JP2005115362A5

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Publication number: JP2005115362A5
Application number: JP2004270984A
Authority: JP
Filing date: 2004-09-17
Publication date: 2007-10-18
Anticipated expiration: 2024-09-17

Claims

絶縁表面を有する基板上に薄膜トランジスタおよび表示素子を有する表示装置の作製方法であって、
前記絶縁表面を有する基板上にソース領域、ドレイン領域、およびその間のチャネル形成領域を有する半導体層と、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを有する前記薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタ上に平坦化膜を含む層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜上に、前記表示素子の第１の電極を選択的に形成し、
前記層間絶縁膜、又は前記層間絶縁膜と前記ゲート絶縁膜を選択的に除去して、前記ソース領域または前記ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、
前記第１の電極及び前記層間絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電膜を選択的に除去し、前記第１の電極の端部及び、前記ソース領域または前記ドレイン領域に電気的に接続する配線を形成し、
前記配線及び前記第１の電極の端部を覆う、前記層間絶縁膜に含まれる材料と同一材料からなる絶縁物を形成し、
前記第１の電極上に有機化合物を含む層を形成し、
前記有機化合物を含む層上に第２の電極を形成して前記表示素子を形成し、
前記層間絶縁膜、前記第１の電極及び前記絶縁物は、透光性を有し、酸化珪素を含むことを特徴とする表示装置の作製方法。
絶縁表面を有する基板上に薄膜トランジスタおよび表示素子を有する表示装置の作製方法であって、
前記絶縁表面を有する基板上にソース領域、ドレイン領域、およびその間のチャネル形成領域を有する半導体層と、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを有する前記薄膜トランジスタを形成し、
前記薄膜トランジスタ上に平坦化膜を含む層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜上に、前記表示素子の第１の電極を選択的に形成し、
前記層間絶縁膜、又は前記層間絶縁膜と前記ゲート絶縁膜を選択的に除去して、前記ソース領域または前記ドレイン領域に達するコンタクトホールを形成し、
前記第１の電極及び前記層間絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電膜を選択的に除去し、前記第１の電極の端部及び、前記ソース領域または前記ドレイン領域に電気的に接続する配線を形成するとともに、前記層間絶縁膜に凹部が形成され、
前記配線、前記第１の電極の端部及び前記凹部を覆う、前記層間絶縁膜に含まれる材料と同一材料からなる絶縁物を形成し、
前記第１の電極上に有機化合物を含む層を形成し、
前記有機化合物を含む層上に第２の電極を形成して前記表示素子を形成し、
前記層間絶縁膜、前記第１の電極及び前記絶縁物は、透光性を有し、酸化珪素を含むことを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１又は２において、前記層間絶縁膜は、少なくとも窒化珪素又は酸化珪素を含む膜と、アルキル基を含む酸化珪素膜を積層して形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項３において、前記アルキル基を含む酸化珪素膜は、スピンコート法又はインクジェット法を用いて形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１乃至４のいずれか一において、前記絶縁物は、スピンコート法又はインクジェット法により形成されるアルキル基を含む酸化珪素膜であることを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１乃至５のいずれか一において、前記第１の電極は、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物からなるターゲットを用いたスパッタ法で形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
絶縁表面を有する基板上の薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上の平坦化膜を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上の第１の電極と、
前記第１の電極の端部を覆い、かつ、前記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタのソース領域又はドレイン領域に電気的に接続される配線と、
前記第１の電極の端部、及び前記配線を覆う、前記層間絶縁膜に含まれる材料と同一の材料からなる絶縁物と、
前記第１の電極上の有機化合物を含む層と、
前記有機化合物を含む層上の第２の電極とを有し、
前記層間絶縁膜、前記第１の電極及び前記絶縁物は、透光性を有し、酸化珪素を含むことを特徴とする表示装置。
絶縁表面を有する基板上の薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上の平坦化膜を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上の第１の電極と、
前記第１の電極の端部を覆い、かつ、前記層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタのソース領域又はドレイン領域に電気的に接続される配線と、
前記第１の電極の端部、前記配線および前記層間絶縁膜に設けられた凹部を覆う、前記層間絶縁膜に含まれる材料と同一の材料からなる絶縁物と、
前記第１の電極上の有機化合物を含む層と、
前記有機化合物を含む層上の第２の電極とを有し、
前記層間絶縁膜、前記第１の電極および前記絶縁物は、透光性を有し、酸化珪素を含むことを特徴とする表示装置。
請求項７又は８において、前記層間絶縁膜は、少なくとも窒化珪素又は酸化珪素を含む膜と、アルキル基を含む酸化珪素膜が積層して形成されていることを特徴とする表示装置。
請求項７乃至９のいずれか一において、前記第１の電極は、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物であることを特徴とする表示装置。
請求項７乃至１０のいずれか一において、前記第１の電極、前記有機化合物を含む層及び前記第２の電極とを有する表示素子は、赤色、緑色、青色、あるいは白色を発光することを特徴とする表示装置。
請求項７乃至１１のいずれか一項において、前記表示装置を表示部に備えたビデオカメラ、デジタルカメラ、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、または携帯情報端末。