JP2005081140A - 超音波トランスデューサ・アレイの高電圧スイッチングのための方法及び装置 - Google Patents

超音波トランスデューサ・アレイの高電圧スイッチングのための方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005081140A
JP2005081140A JP2004200350A JP2004200350A JP2005081140A JP 2005081140 A JP2005081140 A JP 2005081140A JP 2004200350 A JP2004200350 A JP 2004200350A JP 2004200350 A JP2004200350 A JP 2004200350A JP 2005081140 A JP2005081140 A JP 2005081140A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
programming
circuit
switch
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004200350A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4754193B2 (ja
Inventor
Robert G Wodnicki
ロバート・ジー・ウッドニッキ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US10/605,093 external-priority patent/US6759888B1/en
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of JP2005081140A publication Critical patent/JP2005081140A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4754193B2 publication Critical patent/JP4754193B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • H03K17/6874Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor in a symmetrical configuration
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/10Modifications for increasing the maximum permissible switched voltage
    • H03K17/102Modifications for increasing the maximum permissible switched voltage in field-effect transistor switches

Landscapes

  • Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)

Abstract

【課題】 超音波トランスデューサ・アレイに用いることのできる高電圧スイッチング回路を提供する。
【解決手段】 寄生ゲート容量を有するスイッチ(X1〜X3)は、共有ゲート端子を有する一対のDMOSFET(MD1及びMD2)を含み、そのソースは互いに接続され、ドレインはスイッチの入力及び出力端子にそれぞれ接続され、且つバイアス電圧レベルにバイアスされている。制御回路(C1〜C3)は、スイッチの共有ゲート端子に接続されたドレイン、プログラミング電圧を受け取るソース、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧を受け取るゲートを有するプログラミング・トランジスタ(M4 )と、プログラミング電圧をより低いレベルへ遷移させる第1の回路(12)と、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧をより低いレベルへ遷移させる第2の回路(M7 及びM8 )とを含んでいる。
【選択図】 図2

Description

本発明は一般的に云えば集積高電圧スイッチング回路に関するものである。具体的には、本発明は素子のアレイ(配列体)に関連して使用するための集積高電圧スイッチング回路に関するものである。このようなアレイには、下記に限定するものではないが、超音波トランスデューサ・アレイ、液晶表示装置画素アレイなどが含まれる。
例示を目的として、本発明の様々な実施形態を超音波イメージングに使用するための超音波トランスデューサ・アレイ、例えば、いわゆる「モザイク環状アレイ」に関して説明する。モザイク環状アレイは、超音波トランスデューサの有効開口を非常に小さい小素子のモザイクに分割し、次いでこれらの小素子を電子スイッチに接続することによってこれらの小素子から環状の素子を形成すると云う考え方を用いている。ところで、これらのアレイ素子の幾何形状は環状の形に限定されない。これらのアレイ「素子」は、スイッチ構成設定を変更することによって、走査を実行するためにモザイク・アレイの表面に沿って「電子的に動かす」ことができる。他の素子構成設定によりビーム・ステアリングが可能になり、これにより体積測定データ集合を取得する能力が得られる。複数の同心環状素子の構成設定により、素子形状を音波位相面に整合させることによって最適な超音波画像品質が得られる。本発明のスイッチはモザイク・アレイに使用することに限定されず、むしろ標準的な超音波トランスデューサについても使用することが可能である。
従来の超音波イメージング・システムは超音波トランスデューサ・アレイを有し、これらのトランスデューサは超音波ビームを送信し、次いで検査中の対象物からの反射されたビームを受信するために使用されている。このような走査(スキャン)は一連の測定を有し、これらの測定では、集束された超音波を送信し、短い期間の後にシステムにより受信モードに切り替えて、反射された超音波を受信し、ビーム形成し、表示のために処理する。典型的には、送信及び受信は各測定の際に同じ方向に集束されて、音波ビームすなわち走査線に沿った一連の点からデータを取得する。受信器は反射された超音波を受信するとき走査線に沿った相次ぐ距離(range) に動的に焦点合わせされる。
超音波イメージングの場合、アレイは典型的には、一列又は複数列に配列されて別々の電圧で駆動される複数のトランスデューサを有する。印加電圧の時間遅延(又は位相)及び振幅を選択することによって、所与の列内の個々のトランスデューサを制御することにより、それらのトランスデューサから発生される超音波が組み合わさって形成する正味の超音波が、好ましいベクトル方向に進行し且つそのビームに沿った選択された区域に集束されるようにすることができる。
この同じ原理が、超音波プローブを使用して、受信モードにおいて反射された音波を受信するときに適用される。受信中のトランスデューサで発生された電圧は、正味の信号が対象物内の単一の焦点区域から反射された超音波を表すように合算される。送信モードの場合と同様に、超音波エネルギのこの集束受信は各受信トランスデューサからの信号に対して別々の時間遅延(又は位相シフト)及び利得を与えることによって達成される。時間遅延は、受信時の動的集束を行うために帰還信号の深さの増大につれて調節される。
形成される画像の品質又は分解能は、一部は、トランスデューサ・アレイの送信開口及び受信開口をそれぞれ構成するトランスデューサの数の関数である。従って、高画像品質を達成するためには、二次元又は三次元イメージング用途の両方においてトランスデューサの数を多くすることが望ましい。超音波トランスデューサは典型的には手持ち型の超音波プローブ内に配置され、該超音波プローブは可撓性ケーブルを介して電子装置に接続され、該電子装置はトランスデューサ信号を処理して超音波画像を生成する。超音波プローブは超音波送信回路及び超音波受信回路の両方を備えることができる。
個々の超音波トランスデューサを駆動するために送信回路内に高電圧部品を含むと共に、この高電圧駆動回路に送信信号を供給するために低電圧高密度ディジタル論理回路を使用することが知られている。高電圧駆動回路は典型的には、ほぼ100ボルトまでの電圧で動作し、他方、低電圧論理回路はTTL論理回路の場合に5ボルト程度の動作電圧を有する。高電圧駆動回路は個別部品として又は集積回路として製造することができ、低電圧論理回路は別個の集積回路として製造するか又は単一のチップ上に高電圧回路と組み合わせることができる。高電圧駆動回路及び低電圧論理回路を含む送信回路に加えて、トランスデューサ・ヘッドは低ノイズ低電圧アナログ受信回路を含むことができる。低電圧受信回路は典型的には、送信論理回路と同様に5ボルト程度の動作電圧を有しており、また低電圧受信回路は別個の集積回路であってもよいし、或いはモノリシック集積回路として低電圧送信論理回路と共に製造してもよい。
高品質の超音波画像を達成するようにトランスデューサの数を最大にするため、回路が超音波プローブ内部に配置されるか又は該プローブとは別個の電子回路内に配置されるかに拘わらず、できるだけ小さい容積内にできるだけ多くの回路を集積させて、回路のサイズ及び複雑さを低減することが望ましい。更に、用途によっては、例えば、超高周波(VHF)超音波イメージングの用途によっては、送信回路をできる限りトランスデューサの近くに配置して長いケーブルによる信号負荷を避けることが要求される。
更に、集積回路は、選択された超音波トランスデューサを送信の際には関連した高電圧駆動回路に結合すると共に受信の際には関連した受信器に結合するためのスイッチを含んでいなければならない。集積高電圧駆動回路を用いる提案された超音波トランスデューサ・アレイの一つは、いわゆる「モザイク環状アレイ」である。モザイク環状アレイ型超音波プローブでは、送信時に使用される高電圧に耐えることのできるマトリクス及びアクセス・スイッチの両方が必要である。同時に、アレイが40000を越えるほどのスイッチを含んでいるので、低電力動作は考慮すべき重要な事項である。更に、多数のこのようなスイッチを直列に縦続接続することが可能でなければならない。最後に、スイッチは付加的な論理とは独立にその状態を保持する能力を有し、それによって所要のディジタル回路を簡単化し、また異なる送信及び受信開口の使用を可能にするべきである。
現在では、超音波装置は、一般的に一デバイス当り8個のスイッチよりなるグループに分けて実装されている商業上入手可能な高電圧スイッチ集積回路を使用している。この技術についての代表的な特許は米国特許第4595847号である。一般的に、このデバイスは、背中合わせに集積した高電圧DMOSスイッチを使用している。これは、デバイス内に含まれる寄生ボディー・ダイオードに起因する必要条件として従来技術ではよく知られている。(例えば、技術誌「Proc. PowerCon 7: Seventh National Solid-State Power Conversion Conference, San Diego, California, March 1980 」に所載のFragale 等による論文「Using the Power MOSFET's Integral Reverse Rectifier 」を参照されたい)。このデバイスの重要な特徴は、高電圧に対してゲート制御端子を浮動させながら両方の信号端子にかかる高電圧に耐える能力である。スイッチをこのように動作できるようにするためにレベル・シフターが用いられている。
本発明のものと同様な一用途は、液晶表示装置(LCD)を駆動することである。LCDは高い電圧(100V)を必要とするが、高電流を必要としない。LCD駆動回路の問題に対する解決策が、「A Versatile Micropower High-Voltage Flat-Panel Display Driver etc.」と題するDoutreloigne等による論文、並びに欧州公告特許出願第1089433号にも開示されている。このデバイスはまた高電圧DMOSスイッチを使用しているが、動的にバイアスされるレベル・シフターも使用している。動的にバイアスされるレベル・シフターを使用する利点は、静的電力を散逸させないことである。制御電圧の動的記憶技術は従来技術ではよく知られており、商業上の電子機器において普及しているダイナミック・シフト・レジスタ及びダイナミックRAMにおいて最も多く見出される。特に、米国特許第5212474号には、電圧の動的記憶を使用して低電力で小さい形状係数のデバイスを達成する高電圧レベル・シフターが開示されている。
Zanuccoli 等による米国特許第6288603号には、Doutreloigne等によって開示されたものと同様な態様で動作し、且つスイッチ端子における供給電圧に関係なく動作する改善された能力を有する高電圧双方向スイッチが開示されている。このデバイスはまた、スイッチFETのゲート上の制御電圧を記憶する動的レベル・シフターを使用している。該デバイスは単一のNMOSデバイスと共に動作させるために改造されており、これを可能にするには多大な努力を必要とする。
米国特許第4595847号 欧州公開特許出願第1089433号 米国特許第5212474号 米国特許第6288603号
超音波トランスデューサ・アレイにおいて、電力消費を低くしながら、送信時に使用される高電圧に耐えることのできるマトリクス及びアクセスの両方のスイッチが必要とされている。多数のこのようなスイッチは直列に縦続接続することが可能でなければならない。また、モザイク環状アレイにおいて、超音波トランスデューサ相互間の厳しいピッチに適合させるためにできる限り小さくした集積高電圧スイッチング素子が必要とされる。最後に、これらのスイッチは、オン抵抗の変化を制御しながら、付加的な論理回路に関係なくそれらの状態を保持する能力を有しているべきである。
本発明は、高電圧スイッチング回路、該高電圧スイッチング回路を取り入れたデバイス、並びに高電圧スイッチング回路をプログラムする方法を対象とする。開示した実施形態は超音波トランスデューサ・アレイに使用するのに適しているが、本書で開示する高電圧スイッチング回路は超音波イメージング用途に限定されない。
本発明の一面は、オン及びオフ状態を持ち且つ寄生ゲート容量を有するスイッチを動作させる方法であり、該スイッチは、共有ゲート端子を有する一対のDMOSFETを含んでおり、該一対のDMOSFETのソースは互いに接続され、該一対のDMOSFETの一方のドレインはスイッチの入力端子に接続され且つ他方のドレインはスイッチの出力端子に接続され、前記共有ゲート端子はプログラミング・トランジスタのドレインに接続され、プログラミング・トランジスタのゲートはゲート電圧を受け取り、プログラミング・トランジスタのソースはプログラミング電圧を受け取り、該一対のDMOSFETのドレインはバイアス電圧レベルにバイアスされている。本方法は以下のステップ、すなわち、(a)プログラミング電圧の第1のレベルからプログラミング電圧の第2のレベルへ遷移させるステップであって、プログラミング電圧の第2のレベルはプログラミング電圧の第1のレベルよりも低く、且つスイッチをターンオンするのに充分な大きさだけバイアス電圧レベルよりも高くなっている、ステップと、(b)プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第1のレベルからプログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第2のレベルへ遷移させるステップであって、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第1のレベルはプログラミング電圧の第1のレベルにほぼ等しく、また、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第2のレベルは、プログラミング・トランジスタをターンオンするのに充分な大きさだけプログラミング電圧の第2のレベルよりも低くなっていて、これによってプログラミング電圧の第2のレベルがプログラミング・トランジスタを介してスイッチの共有ゲート端子に印加されるようになっている、ステップとを含んでいる。
本発明の別の一面は、(a)オン及びオフ状態を持ち且つ寄生ゲート容量を有するスイッチであって、当該スイッチは、共有ゲート端子を有する一対のDMOSFETを含んでおり、該一対のDMOSFETのソースは互いに接続され、該一対のDMOSFETの一方のドレインはスイッチの入力端子に接続され且つ他方のドレインはスイッチの出力端子に接続され、該一対のDMOSFETのドレインはバイアス電圧レベルにバイアスされている、スイッチと、(b)前記スイッチをターンオン及びターンオフするための制御回路であって、(b1)スイッチの共有ゲート端子に接続されたドレインと、プログラミング電圧を受け取るように接続されたソースと、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧を受け取るように接続されたゲートとを有するプログラミング・トランジスタと、(b2)プログラミング電圧の第1のレベルからプログラミング電圧の第2のレベルへの第1の遷移を生じさせる第1の回路であって、プログラミング電圧の第2のレベルはプログラミング電圧の第1のレベルよりも低く、且つスイッチをターンオンするのに充分な大きさだけバイアス電圧レベルよりも高くなっている、第1の回路と、(b3)プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第1のレベルからプログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第2のレベルへの第2の遷移を生じさせる第2の回路であって、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第1のレベルはプログラミング電圧の第1のレベルにほぼ等しく、また、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第2のレベルはプログラミング・トランジスタをターンオンするのに充分な大きさだけプログラミング電圧の第2のレベルよりも低くなっていて、これによりプログラミング電圧の第2のレベルがプログラミング・トランジスタを介してスイッチの共有ゲート端子に印加されるようになっている、第2の回路とを含んでいる制御回路と、を有している回路である。
本発明の更に別の一面は、(a)オン及びオフ状態を持ち且つ寄生ゲート容量を有するスイッチであって、当該スイッチは、共有ゲート端子を有する一対のDMOSFETを含んでおり、該一対のDMOSFETのソースは互いに接続され、該一対のDMOSFETの一方のドレインはスイッチ入力端子に接続され且つ他方のドレインはスイッチ出力端子に接続されている、スイッチと、(b)前記スイッチをターンオン及びターンオフするための制御回路であって、(b1)入力端子及び出力端子を有する第1のレベル・シフターと、(b2)スイッチの共有ゲート端子に接続されたドレインを有するプログラミング・トランジスタとを含んでおり、該プログラミング・トランジスタのソースは、該プログラミング・トランジスタが電流をそこから引き込むための第1の端子に接続され、また該プログラミング・トランジスタのゲートは、第1のレベル・シフターによる出力電圧から導き出された電圧を受け取るように接続されている、制御回路と、(c)スイッチ出力端子と第2の端子との間に接続された抵抗と、を有している回路である。スイッチは下記の条件に応答してターンオンする。すなわち、第1のゲート制御電圧レベルを第1のレベル・シフターの入力端子に印加して、その結果プログラミング・トランジスタが電流を通すようにしながら、第1及び第2のバイアス電圧レベルを第1及び第2の端子にそれぞれ印加して、スイッチをターンオンするスイッチ・ゲート−ソース間電圧を生じさせる。
本発明のまた更に別の一面は、(a)オン及びオフ状態を持ち且つ寄生ゲート容量を有するスイッチであって、当該スイッチは、共有ゲート端子を有する一対のDMOSFETを含んでおり、該一対のDMOSFETのソースは互いに接続され、該一対のDMOSFETの一方のドレインはスイッチの入力端子に接続され且つ他方のドレインはスイッチの出力端子に接続され、該一対のDMOSFETのドレインはバイアス電圧レベルにバイアスされている、スイッチと、(b)該スイッチをターンオン及びターンオフするための制御回路であって、当該制御回路は第1及び第2の制御状態を持ち、該第1及び第2の制御状態の各々は、制御回路の異なる端子に印加されるプログラミング電圧及びプログラミング・ゲート電圧の関数である、制御回路と、を有しているデバイスである。制御回路の第1の制御状態では、プログラミング電圧は第1の電圧レベルを持ち、且つプログラミング・ゲート電圧は第1の電圧レベルよりも低い電圧レベルを持ち、その結果スイッチがオンになっている。制御回路の第2の制御状態では、プログラミング電圧は第1の電圧レベルよりも低い第2の電圧レベルを持ち、且つプログラミング・ゲート電圧は第2の電圧レベルよりも低い電圧レベルを持ち、その結果スイッチがオフになっている。
本発明の更に別の一面は、高電圧スイッチング回路を動作させる方法であり、本方法は、第1のプログラミング電圧を高電圧スイッチング回路のゲートに印加することによって、所定のパラメータについて第1の値を含んでいる第1組の動作条件の下で高電圧スイッチング回路について第1のオン抵抗値をプログラムするステップと、パラメータが第2組の動作条件の下で第1の値から第2の値へ変わったことを判定するステップと、第1のプログラミング電圧とは異なる第2のプログラミング電圧をゲートに印加することによって第2組の動作条件の下で高電圧スイッチング回路について第2のオン抵抗値をプログラムするステップとを含んでいる。
本発明のまた更に別の一面は、高電圧スイッチング回路をプログラムする方法であり、本方法は、(a)第1及び第2の高電圧スイッチング回路を製造するステップと、(b)第1の高電圧スイッチング回路が所望のオン抵抗を持つようにする第1のゲート−ソース間電圧を決定するステップと、(c)第2の高電圧スイッチング回路が所望のオン抵抗を持つようにする第2のゲート−ソース間電圧を決定するステップであって、第1及び第2のゲート−ソース間電圧が異なっている、ステップと、(d)前記ステップ(b)の結果に依存した第1のゲート電圧を第1の高電圧スイッチング回路に供給するように制御回路をプログラムするステップと、(e)前記ステップ(c)の結果に依存した第2のゲート電圧を第2の高電圧スイッチング回路に供給するように制御回路をプログラムするステップとを含んでおり、第1及び第2のゲート電圧は相異なっているが、第1及び第2の高電圧スイッチング回路の動作中にほぼ同じオン抵抗を生じさせる。
本発明のその他の面は以下に開示される。
始めに、図面に示されているアースへの接続が簡略化されていることに留意されたい。開示した実施形態の各々において、アース端子は、しばしばVSSと呼ばれる負電圧に接続される可能性がある。これをアースとして示すのが最も簡単であり且つ場合によっては実際にアースが用いられるが、アースは基準電圧であるに過ぎず、(アースに対して)正及び負である他の電圧も用途に応じて使用可能であることが理解されよう。
本発明は前述の問題を解決するスイッチング回路を対象とする。多数のスイッチを高電圧CMOS処理で直接的に集積させて、超音波送信パルス電圧に耐えるようにすることができる。ゲート電圧は各々のスイッチについて独自にプログラムすることができる。本発明は、動作電力を低くし、且つスイッチがオン状態であるときに実質的に漏洩電流を生じることなくスイッチを縦続接続できるようにする。また、本発明は、それら自身の局部メモリを有するスイッチ、すなわち、スイッチの状態を記憶する能力を持つスイッチを提供する。更に、本発明は、モザイク環状アレイに使用するのに充分に小さいスイッチを提供する。以下に、本発明の様々な実施形態について、例示を目的として図面を参照して説明する。
図1は、米国特許出願第10/248968号に開示されている高電圧スイッチング回路を示す。トランジスタMD1及びMD2はDMOSFETであり、バイポーラ動作ができるように背中合わせに接続されている(両方のソース接続点が一緒に短絡接続されている)。この接続は、その接続がないと、寄生ボディー・ダイオードが超音波送信パルスの正又は負の位相の際にいずれかのデバイスのドレインからソースへの導電路を構成する恐れがあるので、不可欠である。
図1に示す実施形態では、両方のMD1及びMD2がターンオンされているときは常に電流がスイッチ端子S1 及びS2 を通って流れる。スイッチをターンオンするため、これらのデバイスのゲート電圧はそれらのソース電圧よりも閾値電圧だけ大きくしなければならない。閾値電圧を越えると、スイッチのオン抵抗はゲート電圧に逆比例して変化する。ソース電圧がドレイン電圧に近いので(オン抵抗が低く、電流が小さい場合)、ソース電圧は超音波送信パルス電圧に追従する。ゲート−ソース間電圧が一定に留まるようにするため、ゲート電圧もまた送信パルス電圧に追従する。これは、ソース及びゲートをスイッチ制御回路から隔離して、ソースに対してゲートに一定の電位を供給することによって達成することができる。前に述べたように、超音波についての従来技術では、これは静的(スタティック)レベル・シフターを使用して達成される。図1に示されている実施形態では、動的(ダイナミック)レベル・シフターが使用される。このレベル・シフターは次のように動作する。
トランジスタM4 は、ドレインとソースとの間のプロセス最大値(例えば、100V)に耐えることのできる高電圧PMOSトランジスタである。トランジスタM4 のソースは、図示のようにグローバル・スイッチ・ゲート・バイアス電圧Vg0(公称5V)でバイアスされる。スイッチをターンオンするため、トランジスタM4 のゲート電圧VP を高電圧(5V)から低電圧(0V)へ遷移させて、グローバル・バイアス電圧Vg0がトランジスタM4 を介してFETトランジスタMD1及びMD2の共有ゲート端子へ印加されるようにする。DMOSスイッチ・ゲート電圧がドリフトしてVg0よりも高くなったときにトランジスタM4 がターンオンするのを防止するために、ダイオードD1が設けられている。一旦スイッチ・ゲート電圧がVg0に達すると、FETトランジスタMD1 及びMD2 の寄生ゲート容量がこの電圧を保持する。この理由により、一旦スイッチ・ゲート電圧が安定化すると、トランジスタM4 は電力を保存するためにターンオフすることができる。トランジスタM4 のドレインにおける漏洩電流により最終的にスイッチ・ゲートにおけるバイアス電圧が散逸されるが、この電圧は必要な場合に周期的に再プログラムすることができる。スイッチ・オン状態がスイッチ・ゲート容量上に実効的に記憶されるという事実は、スイッチがそれ自身のメモリを有していることを意味し、これは、その目的のために余分な状態フリップフロップを設ける必要がないので有益である。
オン状態にあるとき、スイッチはゲート・クランプNMOSトランジスタM1 を使用してターンオフすることができる。これを行うには、トランジスタM2 、M3 、M5 及びM6 で構成されたレベル・シフターを使用して、トランジスタM1 のゲートにターンオン電圧を印加する。このトランジスタがターンオンされたとき、スイッチ・ゲート電圧がスイッチ・ソース電圧に等しくなるように強制され、これによりスイッチMD1 及びMD2 をオフ状態へ遷移させる。これらの電圧を等しくする作用は、上述のターンオン動作後にゲート容量に残されている電荷を効果的に散逸させる。電荷が除かれると、トランジスタM1 はオンに留めておく必要はない。これは、一旦スイッチが安定化すると、このデバイスのための制御レベル・シフター回路をターンオフできることを意味し、これにより電力が節約される。再び、オフ状態はしばらくの間記憶することができ、必要な場合は再プログラムすることできる。
更に図1について説明すると、回路は更にバイアス抵抗R1 を含んでおり、該抵抗はスイッチの一端子(すなわち、S2 )が一定の電位Vtbに保たれるようにする。この電圧は、この端子に通常接続される超音波トランスデューサをバイアスするために使用され、またトランスデューサをその定常状態へ素速く戻すための「ブリード(bleed) 抵抗」として作用する。R1 の追加はまた、スイッチを縦続接続することを可能にする。アースへの追加の経路がないと、浮動端子が既知の電位ではないので2つの他のスイッチの間に隔離されているスイッチを確実にターンオンすることが出来ないことがある。ソース電圧が効果的に制御されないので、バイアス抵抗を省くことはDMOSゲート−ソース端子上に予測不可能な電圧を残させることになる。この電圧はスイッチをターンオンするには低く過ぎることがあり、或いはスイッチを不正なオン抵抗でターンオンすることがあり、或いはそのデバイスを損傷させるほどの大きさになることがある。
図2は、製造されたときの高電圧スイッチング回路のサイズを小さくする本発明の一実施形態を示す。ダイオードD1(図1参照)は、回路を特殊な方法で動作させる場合には除去することができる。ここで、トランジスタM4 はVg0ではなくVddに対してバイアスされていることに注意されたい。これにより余分なグローバル信号線が除去され、そのための場所が節約される。更に、全てのPMOSトランジスタ(M3 、M4 、M5 及びM7 )に同じドーピングされたウェル(井戸状の領域)を共有させることができ、これにより回路密度が更に改善される。トランジスタM7 及びM8 は、この新規なバイアス方式のための制御電圧についてのレベル・シフターを構成する。図1に示された回路では、通常、トランスデューサ・バイアス電圧Vtbに対する2つのDMOSFETトランジスタMD1及びMD2のVgsを越えるターンオン電圧をプログラムするために、Vg0が使用される。図2に示された回路では、Vg0を使用せずに同じ効果を達成する2つの方法がある。すなわち、1)プログラムの際に、差Vdd−Vtbがスイッチのターンオンのためにプログラムすべき所望のVgsに等しくなるように、Vtbを変更する。2)プログラムの際に、差Vdd−Vtbがスイッチのターンオンのためにプログラムすべき所望のVgsに等しくなるように、Vddを変更する。
例えば、差Vdd−Vtbがプログラムすべき所望のVgsに等しくなるようにターンオン・プログラミング電圧レベルをVddにより変更する場合、Vddが2つの電圧レベルの間を遷移する。超音波トランスデューサを駆動するとき、送信パルスが高駆動電圧、例えば40Vまで上昇する。トランスデューサの駆動中、Vddは少なくとも駆動電圧、すなわち40Vに等しくなければならない。しかしながら、トランスデューサ・バイアス電圧Vtbに対するスイッチのプログラミング中、電圧Vddはより低い電圧レベルへ遷移する。具体的な考察のために、Vtbが20Vであると仮定する。この場合、スイッチをターンオンするために、電圧Vddは、40Vから、スイッチ・トランジスタがターンオンするゲート−ソース間電圧Vgsに依存してVddとVtbとの間の差が5〜10Vになるようなレベルへ遷移させなければならない。この場合、Vddはスイッチのターンオンのために40Vから25〜30Vへ遷移させなければならない。
図2について更に説明すると、ゲート・プログラミング・トランジスタをM4 と表している。このデバイスのゲート−ソース間電圧は、スイッチをターンオンするために使用されるまでゼロ・ボルトに保たれる。これは、図2に示されるように、Vdd電圧で同様にバイアスされている(トランジスタM7 及びM8 で構成された)レベル・シフターを用いて行うことができる。スイッチをターンオンするためには、電荷がVddからトランジスタM4 を通ってトランジスタMD1及びMD2のゲートへ流れることができるように、トランジスタM4 をターンオンしなければならない。前の段落で述べた2つのプログラミング方法のうちの2番目の方法では、これを達成するには、先ず電圧Vddをターンオン・プログラミング電圧へ低下させ、次いでトランジスタM4 をターンオンする。トランジスタM4 をターンオンするためには、そのゲート電圧はそのソース電圧より約5Vだけ低く、この場合、どんなターンオン・プログラミング電圧であってもそれよりも5V低くされる。トランジスタM4 のゲート電圧のこの低下は、レベル・シフター(M7 及びM8 )によって達成される。
スイッチがターンオンされた後、電圧Vddは高電圧、すなわち、上記の例では40Vに戻す必要がある。これは、スイッチを通過する信号振幅の最高値がVddによって制限されるためである。従って、スイッチに高電圧パルスを通すためには、Vddは、パルス中にスイッチが遭遇する最大電圧よりも大きくなければならない。超音波トランスデューサの駆動中、トランジスタM4 はオフに留まる。
図2について更に説明すると、トランジスタM7 及びM8 はVP 入力制御電圧についてのレベル・シフターを構成する。この回路は、スイッチ・ゲート電圧Vddとは関係なく制御電圧を使用することを可能にする。例えば、VP は低電力動作のために0〜3.3V又は0〜1.5Vの間を有利に変化することができる一方、スイッチ・ゲート制御電圧Vddは、使用されるDMOSFETの種類に応じて(前に述べたように)25Vと30Vとの間に設定される。
「Vdd」端子は全て同じであってよく、或いは分割してもよい。後者の場合、PMOSトランジスタM3 及びM5 は電圧Vdd1 を共用する一方、PMOSトランジスタM4 及びM7 は電圧Vdd2 を共用し、ここで、Vdd2 は遷移を受け、Vdd1 は静止状態に留まる。しかしながら、全てのこれらのトランジスタは同じ電圧Vddを共用することが好ましい。と云うのは、これによって配線する電力線が1本少なくなり、且つこれらのトランジスタの全てが同じウェル内に配置されて、レイアウト領域が節約されるからである。
図3は、図2の回路を改良する本発明の別の実施形態を示す。この実施形態では、図2の回路中のトランスデューサ・バイアス抵抗R1 がMOSFETトランジスタMR1に置き換えられている。回路の残りの部分は同じである。MOSFETトランジスタMR1は制御電圧VRCを使用して制御され、制御電圧VRCはアレイ全体に供給するか、又はアレイの各超音波トランスデューサ内で局部的に制御することができる。これは、配線の複雑さと局部回路の複雑さとの間のトレードオフに帰着する。MOSFETトランジスタMR1は、所望の抵抗になるようにVRCによってバイアスされる。この改良の利点は、バイアス抵抗の値を調節できることである。例えば、この抵抗は温度につれて変化するので、温度を測定して、抵抗体であるMOSFETトランジスタMR1のゲート電圧を調節することにより抵抗値をその最適値に微調整するシステムを設けることができる。更に、使用される製造プロセスに応じて、MOSFETトランジスタMR1の製造面積を小さくすることができ、これにより回路密度が更に改善される。
MOSFETトランジスタMR1は、超音波トランスデューサ接続点とVtb接続点との間に通常存在するバイアス抵抗器の代わりに配置される。この抵抗は、送信器にもトランスデューサにも負荷をかけないようにできる限り高くすべきである。残念なことに、抵抗を高くすると、抵抗器が大きくなり、そこで通常は妥当な値(200キロオーム程度)にされる。バイアス抵抗を提供するためにMOSFETを使用すると、抵抗はできるだけ高くすることが可能であるが、やはりデバイスのサイズによって制限される。
上述の抵抗に基づいたバイアス方法に加えて、米国特許出願第10/248968号に開示されているように縦続接続された外部バイアスを用いることも可能である。この先行出願に開示されているように、複数のスイッチを直列にターンオンすることによって、スイッチ・ネットワークを介してバイアス電圧を縦続接続することが可能になり、これにより動作のために抵抗器によるバイアスを行うことが必要とされなくなる。
図4は、図2の回路の改良を示す。図4の回路は図2の回路と同様に動作するが、その相違点は、DMOSトランジスタ・ゲート電圧をクランプする浮動NMOS対のトランジスタ(M1 及びM2 )が浮動PMOSトランジスタに置き換えられていることである。この相違は、幾種かのCMOSプロセスにおいて浮動NMOSトランジスタが利用できず、且つ回路が正しく動作するようにするためにはトランジスタが浮動していなければならないので、意味のあることである。この変更はまた、必要とされたレベル・シフターのトランジスタの数を低減すること(すなわち、 図2の回路におけるトランジスタM3 及びM5 を除去すること)によって回路を幾分簡単化する。
図5は、図2の回路によって具現化された概念を拡張した回路を示している。図5の回路では、クランプ回路は完全に除去されている。この構成の利点は、クランプ・トランジスタ及びそれらの関連するレベル・シフターを使用する必要がないので、回路がより一層小さくなることである。レベル・シフター12及び14は浮動論理回路10との連絡のために未だ必要とされる。しかしながら、これらのレベル・シフターは多数のこのようなスイッチの間で共用され、従って回路全体に対して有意な面積比を構成しない。抵抗R1 は、図3に示されているMOSFETトランジスタMR1に置き換えてもよい。
図5に示されている回路の動作は以下のようになる。スイッチをオンにプログラムすることは、前に述べた例で図2の回路と同様である。すなわち、プログラミングの際に供給電圧Vddを変更して、DMOSFETトランジスタMD1及びMD2のゲートを横切って差電圧Vdd−Vtbを供給する。しかしながら、スイッチのターンオフは異なる態様で行われる。図2の実施形態では別個のターンオフ回路が設けられているのに対して、図5に示されている実施形態では(電圧Vddの異なる遷移に対応する)ターンオン及びターンオフ・プログラミング電圧の両方がトランジスタM4 を介してスイッチの共通のゲートに印加される。スイッチのターンオフの際、差Vdd−Vtbはほぼゼロにされる。そこで、2つのプログラミング・サイクルが必要になる。第1のサイクルでは、Vdd−VtbはDMOSスイッチをターンオンするのに充分になる(典型的には、5V)。次のサイクルで、Vdd−Vtbはゼロに充分近くなって、適切な隔離を行いながらスイッチをターンオフする。Vdd−Vtb=5Vであるサイクルではゲート制御電圧VP が有効であるのに対し、Vdd−Vtb=0Vであるサイクルではゲート制御電圧VN が有効である。
そこで、図5に示されている実施形態では、電圧Vddは3つの電圧レベルの間で遷移する。超音波トランスデューサを駆動するとき、送信パルスは高駆動電圧へ、例えば40Vへ上昇する。トランスデューサの駆動中、Vddは少なくとも駆動電圧、すなわち40Vに等しくなければならない。しかしながら、トランスデューサ・バイアス電圧Vtbに対するスイッチのプログラミングの際には、電圧Vddは2つの異なる電圧レベルへ下げられる。具体的な考察のために、Vtbが20Vであると仮定する。この場合、スイッチをターンオンするために、電圧Vddは、40Vから、スイッチ・トランジスタがターンオンするゲート−ソース間電圧Vgsに依存してVddとVtbとの間の差が5〜10Vになるようなレベルへ遷移させなければならない。この場合、Vddはスイッチのターンオンのために40Vから25〜30Vへ遷移させなければならない。スイッチをターンオフするためには、VddはできるだけVtbに近づけなければならない。例えば、Vddは40Vからできるだけ20Vの近くへ遷移させなければならない。
更に図5について説明すると、トランジスタM4 のゲート−ソース間電圧は、スイッチをオンにプログラムすべきときまでゼロ・ボルトに保たれる。スイッチをオンにするには、先ず電圧Vddをターンオン・プログラミング電圧へ低下させ、次いでトランジスタM4 をターンオンする。トランジスタM4 をターンオンするためには、そのゲート電圧はそのソース電圧より約5Vだけ低く、この場合、どんなターンオン・プログラミング電圧であってもそれよりも5V低くされる。トランジスタM4 のゲート電圧のこの低下は、ゲート制御電圧VP を作動させることによって達成される。
スイッチがターンオンされた後、図2について前に述べた理由で、電圧Vddは高電圧、すなわち、上記の例では40Vに戻す必要がある。
スイッチをターンオフするためには、電圧Vddを高電圧(例えば、40V)からターンオフ・プログラミング電圧(例えば、20V)へ遷移させなければならない。より一般的に云えば、VddをできるだけVtbに近づけなければならない。トランジスタM4 をターンオンされた状態に保つためには、そのゲート電圧をその新しいソース電圧よりも、すなわちVddのターンオフ・プログラミング電圧レベルよりも約5V低くしなければならない。トランジスタM4 のゲート電圧のこの低下は、ゲート制御電圧VN を作動させることによって達成される。
図1〜5に示されている回路の全ては共通に以下の利点を持つ。(1)低電力:これは、デバイスをオン又はオフ状態に保つために何ら静的電流散逸が無いことによる。電力は一つの状態から次の状態の遷移の際にのみ散逸される。(2)状態メモリ:これは、スイッチの状態がスイッチ・ゲート容量に実効的に記憶されるからである。並びに(3)複数のスイッチを縦続接続可能:これは、オン状態において静的バイアス電流及び電圧効果が無いことによる。更に、図2〜5に示されている回路は、図1に示されている回路に比べて、サイズが小さくされる、すなわち、回路密度が改善される。特に、図5に示されている実施形態は唯一つのトランジスタを有し、且つレベル・シフターが複数のスイッチに共通であるので、その回路のサイズは図1〜4に示されている回路に比べて小さい。更に、バイアス用MOSFETがトランスデューサ・バイアス抵抗の代わりに用いられる図3の実施形態では、バイアス抵抗が制御されことにより融通性が改善される。
(図5に示されているように)制御論理回路の前側に複数のレベル・シフターを配置する代わりに、各々のスイッチについて制御論理回路とプログラミング・トランジスタM4 との間に単一のレベル・シフターを配置することができる。後者の場合、制御論理回路は非浮動性である。この構成は各スイッチ・セル毎にレベル・シフターを必要とするが、本発明を実施するための実現可能なやり方である。
図5に示されている回路では、グローバル・バイアス電圧(本書では「プログラミング電圧」と呼ぶ)が静止していず、むしろプログラミング・サイクル中に変化する。しかしながら、個々のスイッチについて異なるオン抵抗をプログラムするためにスイッチFETのゲートに残されている最終的なプログラムされた電圧を変更することも可能である。これは、プログラミング・サイクルのうちの、スイッチをターンオンしてスイッチFETのゲート−ソース間電圧を設定する部分の際に、プログラミング電圧が担うレベルを注意深く選択することによって行うことができる。そこでプログラミング・サイクル自身がスイッチ毎に概ね変化しない状態に留まっている間、実際のプログラムされたゲート−ソース間電圧は、アレイの外部にあるプログラミング回路で予め規定されて記憶されているパターンに従って、スイッチ毎に異なる。このようにして、プログラミング電圧は、オン状態のDMOSFETトランジスタに異なる電圧を供給して抵抗を変更するために、スイッチ毎に変化する。プログラミング・サイクル中、グローバル・バイアス電圧は、スイッチ−オン又はスイッチ−オフ・プログラミング・サイクルが関連しているかどうかに応じてより多くの変更を受けるが、一旦高電圧パルスを正しく通過させるか又は阻止することができるようにプログラミングが完了していると、常に最高電圧(例えば、40V又は100V)へ戻る。
図5の回路の一特徴は、プログラミング・トランジスタM4 のソースと本体(ボディー)とが短絡されていることである。これは、CMOS回路において問題となるラッチアップを防止するのに役立つので、有益な特徴である。また、これにより、デバイスの本体端子をバイアスする回路に配線すべき付加的な電圧線の必要性がなくなる。
上記の接続はまた、プログラミング・トランジスタの寄生ドレイン−本体間ダイオードを通る放電路を提供することにより、オンにプログラムされているスイッチがオフ・プログラミング・パルスでリセットされるようにする。この効果は、スイッチ・セルのアレイをプログラミングするとき、幾つかのセルを選択的にオンにプログラムして他のセルをオフのままにすることは不可能であること、すなわち、プログラミング・パルスが並列の全てのセルによって受けられるので、全てのセルが自動的にリセットされることを意味する。この特徴は、スイッチ状態を保持するための局部的ディジタル・メモリを有するアレイと同様に、プログラミング・サイクルが生じる度毎に全てのセルがプログラムし直されるとき、問題にならない。しかしながら、局部的ディジタル・メモリが無い場合、オンであるスイッチが影響されないオフ・プログラミング・サイクルを可能にすることは有用である。
図6は、オフ状態プログラミングを改善した高電圧スイッチの回路図である。図6の回路は図5の回路を僅かに修正して、選択されたスイッチのみをオフにプログラムできるようにするものである。本体端子をプログラミング・トランジスタM4 のソースから切断して、本体端子に別個のバイアス電圧Vdd_BIASを接続することによって、オフ・プログラミング・サイクル中にDMOSFETを放電させる経路が除かれる。Vdd_BIASは典型的には、プログラミング・トランジスタM4 のソースが受ける最高電圧(例えば、100V)に一定に保たれる。プログラミング電圧Vdd_CNTLがこの高電圧からより低いプログラミング電圧(例えば、オン時の25V、オフ時の20V)へ遷移するのに対して、Vdd_BIASは高電圧に留まって、プログラミング・トランジスタの寄生ドレイン・ダイオードを常に逆バイアスし、これにより寄生ドレイン・ダイオードがDMOSFETのゲートを放電させるのを防止する。
DMOSFETを放電させることができる別の経路は、プログラミングFETトランジスタM4 自身が意図せずにターンオンされた場合である。これは、M4 のゲート電圧がDMOSFETのゲート電圧よりも低い電位に保たれた場合に生じることがある。この状況は、図6の回路において、異常な状態が生じることを防止する付加的な回路が無いときに浮動制御論理回路10がプログラミング電圧Vdd_CNTLに対してバイアスされた場合に生じ得る。この状況は、以下に述べるようにプログラミング電圧を注意深く選択することによって防止することができる。
図7は、図6の実施形態がどのように動作するのかを具体的に表すプログラミング・サイクルの典型的なシーケンスを示す。破線はプログラミング・トランジスタM4 のゲートに現れる電圧を表し、実線はプログラミング・トランジスタのソースに現れる電圧を表し、プログラミング電圧はVdd_CNTLで表されている。この例で、DMOSFETのドレイン(従って、ソース)接続部が20Vにバイアスされていると仮定する。そこで、スイッチをターンオン及びターンオフするには、20Vのトランスデューサ・バイアス電圧(Vtb)に対してDMOSFETゲート電圧を変更する。制御信号VP 及びVN はアースを基準としたTTL又はCMOSレベルである。これらは浮動制御論理回路10のレベルまで増大され、浮動制御論理回路10はこれらの信号をグローバル・プログラミング・サイクル信号(図示せず)と共に使用して、プログラミング・トランジスタのための正しいゲート電圧(Vgate)を設定する。
シーケンスは、スイッチをターンオフする第1のサイクルから始まる。ターンオフは、DMOSゲート電圧をそれらのドレイン/ソース電圧(すなわち、20V)と同じになるように駆動することによって行われる。この電圧は、プログラミング・トランジスタM4 のソースを20Vにすると同時にトランジスタM4 のゲートをプログラミング電圧(すなわち、15V)より小さい5VにバイアスしてトランジスタM4 をターンオンすることによって、プログラミング・トランジスタM4 を介して印加される。ここで、各サイクルの後、プログラミング電圧及びプログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の両方がシステムの高電圧(この例では、40V)へ戻ることに注意されたい。これは、この特徴がないと、スイッチが高電圧送信パルスを正しく通過させ又は阻止することが出来なくなるので重要である。
第2のサイクルはDMOSFETをターンオンする。このとき、必要なプログラミング電圧は25Vであり、プログラミング・トランジスタのゲートが20Vに保たれて、プログラミング・トランジスタがターンオンされ、これによりプログラミング電圧がスイッチFETのゲートへ通過することができる。
第3のサイクルでは、スイッチが第4のサイクルの準備のために再びターンオフされる。第4のサイクルは、たとえプログラミング電圧がスイッチをターンオンすべきであることを表していても、スイッチがオフに保持される場合の例を示している。このサイクルは、スイッチのアレイにおいて、所与のプログラミング・サイクルの際に必ずしも全てのスイッチをターンオンする必要の無い場合が生じる可能性があるので、非常に重要である。プログラミング電圧母線(Vdd_CNTL)がアレイ内の全てのスイッチに共通であるので、各スイッチはオン・プログラミング・サイクルの際にオン電圧を受ける。オフに保つ必要のあるスイッチは、それらのプログラミングFETのゲートをオン電圧(ここでは、25V)と同じ電圧でバイアスすることによって該プログラミングFETをターンオフさせる。
第5のサイクルでは、スイッチが第6のサイクルの準備のために再びターンオンされる。第6のサイクルは、たとえプログラミング電圧がスイッチをターンオフすべきであることを表していても、スイッチがオンに保持される場合の例を示している。この場合もまた、アレイ内の他のスイッチの幾つかをターンオフしながら多くのスイッチをオンに保つ必要があることが起こり得るので、重要である。
第6のサイクルについての重要な特徴は、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧が実際にプログラミング電圧よりも5V高いことである。これは、プログラミング・トランジスタがDMOSFET(図6のMD1及びMD2)からの電荷の流出を防止するために行われる。通常は、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧は、(オフ状態が保持される第4のサイクルの場合と同様に)オン状態を保持するためにプログラミング電圧と同じである。しかしながら、DMOSFETがオン状態にあり、従ってそれらのゲートに25Vがかかっているので、プログラミングFETのゲートにプログラミング電圧(20V)を印加することは、このデバイスのゲート−ドレイン間接合をターンオンさせることになる。この結果、電荷がこのデバイスのゲートから流れ出ることができ、これにより、スイッチをオンに保つことを意図しているときに該スイッチをターンオフさせることになる。
そこで、差Vdd_CNTL−VgateがMOSFETのゲートの降伏電圧よりも大きくならないことが重要である。これは、図8に示された次のようなパルス波形を使用して達成される。この場合、Vgateは、中央部で下降する以外はVdd_CNTLに密接に追従する。この中央部の変化は、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧が実際にプログラミングされる場所である。実際には、如何なる点でも差Vdd_CNTL−Vgateが、ゲートを降伏させるゲート電圧(典型的には、高電圧CMOSトランジスタでは5〜10V)よりも大きくならない限り、下降パルスの幅はVdd_CNTLパルスの幅に等しくすることができる(しかし、それより大きくしない)。
図7のプログラミング・シーケンスはサイクル1の後にサイクル2という様に表した事象の必要とされる順序ではないことを理解されたい。一般的に、サイクル1、サイクル2、サイクル4及びサイクル6は独自のものであって独立している。これらのサイクルは、送信前、送信後の受信中、及び場合によっては(他のチャンネルでの)送信中でも、任意の順序で生じさせることができ、また生じさせる。本発明は、図7に示された異なるスイッチング・サイクルについての特定の順序の動作に限定されない。
一動作モードによれば、アレイ内の全てのスイッチが、オフ・サイクル(図7のサイクル1)を使用してそれらの全てをプログラムすることによって、リセットされる。次いで、プログラミング回路は、オン・サイクル(図7のサイクル2)を使用してターンオンする必要のあるスイッチのみをターンオンする。
図2〜6に示された回路のいずれも、縦続接続のスイッチのうちの一部として使用することができる。図9に示す模範的な縦続接続の例では、直列に接続された3つのスイッチX1、X2及びX3を含んでいるが、4つ以上のスイッチを図示した態様で縦続接続することができることは勿論である。スイッチX1〜X3の状態はそれぞれのスイッチ制御回路C1〜C3によって制御される。この例では、各々の制御回路は、図7について前に説明した態様で動作することができる。
上述の回路の各々においてVN 及びVP を制御するディジタル回路(図示せず)がある。一実施形態では、このディジタル回路はスイッチの状態についての局部メモリを有している。外部制御システム(図9のプログラミング回路12)が、1つ又は複数のデータ線18を使用して、全てのスイッチ・メモリをオン、オフ又は無変更状態のいずれかになるようにプログラムする。次いで、グローバル選択線14(図8参照)を使用して、その状態を実際のスイッチ制御回路へ印加する。選択線が作動されるまで、VN 及びVP は共にゼロである。この状態で、スイッチ自身はその最後の状態を保持している。グローバル選択線14が作動されたとき、記憶されたスイッチ状態が、VN を高にする(スイッチのターンオフ)か、VP を低にする(スイッチのターンオン)か、又はVN 及びVP の両方を低にする(スイッチ状態の無変更)ことによって、スイッチ自身へ転送される。図8の各スイッチX1〜X3のグローバル・スイッチ・ゲート・プログラミング電圧端子が母線16に接続される。母線16は前に述べたプログラミング電圧Vdd_CNTLを伝送する。
グローバル選択線14とグローバル・スイッチ・ゲート・プログラミング電圧母線16とにより、各スイッチX1〜X3のターンオン電圧を独立にプログラムすることが可能になる。より詳しく述べると、各スイッチはそれ自身の独自のゲート・ターンオン電圧でプログラムすることができ、該ゲート・ターンオン電圧は、処理に起因する変動を補正するためにアレイ内の全てのスイッチのスイッチ・オン抵抗を調節するように使用することができる。本書で使用する用語「オン抵抗」とは、MOSFETがターンオンされたときの該MOSFETのドレインとソースとの間の抵抗を意味する。この抵抗の値はゲート−ソース間電圧と製造時の多数のプロセス・パラメータとによって決定される。プロセス・パラメータはウェーハにわたって変化するので、そのチップが取り出されるウェーハ上の場所に依存してスイッチ毎にオン抵抗が異なる可能性がある。このようなプロセス変動は、MOSFETのゲートにかかる電圧を変更することによって補正することができる。異なるゲート電圧をプログラムすることによって、異なるオン抵抗をプログラムすることができる。この手法は、デバイス特性の変動を補正するため、また他の用途について制御されたオン抵抗値をプログラムするために使用することができる。
アレイにおいて、オン抵抗は、図7のプログラミング波形を使用して、オン・サイクル中に印加されるゲート電圧をスイッチ毎に変更することによって制御することができる。先ず、全てのスイッチ制御回路が非選択状態にされ(すなわち、グローバル選択線14を使用して全ての回路においてVN 及びVP を強制的に低にし)、次いで第1のスイッチのためのゲート電圧がグローバル・ゲート電圧母線16を介して印加される。そこで、この電圧を受ける(第1の)スイッチはオン状態に「プログラム」される(すなわち、スイッチは、その抵抗がメガオームの範囲から数百オームへ低下し且つ電流がデバイスのソースとドレインとの間に流れ始めるように作動される)。一旦電圧が安定化すると、プログラミング回路12はターンオフされる。次いで第2のスイッチのためのゲート電圧がグローバル・ゲート電圧母線16を介して印加される。そこで、この電圧を受ける(第2の)スイッチはオン状態に「プログラム」される。このシーケンスは、アレイ内の全てのスイッチの各々がその適正なターンオン電圧を受けるまで繰り返すことができる。また、同様なターンオン電圧を持つスイッチの群は、その群内の各スイッチをターンオンする前にグローバル・ゲート電圧を変更しないことによって同時にバイアスすることができる。最後に、アレイにおいて、各一列のスイッチについて別々のプログラミング電圧バイアス母線16を使用して、プログラミングの速度を速めることができる。
図9について更に説明すると、第1の超音波トランスデューサU1は、送受切換え(T/R)スイッチ20がその送信スイッチ状態にあり且つスイッチX1がターンオンされているとき、超音波駆動回路10によって駆動することができ、また、第2の超音波トランスデューサU2は、T/Rスイッチ20がその送信スイッチ状態にあり且つスイッチX1及びX2の両方がターンオンされているとき、超音波駆動回路10によって駆動することができ、また、第3の超音波トランスデューサU3は、T/Rスイッチ20がその送信スイッチ状態にあり且つスイッチX1、X2及びX3の全てがターンオンされているとき、超音波駆動回路10によって駆動することができる。この場合、バイアス抵抗器が無いと仮定すると、プログラミングの際に直流経路を提供するため、ターンオン・シーケンスは以下のようにならなければならない。例えば、3つのスイッチX1、X2及びX3が左から右へ縦続接続され、且つスイッチX1が超音波駆動回路に接続されている場合、先ずX1をターンオンしなければならない。このターンオンにより、X1及びX2によって共用されている端子がX1を介して超音波駆動回路に接続される。次に、X2をターンオンすることができる。このターンオンにより、また、X2及びX3によって共用されている端子が超音波駆動回路に接続される。最後に、X3もターンオンすることができる。受信モードにおいて、それぞれの超音波トランスデューサによって検出された反射信号が、それぞれのスイッチを介して、且つ受信スイッチ状態に切り換えられたT/Rスイッチ20を介して、受信器22に接続される。
処理の変動を補正するようにスイッチをプログラムすることができるが、その前に較正を行わなければならない。要求される精度に依存して、(例えば、スイッチ・アレイの何れかの端で)1つ又は2つのスイッチについて較正を行うことができ、後者の場合は平均を使用する。較正は(例えば、製造の際に)一度行って、動作中に使用することができる。幾つかの又は全てのスイッチの群の関数であるより複雑なアルゴリズムを使用することもできる。これらのアルゴリズムには、較正のための代表的な表示子を最も良く決定するようなヒストグラム、媒介関数、統計的処理などが含まれ得る。較正は、温度変動によるパラメータのシフトを補正するために動作中に繰り返し行うこともできる。更に、スイッチの抵抗は、幾つかの用途におけるシステムによって調節して、特定の用途における遅延及び/又は減衰を改善することもできる。
本発明を好ましい実施形態について説明したが、当業者には、本発明の範囲から逸脱せずに、種々の変更を行うことができ、また構成要素を等価物と置換できることが理解されよう。更に、特定の状況を本発明の要旨から逸脱せずに本発明の教示に適合させるように多数の修正を行うことができる。従って、本発明は、本発明を実施する最良の形態として開示した特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に入る全ての実施形態を包含するものとする。
米国特許出願第10/248968号に開示されている高電圧スイッチング回路を示す回路図である。 本発明の一実施形態による高電圧スイッチング回路を示す回路図である。 本発明の別の実施形態による高電圧スイッチング回路を示す回路図である。 本発明の更に別の実施形態による浮動PMOSクランプ回路を備えた高電圧スイッチング回路を示す回路図である。 本発明のまた更に別の実施形態による浮動制御論理回路を備えた高電圧スイッチング回路を示す回路図である。 図5の実施形態の変形による浮動制御論理回路を備えた高電圧スイッチング回路を示す回路図である。 図6に示した回路についてのゲート制御電圧VP 及びVN 、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧Vgate(破線)、並びにプログラミング電圧Vdd_CNTLを示すグラフである。 プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧Vgate(破線)及びプログラミング電圧Vdd_CNTLをより詳しく示すグラフである。 アレイの超音波トランスデューサを選択的に駆動するための縦続接続の高電圧スイッチング回路の回路図である。
符号の説明
D1、MD2 DMOSFET
1、M2、M6、M8 NMOSトランジスタ
3、M4、M5、M7 PMOSトランジスタ
X1、X2、X3 スイッチ
14 グローバル選択線
16 母線
18 データ線

Claims (10)

  1. (a)オン及びオフ状態を持ち且つ寄生ゲート容量を有するスイッチであって、当該スイッチは、共有ゲート端子を有する一対のDMOSFET(MD1及びMD2)を含んでおり、該一対のDMOSFETのソースは互いに接続されており、該一対のDMOSFETのドレインはスイッチの入力端子及び出力端子(S1 及びS2 )にそれぞれ接続され、且つバイアス電圧レベルにバイアスされている、スイッチと、
    (b)前記スイッチをターンオン及びターンオフするための制御回路であって、
    (b1)前記スイッチの前記共有ゲート端子に接続されたドレインと、プログラミング電圧を受け取るように接続されたソースと、プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧を受け取るように接続されたゲートとを有するプログラミング・トランジスタ(M4 )と、
    (b2)前記プログラミング電圧の第1のレベルから前記プログラミング電圧の第2のレベルへの第1の遷移を生じさせる第1の回路(12)であって、前記プログラミング電圧の前記第2のレベルは前記プログラミング電圧の前記第1のレベルよりも低く、且つ前記スイッチをターンオンするのに充分な大きさだけ前記バイアス電圧レベルよりも高くなっている、第1の回路(12)と、
    (b3)前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第1のレベルから前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第2のレベルへの第2の遷移を生じさせる第2の回路(M7 及びM8 )であって、前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第1のレベルは前記プログラミング電圧の前記第1のレベルにほぼ等しく、また、前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第2のレベルは、前記プログラミング・トランジスタをターンオンするのに充分な大きさだけ前記プログラミング電圧の前記第2のレベルよりも低くなっていて、これにより前記プログラミング電圧の前記第2のレベルが前記プログラミング・トランジスタを介して前記スイッチの前記共有ゲート端子に印加されるようになっている、第2の回路(M7 及びM8 )と、を含んでいる制御回路と、
    を有することを特徴とする回路。
  2. 前記第2の回路は浮動制御論理回路(10)を含んでいる、請求項1記載の回路。
  3. 前記第2の回路はレベル・シフター(12,14)を含んでいる、請求項1記載の回路。
  4. 前記第2の遷移の後、前記第1の回路は前記プログラミング電圧の前記第2のレベルから前記プログラミング電圧の前記第1のレベルへ戻す第3の遷移を生じさせ、且つ前記第2の回路は前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第2のレベルから前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第1のレベルへ戻す第4の遷移を生じさせる、請求項1記載の回路。
  5. 更に、前記スイッチの前記入力端子に結合された駆動回路(10)と、前記スイッチの前記出力端子に結合されていて、前記スイッチ及び前記駆動回路の両方がターンオンされているとき前記駆動回路によって駆動される超音波トランスデューサとを含んでいる請求項4記載の回路。
  6. 更に、前記スイッチの前記入力端子に結合された受信器(22)と、前記スイッチの前記出力端子に結合されていて、前記スイッチ及び前記受信器の両方がターンオンされているとき前記受信器に結合される超音波トランスデューサとを含んでいる請求項5記載の回路。
  7. 前記第1の回路は、前記前記プログラミング電圧の前記第1のレベルから、前記プログラミング電圧の前記第2のレベルより低く且つ前記スイッチがターンオフされる前記バイアス電圧レベルに充分近い前記プログラミング電圧の第3のレベルへの第5の遷移を生じさせ、また、前記第2の回路は、前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第1のレベルから、前記プログラミング・トランジスタをターンオンするのに充分な大きさだけ前記プログラミング電圧の前記第3のレベルよりも低い前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第3のレベルへの第6の遷移を生じさせ、もって、前記プログラミング電圧の前記第3のレベルが前記プログラミング・トランジスタを介して前記スイッチの前記共有端子に印加される、請求項4記載の回路。
  8. 前記第6の遷移の後、前記第1の回路は前記プログラミング電圧の前記第3のレベルから前記前記プログラミング電圧の前記第1のレベルへ戻す第7の遷移を生じさせ、且つ前記第2の回路は前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第3のレベルから前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第1のレベルへ戻す第8の遷移を生じさせ、また、前記第8の遷移の後、前記第1の回路は前記プログラミング電圧の前記第1のレベルから前記プログラミング電圧の前記第2のレベルへ戻す第9の遷移を生じさせ、且つ前記第2の回路は前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の前記第1のレベルから、前記プログラミング・トランジスタをターンオフするために前記プログラミング電圧の前記第2のレベルに充分近い前記プログラミング・トランジスタ・ゲート電圧の第4のレベルへの第10の遷移を生じさせる、請求項7記載の回路。
  9. 更に、前記スイッチをターンオフするための第3の回路を含んでおり、前記第3の回路は、前記スイッチの前記共有端子に接続されたドレイン及び前記スイッチの前記接続されているソースに接続されたソースを有するトランジスタを含んでいる、請求項1記載の回路。
  10. 更に、複数の超音波トランスデューサ(U1〜U3)と、
    駆動回路(10)と、
    受信器(22)と、
    前記複数の超音波トランスデューサに接続された複数の高電圧スイッチング回路(X1〜V3)とを含んでおり、
    前記スイッチング回路の各々は請求項1に記載されたスイッチをそれぞれ含んでおり、前記駆動回路又は前記受信器は1つ又は複数の前記スイッチを介して前記超音波トランスデューサの任意の1つに結合されている、請求項1記載の回路。
JP2004200350A 2003-09-08 2004-07-07 超音波トランスデューサ・アレイの高電圧スイッチングのための方法及び装置 Expired - Fee Related JP4754193B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/605,093 2003-09-08
US10/605,093 US6759888B1 (en) 2003-03-06 2003-09-08 Method and apparatus for high-voltage switching of ultrasound transducer array

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005081140A true JP2005081140A (ja) 2005-03-31
JP4754193B2 JP4754193B2 (ja) 2011-08-24

Family

ID=34225862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004200350A Expired - Fee Related JP4754193B2 (ja) 2003-09-08 2004-07-07 超音波トランスデューサ・アレイの高電圧スイッチングのための方法及び装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4754193B2 (ja)
CN (1) CN100411304C (ja)
DE (1) DE102004033254B4 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008518553A (ja) * 2004-10-29 2008-05-29 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ センサ素子の再構成可能なアレイのためのスイッチング回路
JP2011161167A (ja) * 2010-02-15 2011-08-25 Toshiba Corp 超音波プローブ
JP2012505696A (ja) * 2008-10-20 2012-03-08 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 高電圧トランスデューサを備える低電圧超音波システム
WO2015189982A1 (ja) * 2014-06-13 2015-12-17 株式会社日立製作所 スイッチ回路およびこれを用いた超音波探触子ならびに超音波診断装置
JP2018535592A (ja) * 2015-10-08 2018-11-29 マイクロチップ テクノロジー インコーポレイテッドMicrochip Technology Incorporated 最適化されたcmosアナログスイッチ

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1949856B1 (en) * 2005-11-11 2014-08-06 Hitachi Medical Corporation Ultrasonic probe and ultrasonographic device
DE102008040674A1 (de) * 2007-09-10 2009-03-12 Robert Bosch Gmbh Schaltung und Verfahren zum Schalten von Wechselspannungen
WO2011079879A1 (en) 2009-12-30 2011-07-07 Stmicroelectronics S.R.L. Low voltage isolation switch, in particular for a transmission channel for ultrasound applications
EP2656502A1 (en) 2010-12-23 2013-10-30 STMicroelectronics S.r.l. Low voltage isolation switch, in particular for a transmission channel for ultrasound applications
US8710541B2 (en) * 2012-03-20 2014-04-29 Analog Devices, Inc. Bi-directional switch using series connected N-type MOS devices in parallel with series connected P-type MOS devices
CN103296022B (zh) * 2012-12-21 2016-04-20 上海中航光电子有限公司 显示面板的开关电路及显示面板
CN105811946B (zh) 2014-12-31 2019-01-15 微芯片科技公司 在不利用高电压电源情况下传输高电压信号的模拟开关
WO2018024834A1 (en) * 2016-08-04 2018-02-08 Koninklijke Philips N.V. Ultrasound system front-end circuit for a 128-element array probe
CN107786283B (zh) * 2016-08-30 2021-11-30 通用电气公司 发射和接收装置及超声系统

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62240032A (ja) * 1986-04-10 1987-10-20 株式会社東芝 超音波診断装置
JPH0210763A (ja) * 1988-06-28 1990-01-16 Nec Corp 半導体集積回路
JPH0456511A (ja) * 1990-06-26 1992-02-24 Yokogawa Electric Corp スイッチ回路
JPH06204834A (ja) * 1993-01-07 1994-07-22 Nec Corp スイッチ回路
JPH11215835A (ja) * 1998-01-26 1999-08-06 Kumamoto Prefecture 電力用非接地半導体スイッチの駆動回路
JP2000353944A (ja) * 1999-06-10 2000-12-19 Denso Corp スイッチ回路および多値電圧出力回路
WO2002075924A2 (en) * 2001-03-20 2002-09-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Circuit and method for controlling a dynamic, bi-directional high voltage analog switch and ultrasound examination apparatus equipped with such a circuit
JP2004274721A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 General Electric Co <Ge> 超音波トランスデューサ・アレイのための集積型高電圧スイッチング回路

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4595847A (en) * 1983-10-20 1986-06-17 Telmos, Inc. Bi-directional high voltage analog switch having source to source connected field effect transistors
US5212474A (en) * 1990-05-07 1993-05-18 U.S. Philips Corporation Quasi-static level shifter
GB2327544B (en) * 1997-07-16 2001-02-07 Ericsson Telefon Ab L M Electronic analogue switch
ATE378734T1 (de) * 1999-09-30 2007-11-15 Imec Inter Uni Micro Electr Verfahren und vorrichtung zur pegelverschiebung
US6288603B1 (en) * 2000-06-16 2001-09-11 Stmicroelectronics S.R.L. High-voltage bidirectional switch made using high-voltage MOS transistors

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62240032A (ja) * 1986-04-10 1987-10-20 株式会社東芝 超音波診断装置
JPH0210763A (ja) * 1988-06-28 1990-01-16 Nec Corp 半導体集積回路
JPH0456511A (ja) * 1990-06-26 1992-02-24 Yokogawa Electric Corp スイッチ回路
JPH06204834A (ja) * 1993-01-07 1994-07-22 Nec Corp スイッチ回路
JPH11215835A (ja) * 1998-01-26 1999-08-06 Kumamoto Prefecture 電力用非接地半導体スイッチの駆動回路
JP2000353944A (ja) * 1999-06-10 2000-12-19 Denso Corp スイッチ回路および多値電圧出力回路
WO2002075924A2 (en) * 2001-03-20 2002-09-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Circuit and method for controlling a dynamic, bi-directional high voltage analog switch and ultrasound examination apparatus equipped with such a circuit
JP2004274721A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 General Electric Co <Ge> 超音波トランスデューサ・アレイのための集積型高電圧スイッチング回路

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008518553A (ja) * 2004-10-29 2008-05-29 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ センサ素子の再構成可能なアレイのためのスイッチング回路
JP2012505696A (ja) * 2008-10-20 2012-03-08 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 高電圧トランスデューサを備える低電圧超音波システム
JP2011161167A (ja) * 2010-02-15 2011-08-25 Toshiba Corp 超音波プローブ
WO2015189982A1 (ja) * 2014-06-13 2015-12-17 株式会社日立製作所 スイッチ回路およびこれを用いた超音波探触子ならびに超音波診断装置
CN106464248A (zh) * 2014-06-13 2017-02-22 株式会社日立制作所 开关电路和使用该开关电路的超声波探头以及超声波诊断装置
JPWO2015189982A1 (ja) * 2014-06-13 2017-04-20 株式会社日立製作所 スイッチ回路およびこれを用いた超音波探触子ならびに超音波診断装置
US10517570B2 (en) 2014-06-13 2019-12-31 Hitachi, Ltd. Switch circuit, ultrasound probe using the same, and ultrasonic diagnosis apparatus
JP2018535592A (ja) * 2015-10-08 2018-11-29 マイクロチップ テクノロジー インコーポレイテッドMicrochip Technology Incorporated 最適化されたcmosアナログスイッチ

Also Published As

Publication number Publication date
CN100411304C (zh) 2008-08-13
DE102004033254A1 (de) 2005-03-31
DE102004033254B4 (de) 2014-02-20
JP4754193B2 (ja) 2011-08-24
CN1595801A (zh) 2005-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6956426B2 (en) Integrated high-voltage switching circuit for ultrasound transducer array
JP4754193B2 (ja) 超音波トランスデューサ・アレイの高電圧スイッチングのための方法及び装置
US11768282B2 (en) Multilevel bipolar pulser
EP3435872B1 (en) Symmetric receiver switch for bipolar pulser
US7314445B2 (en) Integrated low-voltage transmit/receive switch for ultrasound imaging system
US20150269879A1 (en) Driving circuit and driving method, goa unit and display device
JP2006122659A (ja) モザイクセンサ配列走査の制御方法及びデバイス
EP1374401A2 (en) Circuit and method for controlling a dynamic, bi-directional high voltage analog switch and ultrasound examination apparatus equipped with such a circuit
JP6177256B2 (ja) 双方向トランジスタを備えた超音波制御のためのシステム
US11921240B2 (en) Symmetric receiver switch for ultrasound devices
KR100416686B1 (ko) 의료용 초음파 진단 시스템에 사용되는 집적된 고전압펄스 발생 회로
US6943786B1 (en) Dual voltage switch with programmable asymmetric transfer rate
US6031515A (en) Display driver
KR20030051209A (ko) 레벨 쉬프터를 갖는 쉬프트 레지스터
WO2010114086A1 (ja) 超音波診断装置、及び送波信号発生回路
KR20120092070A (ko) 캐스코드 트리밍을 이용한 통합 초음파 송신기
KR100696696B1 (ko) 레벨 시프터 및 이를 이용한 표시 장치
JPH1026952A (ja) 容量性負荷の駆動回路及び表示装置
JPH03106115A (ja) ドライバ回路
JPH02136134A (ja) 超音波診断装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070626

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101005

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101228

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20101228

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101228

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20110107

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110330

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110426

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110525

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees