述凹槽101。作為可選實施例,所述底模100也可以是塑料模具,本發明不作限制。進一步,所述遮擋環102與所述底模100是一體成型的,以簡化所述底模100的製備工藝,但不以此為限。
請參閱圖3,執行步驟S2,在所述凹槽101中滴入第二膠材,直至所述第二膠材完全填滿所述凹槽101,然後將所述第二膠材固化形成所述不透光層201。可選的,所述第二膠材可以是熱固膠、感光膠或硬化膠,當所述第二膠材為熱固膠時,加熱所述第二膠材以進行固化;當所述第二膠材為感光膠時,採用預定波長的光照射所述第二膠材以進行固化;當所述第二膠材為硬化膠時,靜置所述第二膠材以進行固化。進一步,所述感光膠例如是UV膠,利用UV光照射進行固化;所述硬化膠例如是AB膠或矽膠等靜置即可固化的膠材。
應理解,由於膠材通常是透光的,在所述凹槽101中滴入所述第二膠材之前,所以需要在所述第二膠材內滴入黑色的染料,使得所述第二膠材呈黑色(根據需要,也可以是其他顏色染料,只要能在曝光過程中擋住光線即可),固化後形成的所述不透光層201即可不透光。當然,所述第二膠材也可以直接選取黑色的膠材省略滴入黑色的染料的步驟。
由於所述第二膠材完全填滿所述凹槽101,所述不透光層201也會完全填充所述凹槽101。從圖3中可見,每個所述凹槽101中均具有一所述不透光層201,且所述不透光層201的厚度等於所述凹槽101的深度,如此一來,通過控制所述凹槽101的深度即可控制所述不透光層201的厚度。
請參閱圖4,執行步驟S3,在所述底模100的頂表面上塗布第一膠材並立即蓋上透光基板203,使得所述第一膠材同時粘附在所述透光基板203及所述不透光層201上。本實施例中,所述第一膠材為硬化膠,通過靜置即可固化,固化後的所述第一膠材形成透光過渡層202。由於所述底模100邊緣具有所述遮擋環102的遮擋,所述第一膠材不會在靜置時溢出所述底模100。
應理解,所述透光過渡層202可以作為粘結層將所述透光基板203與所述不透光層201粘結在一起,即使所述第二膠材被固化後體積微縮導致所述不透光層201的頂表面略低於所述凹槽101的槽口,第一膠材也能夠流到所述凹槽101中與所述不透光層201形成良好的接觸,便於脫模。並且,由於所述透光過渡層202是可以透光的,也不會改變所述遮罩版的不透光圖案。
請參閱圖5,執行步驟S4,將所述底模100離模,形成如圖6所示的遮罩版。由於所述透光過渡層202將所述不透光層201粘附住,所述底模100能夠比較容易的脫模,不會損壞所述不透光層201。
請繼續參閱圖6,本實施例還提供了一種遮罩版,包括:
透光基板203,所述透光基板203是玻璃或石英玻璃(quartz)基板,但不以此為限;
透光過渡層202,位於所述透光基板203上;
若干不透光層201,分布於所述透光過渡層202上,且凸出於所述透光過渡層202,所述透光過渡層202將所述透光基板203與所述不透光層201粘結在一起。
本實施例中,所述不透光層201的頂表面與所述透光基板203的頂表面之間的距離大於或等於100微米,使得所述不透光層201向外凸出,所述遮罩版不再是平面結構,而是立體結構。
圖7a及圖7b是採用所述遮罩版對一基底300進行曝光時的示意圖。如圖7a及圖7b所示,所述基底300是用於形成攝像頭(具體是攝像頭的鏡頭)的基底300,所述基底300中具有若干坑穴301(圖7a及圖7b中僅示意性的展示出一個坑穴301),所述坑穴301從所述基底300的頂表面延伸至所述基底300內一定深度。所述基底300的頂表面覆蓋一層待曝光層302,所述坑穴301的底部的至少部分向上隆起形成凸出部303,所述凸出部303上的待曝光層302需要通過曝光去除,從而形成攝像頭的光圈。
利用所述遮罩版對所述基底300進行曝光時,所述不透光層201可以伸入所述坑穴301中,使得所述不透光層201與所述凸出部303的頂表面之間的曝光距離d減小,從而使得曝光後的圖案的邊緣的銳利度和清晰度,進而提高了形成的攝像頭的攝像清晰度。
圖8a及圖8b是本實施例提供的兩種不同的曝光距離d下形成的光圈的部分示意圖。其中,圖8a中的曝光距離d=500微米,圖8b中的曝光距離d=100微米,也就是說,圖8a及圖8b採用的遮罩版的不透光層201的圖案相同,區域在於,圖8b採用的遮罩版的不透光層201的厚度更大,能夠更接近於坑穴301中的凸出部303。從圖8a及圖8b中可見,曝光距離d越小,則曝光後形成的圖案的邊緣的銳利度和清晰度更好,因此,本實施例中提供的遮罩版相對於現有技術中平整的遮罩版來說,能夠提高曝光後形成的圖案的邊緣的銳利度和清晰度。
實施例二
圖9~圖12為本實施例提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖。請參閱圖9,與實施例一不同的是,本實施例中,在執行步驟S2時,只在所述凹槽101中滴入相對少量的第二膠材,使得所述第二膠材填充部分所述凹槽101,然後將所述第二膠材固化形成所述不透光層201。
由於所述第二膠材僅填充了部分所述凹槽101,所述不透光層201也會填充所述凹槽101的部分深度。從圖9中可見,每個所述凹槽101中均具有一所述不透光層201,且所述不透光層201的頂表面低於所述凹槽101的槽口。
請參閱圖10,執行步驟S3,在所述底模100的頂表面上塗布第一膠材並立即蓋上透光基板203,所述第一膠材會流到所述凹槽101中填滿所述凹槽101的剩餘深度,將所述第一膠材靜置固化後形成所述透光過渡層202,所述透光過渡層202填充所述凹槽101的未被所述不透光層201填充的部分。
在本實施例中,由於所述不透光層201僅填充所述凹槽101的部分深度,與所述底模100的接觸面較少,更有利於脫模。
請參閱圖11及圖12,執行步驟S4,將所述底模100離模後形成所述遮罩版,與實施例一不同的是,本實施例中的遮罩版中的透光過渡層202的頂表面不是平整的表面,而是具有若干凸起,所述不透光層201位於所述透光過渡層202的凸起上。在採用所述遮罩版進行曝光時,所述透光過渡層202的凸起及所述不透光層201可以一起伸進基底的坑穴內。
實施例三
圖13~圖14為本實施例提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖。請參閱圖13及圖14,與實施例二不同的是,本實施例中,所述底模100的邊緣沒有遮擋環,在執行步驟S3時,塗布第一膠材於所述底模100上並固化以形成所述透光過渡層202,所述第一膠材為熱固膠會感光膠,加熱所述第一膠材以進行固化或採用預定波長的光照射所述第一膠材以進行固化。相對於靜置固化來說,加熱固化或光照射固化的方式固化的速度較快,所述第一膠材通常會很快固化而不會溢出所述底模100,所以無需在底模100的邊緣設置遮擋環。並且,增加固化速度還可以提高製備的效率。
實施例四
圖15~圖17為本實施例提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖。請參閱圖15,與實施例三不同的是,本實施例中,在執行步驟S3時,在所述底模100上滴入所述第一膠材,並對所述第一進行加熱固化或光照固化,同時還對所述第一膠材進行壓合。舉例而言,當所述第一膠材為熱固膠時,在所述底模100上滴入所述第一膠材之後,採用一高溫的壓合頭壓合所述第一膠材,使得所述第一膠材延展至整個所述底模100的頂表面,並且同時也固化了所述第一膠材;當所述第一膠材為感光膠時,在所述底模100上滴入所述第一膠材之後,在採用預定波長的光照射所述第一膠材的同時,採用一透光的壓合頭壓合所述第一膠材,使得所述第一膠材延展至整個所述底模100的頂表面,並且同時也固化了所述第一膠材。
所述第一膠材優選滴在所述底模100的中心,且滴入的量較少以防止溢膠,通過一次性壓合、固化的方式形成所述透光過渡層202的速率更快,進一步提高了製備的效率。
請參閱圖16及圖17,執行步驟S4,將所述底模100離模後形成所述遮罩版,與實施例三不同的是,採用壓合的方式形成的所述透光過渡層202的厚度更薄,且在所述透光基板203上的分布也比較均勻。
實施例五
圖18~圖20為本實施例提供的遮罩版的底模的結構示意圖。請參閱圖18~圖20,與實施例一不同的是,本實施例中,所述底模100的遮擋環102上具有若干溢膠口102a,所述溢膠口102a從所述遮擋環102的頂表面延伸至所述遮擋環102內的一定深度,當在執行步驟S3時,在所述底模100上塗布所述第一膠材,當所述第一膠材過量時,可通過所述溢膠口102a將過量的所述第一膠材排出。
本實施例中,所述溢膠口102a的數量為4個,4個所述溢膠口102a對稱分布,但不以此為限;進一步地,所述溢膠口102a的形狀可以為半圓形、方形或梯形等,此處不再一一舉例說明。
應理解,本文所指的“透光”也可以稱之為“完全透光”,其透光率例如是大於或等於98%,可以近似看成能夠透過所有的光線;“不透光”也可以稱之為“完全不透光”,其透光率例如是小於或等於2%,可以近似看成能夠遮擋所有的光線。應理解,“透光”和“不透光”透光率不限於以上描述的範圍,所謂“透光”只是相對於“不透光”的透光率較高,並不意味著完全透光,所謂“不透光”只是相對於“透光”的透光率較低,並不意味著完全不透光,可以根據實際的工藝需要相應的“透光”和“不透光”的透光率範圍。
綜上,在本發明提供的遮罩版及其製備方法中,首先提供具有凹槽的底模,然後在凹槽中形成不透光層,接著在底模上形成透光過渡層並蓋上透光基板,透光過渡層可作為透光基板與不透光層之間的粘合層,以利於底模離模,離模之後,形成所述遮罩版。本發明中不透光層凸出於透光基板,利用所述遮罩版對具有坑穴的基底進行曝光時,不透光層可伸進基底的坑穴中,從而減小與坑穴底部之間的距離,增大曝光後形成的圖案的邊緣的銳利度和清晰度,進而提高器件的精度和可靠性。進一步,通過控制凹槽的深度可以控制不透光層相對所述透光基板向外凸出的距離,從而能夠適應更多的器件的製備。進一步,第一膠材和第二膠材通過加熱或曝光的方式固化,可以減少固化時間,提高製備效率。進一步,第一膠材在固化時還可以進行壓合處理,進一步減少了固化時間,並且可以減小透光過渡層的厚度,增大遮罩版在製備時的工藝窗口。
上述僅為本發明的優選實施例而已,並不對本發明起到任何限制作用。任何所屬技術領域的技術人員,在不脫離本發明的技術方案的範圍內,對本發明揭露的技術方案和技術內容做任何形式的等同替換或修改等變動,均屬未脫離本發明的技術方案的內容,仍屬於本發明的保護範圍之內。
100:底模 101:凹槽 102:遮擋環 102a:溢膠口 201:不透光層 202:透光過渡層 203:透光基板 300:基底 301:坑穴 302:待曝光層 303:凸出部 d:曝光距離 S1~S4:步驟
圖1為本發明實施例一提供的遮罩版的製備方法的流程圖; 圖2~圖6為本發明實施例一提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖,其中,圖6為遮罩版的結構示意圖; 圖7a~圖7b為本發明實施例一提供的採用遮罩版對一基底進行曝光的示意圖; 圖8a~圖8b是本發明實施例一提供的兩種不同的曝光距離下形成的光圈的部分示意圖; 圖9~圖12為本發明實施例二提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖,其中,圖12為遮罩版的結構示意圖; 圖13~圖14為本發明實施例三提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖; 圖15~圖17為本發明實施例四提供的遮罩版的製備方法的相應步驟對應的結構示意圖,其中,圖17為遮罩版的結構示意圖; 圖18~圖20為本發明實施例五提供的遮罩版的底模的結構示意圖。
S1~S4:步驟

Claims (10)

  1. 一種遮罩版的製備方法,其特徵在於包括:提供底模,所述底模內具有若干凹槽,所述凹槽從所述底模的頂表面延伸至所述底模內;形成不透光層於所述凹槽中,所述不透光層至少覆蓋所述凹槽的底部;形成透光過渡層於所述底模上,並在所述透光過渡層上蓋上透光基板;以及,將所述底模離模以形成所述遮罩版。
  2. 如請求項1所述的遮罩版的製備方法,其中所述不透光層完全填充所述凹槽;或者,所述不透光層填充所述凹槽的部分深度,所述透光過渡層填充所述凹槽的剩餘深度。
  3. 如請求項1所述的遮罩版的製備方法,其中塗布第一膠材於所述底模上並固化以形成所述透光過渡層;或者,滴入第一膠材於所述底模上並壓合、固化以形成所述透光過渡層。
  4. 如請求項3所述的遮罩版的製備方法,其中當所述第一膠材為熱固膠時,加熱所述第一膠材以進行固化;當所述第一膠材為感光膠時,採用預定波長的光照射所述第一膠材以進行固化。
  5. 如請求項1所述的遮罩版的製備方法,其中塗布第一膠材於所述底模上並靜置固化以形成所述透光過渡層,其中,所述第一膠材為硬化膠,且所述底模的邊緣具有遮擋環。
  6. 如請求項3或5所述的遮罩版的製備方法,其中塗布第一膠材於所述底模上之後以及固化所述第一膠材之前蓋上所述透光基板。
  7. 如請求項1所述的遮罩版的製備方法,其中形成不透光層於所述凹槽中的步驟包括: 滴入第二膠材至所述凹槽中並固化以形成所述不透光層,所述第二膠材不透光。
  8. 如請求項7所述的遮罩版的製備方法,其中當所述第二膠材為熱固膠時,加熱所述第二膠材以進行固化;當所述第二膠材為感光膠時,採用預定波長的光照射所述第二膠材以進行固化;當所述第二膠材為硬化膠時,靜置所述第二膠材以進行固化。
  9. 一種遮罩版,其特徵在於包括:透光基板;透光過渡層,位於所述透光基板上;以及若干不透光層,分布於部分所述透光過渡層上,且凸出於所述透光過渡層;其中,所述透光過渡層為不具有開口且連續的層結構。
  10. 如請求項9所述的遮罩版,其中所述不透光層的頂表面與所述透光基板的頂表面之間的距離大於或等於100微米。
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