JPH03192232A - 焦点板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカメラ等のピント合わせ用の焦点板に関する。

〔従来の技術〕

従来、−眼レフカメラ用の焦点板として様々のものが知
られている。例えば、ガラス等の母材を砂掛けにより粗
面にし、これから金型を取りプラスチック材料の表面に
凸凹を転写し、これを焦点板として使用するものが知ら
れている。また、砂掛は粗面による鋭角部分をエツチン
グ等により球面状に加工し、拡散特性を改善したものが
特開昭５８−６０６４２号公報により提案されている。

しかしこれらの焦点板は、ボケ味が自然である点では評
価は高いが、反面暗いレンズや、明るいレンズでも絞り
を絞り込んだ時に、スクリーン面に細かい砂をまいたよ
うなザラツキ感のある粒状性が見られ、見えを悪くする
と言った欠点があった。これは砂掛は面あるいはこれを
もとに表面加工した面にはミクロな凸凹形状があって、
その粒径も高さも不規則であり、その配置においても非
常にランダムであるために生じるものである。

また、別の焦点板として、ミクロな凸凹形状（粒径、高
さ）を有し、その配列を完全にそろえたマイクロレンズ
を周期的に配列した構造の焦点板が特開昭５５−９０９
３１号公報等により提案されている。この焦点板は、ザ
ラツキ感のある粒状性はなく、明るく見えの良い優れた
特徴を持つが、反面その完全周期構造であるがゆえに回
折光の方向が回折の次数に対応した特定方向に限定され
るため、多線ボケを生じる等ボケ味が不自然できたない
と言った欠点がある。

そして、上記両タイプの焦点板の欠点を解決するために
、半規則的な図形を点在させたレチクルパターンをステ
ップアンドリピート法により繰り返しながら大面積化、
してマスク原板を製作し、そのマスクパターンを感光材
に滑らかな凹凸として記録する製造方法が、特開昭５０
−２０８５３６号公報により提案されている。この焦点
板は、レチクルパターンを形成する各ドツトについてそ
の円の直径、中心位置、中心間隔を乱数によって決定す
ることにより、上述した完全不規則パターンと完全周期
パターンとの両タイプの欠点を解決しようとしたもので
ある。しかしながら、自然なボケ味を重視する場合には
、レチクルパターンのランダム性が強くなるため、完全
不規則パターンで問題となったザラツキ感のある粒状性
が生じ易いという問題点があった。またステップアンド
リピート法の継ぎ目における不自然さの解決法も提案さ
れているが、機械的精度上継ぎ目を完全に一致させるこ
とは難しく、その上同一パターンを繰り返すためマクａ
的に焦点板上に格子模様のムラが生じ見えを悪くしてい
るという欠点がある。

上記のごとき欠点を解決するために、焦点板を形成する
微細パターンのランダム性について適切な数値限定を与
えた焦点板が、本願と同一出願人による特開昭６３−２
２）３２９号公報により提案されている。この焦点板は
微細パターンの各ドツトについて２次元的周期構造を与
える格子点を決定し、その格子点近傍で所定範囲のバラ
ツキを持たせた点を決定し、この点を中心にして所定の
大きさのドツトを形成するものである。このようなラン
ダムさを導入することにより完全不規則パターンで問題
となったザラツキ感のある粒状性は軽減することは可能
であるが、微細なマイクロレンズ状曲面の分布に偏りが
生じるために０次及び１次という低次の回折光が強くな
り、小さい角度で散乱される光量が多（なるため、焦点
板としては明るくはなるものの、ボケ味、ピントの検出
のし易さには依然として問題が残されていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述のごと〈従来の技術においては、焦点板として、そ
の見え具合いにおいてザラツキ感、粒状性がないことと
、明るくボケ味の良いこととは相反する傾向にあるため
、両者を同時に満足し得るものは得られておらず、ピン
トの合致状態を判別する難易の観点からしても、いずれ
かの欠点が避けられないものであった。

本発明の目的は、ザラツキ感、粒状性がない良好な見え
具合でありながら、明るくボケ味が良くピント合致の判
別が容易な焦点板を提供することにある。

〔課題を解決する為の手段〕

本発明は、多数のマイクロレンズ状曲面が焦点板の平面
上に２次元的に配置されてなる拡散板において、これら
微細な凹凸パターンの高さ或いは深さに対して、適当な
ランダムさを導入したものである。平面的配置について
は、周期的である場合に限らず適度な範囲で不規則性を
付加することが可能である。すなわち、第１図の平面図
に示した如く、多数のマイクロレンズ状曲面１について
２次元的周期構造を基本としつつ、３次元的には第２図
の概略断面図に示す如く、適度の不規則構造を持たせ、
焦点板の表面上に設けられる多数のマイクロレンズ状曲
面の高さ或いは深さを、適度の範囲で不規則に異なる構
成としたものである。

第１図の平面図は、多数のマイクロレンズ状曲面の高さ
を示す等高線図であり、各マイクロレンズ状曲面が凹面
である場合には谷の深さを示す等直線としてみることも
できる。第２図は多数のマイクロレンズ状曲面が凸面で
ある場合であり、第３図は凹面として形成されている場
合の概略断面図である。

具体的には、多数のマイクロレンズ状曲面の配列ピッチ
Ｐが、 ８４ｍ≦Ｐ≦３０μｍ であり、前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の座
標（Ｘ、Ｙ）は、前記ピッチＰと整数の組（Ｉ、Ｊ）と
から決まる次の周期的格子点くＸｏ。

Ｙ’）で与えられ、 Ｘ’＝Ｐｘｉ（１＋０．２５ｘ（−１）’ｌ　　（１）
Ｙ’＝Ｐｘ　（Ｊｘｒ丁／　２　）　　　　　　　ｆ２
＋前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記平面
からの距離はバラツキを有し、これら頂点の前記平面か
らの距離の差は、 ０、Ｏ１≦Ｈ≦０．１　　　　　　　　　　　　　＋３
１なる定数日を用いて、（Ｈ×Ｐ）μｍの範囲に形成さ
れているものである。

ここで本発明におけるマイクロレンズ状曲面とは、その
曲面が球状のみならず、円錐状及びこれらに類似した形
状の微小形状を総称するものであり、焦点板上のマット
面の微細構造として、微小凸面である場合と微小凹面で
ある場合がある。

上記多数のマイクロレンズ状曲面の配列ピッチＰは８μ
ｍより小さい場合には、各次数の回折角が大きくなるた
め焦点板の散乱特性を悪くする。

一方、３０μｍより大きくなる場合にはマイクロレンズ
状曲面の形状が目視の解像範囲に入り、焦点板上のマイ
クロレンズの配列が目立つことになるため好ましくない
。

そして、上記（３）式の下限を外れる場合には、マイク
ロレンズ状曲面の高さ或いは深さのバラツキ範囲が小さ
過ぎるため、回折光の方向が回折次数に対応した特定の
方向に限定されるため多線ボケなどボケ味が悪くなり、
また低次回折光が強いためにピントの合致状態の判別が
難しくなる。また、上限を超える場合にはマイクロ１／
ンズ状曲面の高さ或いは深さのバラツキが大きくなり過
ぎるため、従来の不規則配列状の焦点板のごとく粒状性
が生じ易くなり、いずれの場合にも良好な焦点板とする
ことは難しくなる。

以上の如き本発明の基本構成において、多数のマイクロ
レンズ状曲面の各頂点の高さ或いは深さの差、即ち前記
所定平面からの距離の差は、０．０３≦Ｈ≦０．０６　
　　　　　　　　　　　＋４１なる定数Ｈを用いて、（
Ｈ×Ｐ）μｍの範囲に形成することがより好ましい。ま
た、多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の平面的座標
（Ｘ、　Ｙ）は、周期的格子点（Ｘ’、Ｙ’）に対して
、所定距離範囲内のバラツキをもって決定されており、
その所定距離範囲は、 ０＜Ｋ≦０．５　　　　　　　　　　　　　　＋５＋か
らなる定数Ｋを用いて、前記周期的格子点を中心に、（
Ｋ×Ｐ）μｍの範囲に形成されていることが好ましい。

ここで、定数には、 ０＜Ｋ　≦０．３　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　（５ンであることがより好ましい。

そして、多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の平面的
座標（Ｘ、ｙ＞の前記周期的格子点くＸ’、Ｙ’）に対
する所定距離範囲内のバラツキ、及び多数のマイクロレ
ンズ状曲面の各頂点の前記平面からの距離のバラツキは
、前記整数の組（１゜Ｊ）に関してランダムであること
が好適である。

〔作　用〕

本発明は、上記の如（所定平面上に多数のマイクロレン
ズ状曲面を２次元的に配置されてなる拡散板において、
多数のマイクロレンズ状曲面の２次元的配列については
ほぼ周期性をもたせつつ、多数のマイクロレンズ状曲面
の高さ又は深さについて適度の分布を与えることによっ
て、ザラツキ感、粒状性がない良好な見え具合と明るい
良好なボケ味との両立を可能としたものである。即ち、
いわば３次元的なランダム性の導入によって、入射光束
に対する最適な散乱特性を持ち、粒状性が目立つことが
なく明るくボケ味に優れた拡散板を可能としている。

これら多数のマイクロレンズを形状創成する方法として
は、所定のパターンを形成したマスク原板を光学的に転
写する公知のフォトリソグラフィ法を用いることが好ま
しい。この場合、感光材としてフォトレジストあるいは
ドライフィルムを用い、これらの表面に目的とする多数
のマイクロレンズ状曲面からなる凹凸構造を形成する。

本発明の焦点板をフォトリソグラフィ法により製造する
ためのマスク原板においては、まず第４図に示したごと
（、マスク原板上の周期配列の基準点となる六方格子ピ
ッチＰｏを設定する。等倍露光の場合焦点板上のピッチ
ＰはＰｏと同じであるが、縮小露光の場合は異なる。配
列にランダム性を導入する場合には、前述したとおり第
６図の（ａ）や（ｂ）に示すごとくピッチＰに対応する
基準点Ｎを中心とするバラツキΔの範囲内にドツト中心
座標（Ｘ、Ｙ）を設定する。尚、本発明の焦点板の製造
にあたって、前提となる２次元配列については、上述し
た本願と同一出願人による上記特開昭６３−２２）３２
９号公報に詳細に説明されている手法と同様である。

具体的には、第４−に例示する如く、上記＋１）　＋２
）式によって２次元周期構造配列を与える格子点ＱＱ　
２．　Ｑ　、、・・・・・・を決定し、第５図に示す如
きドツトパターンを形成する。第５図では第４図に示し
たピッチＰｏの六方格子に対応するドツトを黒点として
示している。そして、平面的配置にランダム性を与える
場合には、この格子点上にて第６図（ａ）や第６図（ｂ
）に示す如く、格子点の近傍でわずかのバラツキΔを持
たせた点を決定し、これらの点を中心にしてマスク原板
上に、第７図に示す如きドツトパターンを形成する。こ
のとき目的とするマイクロレンズ状曲面の高さ或いは深
さに応じてドツトパターンの大きさを変え、大きさに適
度な範囲でバラツキを持たせることにより、上述した範
囲での高さ或いは深さの分布をもつ多数のマイクロレン
ズ状曲面を形成することができる。第５図に示したドツ
トパターンは上記ｔｌ）　（２＋式で決定される周期的
六方格子点上に直径が最大値φ１０、最小値φ１．の異
なる大きさのドツトを形成してマスク原版のパターンと
した例であり、第７図は上記（１）ｆ２）式で決定され
る周期的格子点を中心として、上記（３）式で与えられ
る定数Ｋを用いて前記周期的格子点を中心に、（Ｋ×Ｐ
）μｍの範囲内に、同じく直径が最大値φ１）５、最小
値φＩＩｌの異なる大きさのドツトを形成してマスク原
版のパターンとした例である。

尚、マイクロレンズ状曲面が凸面となるか凹面となるか
は、マスク原板のバターニングの仕方、又感光材がネガ
であるかポジであるかによって、さらには製造時のレプ
リカ（！！！取り）によっても代わることは言うまでも
ないが、いずれの場合にもその特性に格別差は認められ
ず、本発明の目的を十分に達成し得るものである。

ここで、焦点板上に形成した山の高さ或いは谷の深さの
異なる不規則な形状からなる本発明の焦点板が、前記特
開昭６３−２２）３２９号公報により提案された如く２
次元的配列においてのみ不規則構造を持つ焦点板に比べ
、優れた特性を持つことを第８図〜第１）図を用いて説
明する。

第８図は本発明の基本とする平面的周期構造が完全六方
格子である場合の回折像の概略を示す平面図である。第
９図〜第１２図は本発明による焦点板上の多数のマイク
ロレンズ状曲面の平面的配置や高さ或いは深さを種々に
変えた場合の回折像の強度分布を示しており、任意の方
向（θＸ）から３０°の方向（θ３０）までの角度領域
における回折光強度分布の計算結果である。

第９図は平面的に完全な周期構造を有する完全周期配列
の場合（Δ／Ｐｏ＝９にとして、Ｋ；０）で、各マイク
ロレンズ状曲面の高さは一定（Ｈ＝０）とし、平面的に
も立体的にも完全周期構造とした場合であり、回折次数
に対応した方向にのみ光が分布することとなっている。

そして、第１０図は平面的にのみ不規則性を導入した場
合（Ｋ＝０．３．Ｈ＝０）である。また、第１）図は、
第５図に示した如きマスク原板を用いて、二次元的には
完全周期配列とした上でマイクロレンズの山の高さにバ
ラツキＨ×Ｐ　（ここではＨ＝　０．０５）を設けた本
発明の場合の回折強度分布を示している。

ここで、まず完全周期性を持つ１９図と、２次元的配列
にのみランダム性を導入した第１０図とを比較すると、
２次元配列にランダム性を導入することによって完全周
期配列に比べ、高次回折光（ｎ＝２．３，４）のピーク
が小さくなりかつピークのなかった中間的な回折角度領
域にもピークが現れていることか分かる。従って、２次
元配列にランダム性を導入することによって、焦点板に
よる回折光の指向性が弱まり、ボケ味がある程度向上す
ることが伺える。また、完全不規則パターンで問題とな
ったザラツキ感のある粒状性が軽減されることも、前記
特開昭６３−２２）３２９号公報に開示されているとお
りである。

そこで、２次元配列にランダム性を導入した第１Ｏ図の
強度分布と、高さの分布に対してランダム性を導入した
本発明による第１）図の強度分布とを比較比較すると、
第１）図のように、２次元配列が完全周期構造であって
もマイクロレンズの山の高さにランダム性があれば、配
列のランダム性と同様に、回折光の指向性が弱まってい
ることが分かる。しかも、２次”元肥列のみにランダム
さがある第１θ図の場合では、０次及び１次の回折光が
比較的強いのに対し、マイクロレンズ状曲面の高さにラ
ンダム性を設けた場合には、第１）図の如く、低次（ｎ
＝０．１）の回折光は一段と弱くなっていることが明ら
かである。従って、配列にランダムさがある場合に問題
となる低次回折光による小角散乱の光量が多くなるがた
めに発生した、焦点板としてのボケ味の悪さ、ピント合
致の判別のし難さは、高さにランダム性を導入した本発
明の焦点板により改善できることが判る。

〔実施例〕

以下本発明の実施例について説明する。

本発明による第１実施例は、二次元配列を最密充填であ
りかつ等方性の強い第４図に示すような六方格子状完全
周期構造としている。この格子点のピッチは２０μｍで
ある。この周期配列の格子点を中心にドツトパターンの
形状を円形状とした場合、第５図に示すごとくその円の
直径φのバラツキ範囲を、７μｍ≦φ≦１３μｍとして
いる。

このようにして形成されたマスク原板を用いてフォトレ
ジストに等倍で露光を行い、記録現像処理を施して多数
のマイクロレンズ状曲面の形状創成をしたものである。

このようにして製作した高さ方向にランダム性（Ｈ＝　
０．０５）を持つ焦点板と、従来のように二次元的配列
のみにランダム性（Ｋ　−０，３）を持つ焦点板の違い
は、回折光強度分布の計算結果で比較した前記第１）図
と第１Ｏ図に示したとおりであり、高さ方向にランダム
性がある場合は回折の指向性が弱まっている。

ここで、拡散特性について上記第１実施例と従来の焦点
板との比較を検討する。第１２図は焦点板による全拡散
光量を１として各角度以内に拡散される光量の割合を示
したグラフであり、横軸は角度、縦軸は各角度以内の積
算光量値を表している。上記第１）図に示した本発明に
よる第１実施例の焦点板の拡散特性（１））は、第１θ
図に示した二次元的配列にのみ不規則構造を導入した焦
点板の拡散特性（ｌＯ）に比べ小さい角度の散乱光量が
抑えられ、第９図に示した完全周期構造を有する焦点板
の拡散特性（９）とほぼ同様の散乱分布を持つことが明
らかである。このうように、本発明の如く、二次元配列
におけるランダム性の導入ではなく高さについての言わ
ば３次元的なランダム性の導入によって、低次回折光を
相対的に弱めである程度広い角度にわたって均一な散乱
特性を持たせることが可能となっており、焦点板として
好ましい拡散特性を有していることが分かる。

また、本発明による第２実施例は、高さ方向のランダム
性に加えて二次元配列構造にもわずかに不規則性を加味
したものである。まずマスク原板上に第４図のように六
方格子状の完全周期ピッチ２０μｍの基準点Ｎを決め、
第６図の（ａ）や（ｂ）に示すようにドツトの中心位置
を、その基準点Ｎを中心にバラツキ範囲Δを、０≦Δ≦
３μｍとして決定した。そして、第７図に示すごとくそ
のドツト中心位置に円形状の開口部あるいは遮光部を、
その直径φのバラツキ範囲（φ１．〜φ□、）を ８μｍ≦φ≦１２μｍ としている。このようにして形成されたマスク原板を用
いて、上記実施例と同様に等倍露光、記録現像処理を行
い、わずかな二次元配列の不規則性（Ｋ　＝　０．０１
５）を有し、かつマイクロレンズ状曲面の高さにランダ
ム性（Ｈ−０，０３）を有する焦点板が得られた。この
焦点板の回折光強度分布の計算結果は第１３図に示した
とおりである。この場合においても第９図の完全周期構
造あるいは第１゜図の二次元配列のみにランダム性を導
入した構造に比べ、低次の回折光強度は低減され、かつ
回折の指向性は少なく、好ましい拡散特性を有している
。このように、二次元配列状のランダム性をわずかに導
入することは有効ではあるが、二次元配列上の不規則性
が増して上記にの値が０．５を超える場合には、ランダ
ム性が強すぎるため、マイクロレンズ状曲面の高さのラ
ンダム性による効果は減殺されてしまう。

このため、マイクロレンズ上曲面の頂点の高さの差の分
布や、二次元配列でのランダム性に関して、上述の如き
数値限定を行うことにより、拡散特性の優れた焦点板を
得ることができる。

尚、本発明の焦点板の製法については、最も簡単には所
謂フォトリソグラフィーの技術を用いることが有効であ
り、そのための露光方法としは、コンタクト露光、或い
はマスク原板とレジスト面との間に若干の隙間を設けて
回折効果や光源の広がりによるボケを利用したプロキシ
ミテイ露光を行うことができる。また、必ずしも等倍露
光でな（でも、縮小投影露光でもよいし、感光材として
７オトレジストの場合ポジ型、ネガ型どちらでもよい、
またゼラチン乾板を用いてもよい。さらに、マスク原板
状に形成されるパターンとしては必ずしも円形のドツト
形状でな（でもよいし、二次元配列の基準点は必ずしも
六方格子構造である必要はなく、ピッチも２０μｍに隔
る必要はない。上記の如く焦点板上において８μｍ≦Ｐ
≦３０μｍの範囲とすることが実用的である。

［発明の効果〕 以上のように本発明によれば、焦点板上のマイクロレン
ズ状曲面の形状、特に凸凹の山の高さあるいは谷の深さ
に関して、ある程度のランダム性を導入した形状とする
ことにより、暗いレンズや、絞りを絞った場合にも粒状
性によるザラツキ感がなく、しかもボケ味の良好な焦点
板を得ることができる。そして、従来の如く二次元配列
のみにランダム性を導入した焦点板と比べ、本発明にお
いては配列ではランダム性を抑えることができるため、
個々のマイクロレンズ状曲面の連続的なつながりを偏り
の少ないものとすることができ、−層良好な散乱特性を
発現させことが可能となる。すなわち、本発明により周
期構造の効果である粒状性のない明るさと、不規則構造
の効果である多線ボケ、色付きのないボケ味の良さとの
相反する両者の特徴を同時に達成することが可能となる
ものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による焦点板の微細構造をなす多数のマ
イクロレンズ状曲面の形状を例示する等高線図。 第２図は多数のマイクロレンズ状曲面が凸面である場合
の概略断面図。 第３図は多数のマイクロレンズ状曲面が凹面として形成
されている場合の概略断面図。 第４図はマスク原板上に形成される二次元配列六方格子
の基準点を示す平面図。 第５図は周期配列格子点としての基準点を中心に多数の
マイクロレンズ状曲面の高さ方向にランダムさを形成す
るためのドツトパターンを形成したマスク原板のパター
ン例を示す平面図。 第６図（ａ）及び（ｂ）はドツトの中心位置を基準点Ｎ
を中心に所定のバラツキ範囲で設定した例を示す平面図
。　第７図は第６図のようにして決定された中心点に多
数のマイクロレンズ状曲面の高さ方向にランダムさを形
成するためのドツトパターンを形成したマスク原板のパ
ターン例を示す平面図。 第８図は多数のマイクロレンズ状曲面を完全周期構造と
した場合の回折光の強度分布説明図。 第９図は完全周期構造の焦点板の回折光強度分布の計算
結果。 第１Ｏ図は二次元配列のみにランダム性を導入した構造
からなる焦点板の回折光強度分布の計算結果。 第１）図は本発明の第１実施例による焦点板の回折光強
度分布の計算結果。 第１２図は焦点板による全拡散光量を１として各角度以
内に拡散される光量の割合を示したグラフ。 第１３図は本発明の第２実施例による焦点板の回折光強
度分布の計算結果。 〔主要部分の符号の説明〕 ｌ　φ・・・マイクロレンズ状曲面 Ｐｏ・・・・マスク原板の配列ピッチ φ１．・・・・マイクロレンズ状曲面の高さにバラツキ
を形成するためのマスク原板上のドツトパターンの最小
直径 φ１．・・・・マイクロレンズ状曲面の高さにバラツキ
を形成するためのマスク原板上のドツトパターンの最大
直径

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）多数のマイクロレンズ状曲面が所定平面上に２次
   元的に配置されてなる拡散板において、該マイクロレン
   ズ状曲面の配列ピッチＰが、 ８μｍ≦Ｐ≦３０μｍ であり、前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前
   記平面上における座標（Ｘ、Ｙ）は、前記ピッチＰと整
   数の組（Ｉ、Ｊ）とから決まる次の周期的格子点（Ｘ’
   、Ｙ’）で与えられ、 Ｘ’＝Ｐ×｛（Ｉ＋０．２５×（−１）＾Ｊ｝Ｙ’＝Ｐ
   ×（Ｊ×√３／２） 前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記平面か
   らの距離はバラツキを有し、これら頂点の前記平面から
   の距離の差は、 ０．０１≦Ｈ≦０．１ からなる定数Ｈを用いて、（Ｈ×Ｐ）μｍの範囲内に形
   成されていることを特徴とする焦点板。 （２）前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記
   平面からの距離の差は、 ０．０３≦Ｈ≦０．０６ からなる定数Ｈを用いて、（Ｈ×Ｐ）μｍの範囲に形成
   されていることを特徴とする請求項（１）記載の焦点板
   。 （３）前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記
   平面上における座標（Ｘ、Ｙ）は、前記周期的格子点（
   Ｘ’、Ｙ’）に対して、所定距離範囲内のバラツキをも
   って決定されており、該所定距離範囲は、 ０＜Ｋ≦０．５ からなる定数Ｋを用いて、前記周期的格子点を中心に、
   （Ｋ×Ｐ）μｍの範囲に形成されていることを特徴とす
   る請求項（１）記載の焦点板。 （４）前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記
   平面上における座標（Ｘ、Ｙ）は、前記周期的格子点（
   Ｘ’、Ｙ’）に対して、 ０＜Ｋ≦０．３ からなる定数Ｋを用いて、前記周期的格子点を中心に、
   （Ｋ×Ｐ）μｍの距離範囲に形成されていることを特徴
   とする請求項（３）記載の焦点板。 （５）前記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記
   平面上における座標（Ｘ、Ｙ）の前記周期的格子点（Ｘ
   ’、Ｙ’）に対する所定距離範囲内のバラツキ、及び前
   記多数のマイクロレンズ状曲面の各頂点の前記平面から
   の距離のバラツキは、前記整数の組（Ｉ、Ｊ）に関して
   ランダムであることを特徴とする請求項（１）乃至（４
   ）記載の焦点板。