JP2005075772A - ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法 - Google Patents

ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005075772A
JP2005075772A JP2003308366A JP2003308366A JP2005075772A JP 2005075772 A JP2005075772 A JP 2005075772A JP 2003308366 A JP2003308366 A JP 2003308366A JP 2003308366 A JP2003308366 A JP 2003308366A JP 2005075772 A JP2005075772 A JP 2005075772A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
zeolite
peroxide
metal
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003308366A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4292392B2 (ja
Inventor
Tomonori Kanaki
朝則 叶木
Takashi Atokuchi
隆 後口
Shigeru Yao
滋 八尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP2003308366A priority Critical patent/JP4292392B2/ja
Priority to NO20042200A priority patent/NO20042200L/no
Priority to US10/856,886 priority patent/US7285688B2/en
Priority to CNA2004100476156A priority patent/CN1572368A/zh
Priority to EP04291358A priority patent/EP1481730B1/fr
Publication of JP2005075772A publication Critical patent/JP2005075772A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4292392B2 publication Critical patent/JP4292392B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

【課題】 本発明の課題は、フェニルエーテルを酸化してヒドロキシフェニルエーテルを製造する技術において、ヒドロキシフェニルエーテルを収率良く且つオルト位置換体を優先的に製造する方法を提供することである。
【解決手段】 酸性ゼオライト、カルボン酸及び燐酸の存在下、下式(1)で表わされるフェニルエーテルを過酸化物で酸化することを特徴とする下式(2)で表わされるヒドロキシフェニルエーテルの製造法に関するものである。
【化1】
Figure 2005075772

(式中、Rは、炭素原子数1〜5のアルキル基を表わす。)
【化2】
Figure 2005075772

(式中、Rは前記と同義である。)
【選択図】 なし

Description

本発明は、ゼオライト系触媒、カルボン酸及び燐酸の存在下、フェニルエーテルを過酸化物で酸化してヒドロキシフェニルエーテルを製造する方法に関するものである。
下式(2)で表わされるヒドロキシフェニルエーテルにおいて、例えば、Rがメチル基であるo−メトキシフェノール(グアヤコール)は、医薬や香料の原料として用いられ(非特許文献1)、p−メトキシフェノールは、酸化防止剤として或いは医薬等の原料として用いられる(特許文献1)重要な化合物である。
Figure 2005075772
(式中、Rは、炭素原子数1〜5のアルキル基を表わす。)
フェニルエーテルを酸化して一段でヒドロキシフェニルエーテルを製造する反応においては、通常、オルト位が酸化されたo−ヒドロキシフェニルエーテルと、パラ位が酸化されたp−ヒドロキシフェニルエーテルが同時に生成する(例えば非特許文献2〜3参照)。ヒドロキシフェニルエーテルの産業上の有用性は、その置換様式により異なるが、特にオルト位置換体とパラ位置換体とで大きく異なる。例えば、o−メトキシフェノールは、医薬や香料の原料としてとして重要であり、p−メトキシフェノールは抗酸化剤として重要である。(特許文献1及び非特許文献1参照)
従って工業的にこれらを併産する場合、収率はもとより、オルト位置換体とパラ位置換体の生成割合が問題となる。このため、オルト位置換体又はパラ位置換体を優先的に得る技術はそれぞれが重要である。
フェニルエーテルを酸化して一段階でヒドロキシフェニルエーテルを製造し、且つオルト位置換体を優先的に製造する技術としては以下のものが挙げられる。
例えば非特許文献2では、アゾ系化合物のパーオキサイドを酸化剤とした、光酸化によるアニソールからのメトキシフェノール製造法が記載されている。この方法ではオルト位置換体が優先的に生成される(オルト位置換体/パラ位置換体の生成比(以下o/p比と記載)=1.78)が、酸化剤基準の目的物の収率は30%程度である。また、非特許文献3では複素環構造を有するN−オキシド化合物を酸化剤とした、光酸化によるアニソールからのメトキシフェノールの製造法が記載されている。この方法でもオルト位置換体が優先的に生成される(o/p比=1.47)が、酸化剤基準のメトキシフェノールの全収率は42%程度であった。これらの技術では、反応が無触媒で進行するという利点があるが、高価な酸化剤を使用するにもかかわらず、目的生成物の収率が十分でないという問題点がある。
以上述べたように、オルト位置換体を優先的に酸化させる技術に関しては、酸化剤基準のヒドロキシフェニルエーテルの収率が40%程度のものしか報告されておらず、高収率でヒドロキシフェニルエーテルを得る技術は見出されていない。
特開平9−151151号公報 13901の化学薬品,化学工業日報社,2001年,p.653 Journal of American Chemical Society,103(1981),p.3045−3049 Journal of Chemical Society Perkin Transition,1,6(1990),p.863−867 Journal of Physical Chemistry,104(2000),p.2853〜2859 Microporous and Mesoporous Matarials,40(2000)p.271−281 Keulemans,"Gas Chromatography",Reinhold,New York,1957,p.39 触媒調製化学、講談社(1980)p.49−73 理化学辞典,岩波書店,第4版,1993
本発明の課題は、フェニルエーテルを酸化してヒドロキシフェニルエーテルを製造する技術において、ヒドロキシフェニルエーテルを収率良く且つオルト位置換体を優先的に製造する方法を提供することである。
本発明者らは、前記の課題を解決するために検討した結果、酸性ゼオライト、好ましくはプロトン型βゼオライトを触媒として用いて、カルボン酸及び燐酸の存在下、フェニルエーテルを過酸化物で酸化することによって、ヒドロキシフェニルエーテルを高収率で且つオルト位置換体を優先的に製造できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は次の通りである。
第1の発明は、酸性ゼオライト、カルボン酸及び燐酸の存在下、下式(1)で表わされるフェニルエーテルを過酸化物で酸化することを特徴とする下式(2)で表わされるヒドロキシフェニルエーテルの製造法に関するものである。
Figure 2005075772
(式中、Rは前記と同義である。)
Figure 2005075772
(式中、Rは前記と同義である。)
第2の発明は、過酸化物が過酸化水素またはカルボン酸パーオキサイドである、第1の発明のヒドロキシフェニルエーテルの製造法に関するものである。
第3の発明は、酸性ゼオライトが、プロトン型ゼオライトである、第1又は2の発明のヒドロキシフェニルエーテルの製造法に関するものである。
第4の発明は、酸性ゼオライトが、アンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトルにおいて、330℃を中心としてプラスマイナス100℃の範囲の脱離ピークを示す酸点が存在し、且つ500℃以上の脱離ピークを示す強い酸点の量が2.5μmol/g以下であるプロトン型βゼオライトである第1又は2の発明のヒドロキシフェニルエーテルの製造法に関するものである。
第5の発明は、酸性ゼオライトがアルカリ土類金属、遷移金属、2B族金属、第3周期から第6周期の3B族金属、第5周期から第6周期の4B族金属、又はランタノイド金属担持プロトン型βゼオライトである、第1又は2の発明のヒドロキシフェニルエーテルの製造法に関するものである。(これら元素の族及び周期の名称は、非特許文献8の付録IIの元素の周期表(a)長周期型に基づく)
本発明の、触媒の分離回収が容易で固定床への応用が可能な酸性ゼオライトを触媒として用いる方法により、カルボン酸及び燐酸の存在下、フェニルエーテルを過酸化物で酸化することにより、タールを殆ど副生することなく、ヒドロキシフェニルエーテルを高収率で、且つパラ位置換体に比べてオルト位置換体を優先的に得ることができる。
以下に本発明を詳しく説明する。
本発明で使用されるフェニルエーテルは、前記式(1)で表わされる。
前記式(1)において、Rは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数1〜5のアルキル基(なお、これら置換基は構造異性体を含む。)である。
上記、フェニルエーテルの好ましい態様としては、メトキシベンゼン(アニソール)、エトキシベンゼン(フェネトール)、n−プロポキシベンゼン、イソプロポキシベンゼン、n−ブトキシベンゼン、t−ブトキシベンゼン等のアルコキシベンゼン類が挙げられる。
本発明で使用されるカルボン酸としては、例えば、モノカルボン酸、ジカルボン酸が挙げられる。モノカルボン酸としては、例えば、炭素原子数1〜20個、好ましくは1〜10個の直鎖状又は分岐状脂肪族モノカルボン酸や芳香族モノカルボン酸を挙げることができる。これら化合物の水素原子はハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素又はヨウ素)で置換されていてもよい。ハロゲン原子の数及び位置は、反応に関与しなければ特に限定されない。
直鎖状脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、モノフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ブロモ酢酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、が挙げられる。
分岐状脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、2−メチルプロパン酸、2−フルオロプロパン酸、2−クロロプロパン酸、2−ブロモプロパン酸、2,2−ジメチルプロパン酸、2−メチルブタン酸、2,2−ジメチルブタン酸、3−メチルブタン酸、2,3−ジメチルブタン酸、3,3−ジメチルブタン酸、が挙げられる。芳香族モノカルボン酸としては、例えば、安息香酸、フェニル酢酸が挙げられる。
ジカルボン酸としては、例えば、炭素原子数2〜20個、好ましくは2〜10個の直鎖状又は分岐状脂肪族ジカルボン酸や芳香族ジカルボン酸を挙げることができる。これら化合物の水素原子はハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素又はヨウ素)で置換されていてもよい。ハロゲン原子の数及び位置は、反応に関与しなければ特に限定されない。直鎖状脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、蓚酸、無水酢酸、1,3−プロパン二酸、1,4−ブタン二酸、1,5−ペンタン二酸、1,6−ヘキサン二酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸が挙げられる。分岐状脂肪族ジケトンとしては、例えば、2−メチル−1,3−プロパン二酸、2,2−ジメチル−1,3−プロパン二酸が挙げられる。芳香族ジケトンとしては、例えば、フタル酸が挙げられる。
本発明で使用されるカルボン酸として好ましいものは、炭素原子数1〜10個の直鎖状脂肪族モノカルボン酸であり、その中でも酢酸、プロパン酸が特に好ましい。
カルボン酸の使用量は、過酸化物に対するカルボン酸のモル比(カルボン酸:過酸化物)が0.2:1〜5:1になるような割合であることが好ましい。
燐酸としては、o−燐酸、ピロ燐酸、メタ燐酸、三燐酸、四燐酸、ポリ燐酸、無水燐酸、燐酸水溶液が挙げられるが、燐酸水溶液が好ましい。燐酸水溶液の濃度としては、0.001重量%以上、100重量%未満が好ましい。
燐酸の使用量は、フェニルエーテルに対する燐酸の重量比(燐酸:フェニルエーテル)が0.0001:1〜0.05:1になるような割合であることが好ましい。
本発明で使用される過酸化物は、過酸化水素などの無機過酸化物、又はカルボン酸パーオキサイドが挙げられる。
カルボン酸パーオキサイドとしては、例えば、炭素原子数が2〜20個、好ましくは2〜10個であるものが挙げられる。これら化合物としては、例えば、酢酸パーオキサイド、プロパン酸パーオキサイド、ブタン酸パーオキサイド、2−メチルプロパン酸パーオキサイド、2−フルオロプロパン酸パーオキサイド、2−クロロプロパン酸パーオキサイド、2−ブロモプロパン酸パーオキサイド、2,2−ジメチルプロパン酸パーオキサイド、2−メチルブタン酸パーオキサイド、2,2−ジメチルブタン酸パーオキサイド、3−メチルブタン酸パーオキサイド、2,3−ジメチルブタン酸パーオキサイド、3,3−ジメチルブタン酸パーオキサイドが挙げられる。
過酸化水素としては、0.1重量%以上、好ましくは0.1〜90重量%の過酸化水素水を使用することができるが、30〜80重量%のものが更に好ましい。
本発明で使用される過酸化物としては、過酸化水素水または炭素原子数が2〜10個のカルボン酸パーオキサイドが好ましく、更には30〜80重量%の過酸化水素水、酢酸パーオキサイド、又はプロパン酸パーオキサイドが好ましい。このカルボン酸パーオキサイドはカルボン酸と過酸化水素の接触により合成可能であり、ここで使用されるカルボン酸は前記と同様のものである。
過酸化物の使用量は、フェニルエーテルに対する過酸化物のモル比(過酸化物:フェニルエーテル)が1:1〜1:100、さらには1:5〜1:20になるような範囲であることが好ましい。
過酸化物の反応系内への添加方法としては、一括して反応開始時に添加しても良いが、数回に分割して添加、または送液ポンプを用いて微量ずつ連続的に添加することもできる。分割添加の場合は、一回あたりの過酸化物添加量のフェニルエーテルに対する量はモル比で2:100〜0.05:100、さらに好ましくは2:100〜0.1:100である。また、分割添加、連続添加いずれの場合においても、反応系内における過酸化物のフェニルエーテルに対する量はモル比で2:100〜0.05:100、さらには1:100〜0.1:100の範囲に制御されるのが好ましい。
本発明で使用される酸性ゼオライトは、X、Y、ZSM−5、ZSM−11、モルデナイト、シャバザイト、β等各種ゼオライトのプロトン型のものが用いられるが、好ましくはプロトン型βゼオライトである。
プロトン型βゼオライトとしては、通常のプロトン型βゼオライト以外に、アンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトルにおいて、330℃を中心としてプラスマイナス100℃の範囲の脱離ピークを示す酸点が存在し、且つ500℃以上の脱離ピークを示す強い酸点の量が2.5μmol/g以下であるプロトン型βゼオライトを用いることができる。
本発明では、これらのプロトン型βゼオライト、或いはこれらにアルカリ土類金属、遷移金属、2B族金属、第3周期から第6周期の3B族金属、第5周期から第6周期の4B族金属、又はランタノイド金属などの金属担持を行ったものが使用される。
これらのプロトン型βゼオライトの内、アンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトルにおいて、330℃を中心としてプラスマイナス100℃の範囲の脱離ピークを示す酸点が存在し、且つ500℃以上の脱離ピークを示す強い酸点の量が2.5μmol/g以下であるプロトン型βゼオライト、又はこのプロトン型βゼオライトに前記金属担持を行ったものが好ましい。
プロトン型βゼオライトは、非特許文献4に記載の方法などで調製される。例えば、同文献に記載の方法により、ケイ素源(シリカゲル等)、アルミニウム源(アルミン酸ナトリウム、擬ベーマイト等)、及びアルキルアンモニウム(水酸化テトラエチルアンモニウム等)を原料として、水熱合成した後、焼成して得られるβゼオライト(以下AS(as-synthesized)βゼオライトと記載)を硝酸アンモニウム,塩化アンモニウムなどのアンモニウム塩の水溶液であるアンモニウムイオン含有水溶液(アンモニウム塩濃度:0.1〜40重量%)中、20〜120℃で1〜20時間加熱処理し、イオン交換水などで洗浄して、20〜150℃で乾燥後、300〜650℃で1〜10時間焼成することによって得られる。或いは、前記ASβゼオライトを0.365g/L(リットル)〜36.5g/L塩酸水溶液中に浸し、室温〜100℃の間で数分から数日処理した後、イオン交換水等で洗浄し、室温〜150℃で乾燥、150℃〜650℃で焼成して得たプロトン型βゼオライトも同様に好適に使用し得る。
なお、ASβゼオライトは、上記の通り非特許文献4に記載の方法により調製してもよく、市販のものを好適に使用することもできる。
ASβゼオライト中のアルミニウム(骨格内アルミニウム)の含有量は、Al:Si(原子比)が1:25〜1:10000になるような割合であることが好ましい。なお、この比率は、ASβゼオライトの原料であるSi化合物とAl化合物、例えば珪酸ナトリウムとアルミン酸ナトリウムの組成で制御可能である。
アンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトルにおいて、330℃を中心としてプラスマイナス100℃の範囲の脱離ピークを示す酸点が存在し、且つ500℃以上の脱離ピークを示す強い酸点の量が2.5μmol/g以下であるプロトン型βゼオライトは、上記ASβゼオライト、酸性水溶液による処理が施されていないプロトン型βゼオライト、アンモニウムイオン交換型βゼオライト、又はアルカリ金属イオン交換型βゼオライト等を、酸性水溶液に浸漬した後、取り出して、水洗し、乾燥後、焼成処理して得られる。
ここで酸性水溶液による処理が施されていないプロトン型βゼオライトとしては、市販のもの、或いは非特許文献4に記載の方法により新に調製されたプロトン型βゼオライトを使用することができる。
アンモニウムイオン交換型βゼオライトは、市販のものを使用することができる。またアルカリ金属イオン交換型βゼオライトは、プロトン型βゼオライトをアルカリ金属の硝酸塩、塩酸塩又は硫酸塩などの金属イオン含有水溶液に浸漬処理する非特許文献4に記載の方法により調製することができる。
これらβゼオライトのうちでは、前記の酸性水溶液による処理が施されていないプロトン型βゼオライトが好適に用いられる。
ここで酸性水溶液として使用される酸としては、特に制限されないが、脂肪族カルボン酸(蟻酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸等)、芳香族カルボン酸(安息香酸等)、アミノ酸(アスパラギン酸、グルタミン酸等)、又はスルホン酸(トリフルオロメチルスルホン酸等)などの有機酸、或は無機酸(硝酸、燐酸、弗酸、塩酸、硫酸等)が挙げられるが、無機酸が好ましく、更には硝酸が好ましい。
前記酸性水溶液としては、pH0〜6に調製されたものが使用される。また、使用量は、前記βゼオライトが充分に浸漬する量であれば良く、特に限定されない。
前記βゼオライトの酸性水溶液への浸漬温度は、室温から120℃の範囲であり、好ましくは40〜90℃である。
また、浸漬時間は1〜12時間である。
この浸漬操作は、攪拌しながら行うことが好ましいが、静置しても十分同様な効果が得られる。
次に、酸性水溶液に浸漬されたβゼオライトは、取り出されて、水洗される。ここで取り出し方法は、特に限定されないが、例えば、濾過等の方法によって行われる。また、水洗に使用される水としては、イオン交換水が好ましい。
前記の水洗されたβゼオライトは乾燥される。
乾燥の温度範囲は、90〜150℃である。乾燥時間は、前記βゼオライトの量によるが、1時間〜2日である。
この乾燥後、前記βゼオライトは焼成処理される。焼成の温度範囲は、350〜950℃であるが、450〜850℃が好ましい。
焼成時間は、1〜24時間である。
上記の酸性水溶液処理を施して得られるプロトン型βゼオライトは、アンモニア昇温脱離法(NH−TPD、昇温速度20℃/分、測定範囲100℃〜700℃)のスペクトルを未処理のものと比較した場合、330℃を中心としてプラスマイナス100℃の範囲の脱離ピークを示す酸点を有し、且つ500℃以上の脱離ピークを示す強い酸点の量が2.5μmol/g以下、更には0.0005μmol/g(同脱離ピークの検出限界から算出)以上、2.5μmol/g以下であるという特徴を有している。なお、未処理のものの200℃付近の脱離ピークは、分散力等によってβゼオライト構造上に存在する物理吸着アンモニアに由来するものであり、酸性水溶液によって顕著に減少している(図2参照)。
ここで、強い酸点の量は、前記アンモニア昇温脱離法(NH−TPD)での、脱離アンモニア量から計算される(非特許文献5参照)。
また、この脱離アンモニア量の計算は、非特許文献6に記載の定量方法に従って、330℃を中心とした主ピークの裾にのった500℃以上の脱離ピークを、先の主ピークの延長線によって区切り、その面積から定量した(図1及び下式1参照)。
Figure 2005075772
(式中のAは、330℃を中心とする主ピーク、Bは、500℃以上の脱離ピークを表す。図1参照。)
また、本発明のプロトン型βゼオライトは、そのFT−IRスペクトルを未処理のものと比較した場合、3782cm−1の吸収が検出限界以下である特徴を有する。(図3参照)
本発明で用いられる金属担持プロトン型βゼオライトとしては、上記プロトン型βゼオライトにアルカリ土類金属、遷移金属、2B族金属、第3周期から第6周期の3B族金属、第5周期から第6周期の4B族金属、又はランタノイド金属を担持させて焼成したものが使用できる。アルカリ土類金属としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムが挙げられるが、好ましくはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムである。遷移金属としては、スカンジウム、イットリウムなどの3A族、チタン、ジルコニウムなどの4A族、バナジウム、ニオブなどの5A族、クロム、モリブデン、タングステンなどの6A族、マンガンなどの7A族、鉄、コバルト、ニッケルなどの8族、銅、銀、金などの1B族が挙げられるが、好ましくはイットリウム、ニオブ、タンタル、マンガン、コバルト、ニッケル、銀である。2B族金属としては、亜鉛が好ましい。第4周期から第6周期の3B族金属としては、ガリウム、インジウムが好ましい。ランタノイド金属としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、サマリウム、イッテルビウムが好ましい。また、第5周期から第6周期の4B族金属である、錫、鉛が好ましい。金属の担持方法としては、通常のイオン交換法、含浸法、化学蒸着(CVD)法、機械的混練法などの金属担持手法が適用可能であるが、イオン交換法又は含浸法が好ましい。
イオン交換法による前記金属担持プロトン型βゼオライトの調製は、非特許文献7に記載の方法などで行うことができる。例えば、プロトン型βゼオライトを前記金属の硝酸塩、塩酸塩又は硫酸塩などの水溶液である金属イオン含有水溶液(金属塩濃度:0.1〜40重量%)中、20〜120℃で1〜20時間加熱処理し、イオン交換水などで洗浄して、20〜150℃で5分〜24時間乾燥後、300〜650℃で1〜10時間焼成することによって得られる。プロトン型βゼオライトに担持された前記金属イオンは、Mδ+/Al(δは1,2又は3の整数を表す。)が0.0001〜10、更には0.01〜1(Mδ+は前記金属イオンを表し、Alはプロトン型βゼオライトの骨格内アルミニウムを表す。)の比(原子比)になるような範囲であることが好ましい。
含浸法による金属担持プロトン型βゼオライトは、非特許文献7に記載の方法などで行うことができる。例えば以下に示す方法で調製可能である。金属の硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩などの無機塩、もしくはアルコキシドなどの有機塩を任意の溶媒に溶解させた溶液を所定量、あらかじめ焼成処理したβゼオライトに含浸させる。これを90℃〜140℃で攪拌加熱し、溶媒を蒸発させた後、300〜650℃にて1〜10時間焼成する。この際、含浸操作はビーカーや磁性るつぼを用いた方法が好適に用いられるが、ロータリーエバポレーターを用いて溶液中に担体をいれ、溶媒を減圧除去して乾固するという方法で行ってもよい。プロトン型βゼオライトに担持された金属は、M/Alが0.01〜1000、更には0.1〜100(Mは担持する金属、Alは骨格内に導入されたアルミニウムを表す。)の比(原子比)になるような範囲であることが好ましい。
プロトン型βゼオライトの使用量は、フェニルエーテルに対するプロトン型βゼオライトの重量比(プロトン型βゼオライト:フェニルエーテル)が1:1〜1:500、更には1:5〜1:100になるような範囲であることが好ましい。
本発明で使用されるプロトン型βゼオライトの形状は、粉体、粒体、ペレット、ハニカム状成形体などを挙げることができる。
ヒドロキシフェニルエーテルの製造法に応じた形状としては、例えば、液相バッチ式反応器を用いて製造する時には粉体、粒体などを使用するのが好ましく、液相流通式反応器を用いた時にはペレット、ハニカム状成形体などが好ましい。
本発明のヒドロキシフェニルエーテルの製造では、反応温度は、20〜300℃、更には40〜200℃であることが好ましい。反応時間は、触媒の種類や反応温度によって異なるが、特に制限は無い。また、反応は大気圧で行えるが減圧又は加圧下で行ってもよい。反応は、液相で、バッチ式、流通式、トリクルベッド方式などで行うことができる。
本発明における反応としては、例えば、フェニルエーテル、過酸化水素、カルボン酸及び燐酸を、βゼオライトをあらかじめ充填した反応器に供給して、フェニルエーテルを酸化してヒドロキシフェニルエーテルを生成させ、反応器から反応混合物を排出させる反応などが挙げられる。
本発明で製造されるヒドロキシフェニルエーテルは、原料のフェニルエーテルの構造に対応し、1種類あるいは数種類のものの混合物として得られる。また、これらのヒドロキシフェニルエーテルは、常法にて分離、精製して得ることができる。
[実施例]
以下、本発明を実施例及び比較例によって具体的に説明する。なお、本発明はこれら実施例で制限されるものではない。
ヒドロキシフェニルエーテルの収率は、次式に従って求めたものである。なお、分析はガスクロマトグラフィーにより行った。
Figure 2005075772
参考例1.酸性水溶液によるプロトン型βゼオライトの処理
Al:Si=1:37.5であるゼオリスト製のプロトン型βゼオライト(以後H/βと標記する)10.0gを、pHが1.3の硝酸水溶液が50ml入ったナスフラスコに入れ、これをオイルバスで85℃で攪拌しながら2時間加熱した。次いで、ゼオライトを十分にイオン交換水で洗浄し、吸引濾過した後110℃で乾燥、550℃で2.5時間空気焼成した。得られたβゼオライト(以後H/βHNOと標記する)のICP発光分析を行ったところ、βゼオライト中のアルミニウムが部分的に抜け、Al:Si=1:78であった。
参考例2.カルシウム担持プロトン型βゼオライトの調製
硝酸カルシウム四水和物1.8gをイオン交換水に溶解させることにより、Caイオン含有水溶液を15ml調製した。得られた水溶液にAl:Si=1:37.5であるゼオリスト製のプロトン型βゼオライト2gを浸漬し、85℃で14hr保温することにより、プロトンとカルシウムイオンのイオン交換を行った。得られた懸濁液を吸引濾過し、110℃で乾燥後、550℃で2.5hr焼成することにより、カルシウム担持プロトン型βゼオライト1.9gを得た(以後Ca/H/βと標記する)。ICP発光分析を行ったところ、該βゼオライト中に導入されたカルシウムとAlの比(原子比)は、Ca/Al=0.28であった。
参考例3.酸性水溶液処理したプロトン型βゼオライトへのカルシウム担持
参考例2と同様の方法でH/βHNOに対してカルシウムを担持した触媒を調製した(以後Ca/H/βHNO)。ICP発光分析を行ったところ、該βゼオライト中に導入されたカルシウムとAlの比(原子比)は、Ca/Al=0.41であった。
Al:Si=1:37.5であるゼオリスト製のプロトン型βゼオライト0.50g、アニソール46.0g(0.425mol)、酢酸0.64g(0.0107mol)、85重量%燐酸水溶液0.02gを300mlのフラスコに入れ、窒素雰囲気に置換した後、オイルバスで攪拌しながら100℃まで昇温した。次いで、この温度において、0.10gの60%重量過酸化水素水を滴下し、3分後、6分後、9分後、12分後、15分後の間隔で0.10gづつ滴下して、計0.60g(0.0106mol)の過酸化水素水を6回に分けて加えた。最初の滴下から180分になるまで反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが41.3%、p−メトキシフェノールが26.0%で、合計収率は67.3%であった。反応液は薄い赤褐色に着色したのみであり、タール分の蓄積は殆ど観察されなかった。
触媒を参考例1で調製したH/βHNOとした以外は実施例1と同様に反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが48.5%、p−メトキシフェノールが29.3%で、合計収率は77.8%であった。反応液は薄い赤色に着色したのみであり、タール分の蓄積は殆ど観察されなかった。
触媒を参考例2で調製したCa/H/βとした以外は実施例1と同様に反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが44.2%、p−メトキシフェノールが29.7%で、合計収率は73.9%であった。反応液は薄い赤色に着色したのみであり、タール分の蓄積は殆ど観察されなかった。
参考例3で調製したCa/H/βHNO0.20g、アニソール23.0g(0.213mol)、酢酸0.32g(0.00535mol)、85重量%燐酸水溶液0.02gを300mlのフラスコに入れ、窒素雰囲気に置換した後、オイルバスで攪拌しながら100℃まで昇温した。次いで、この温度において、0.10gの60%重量過酸化水素水を滴下し、3分後、6分後の間隔で0.10gづつ滴下して、計0.30g(0.00530mol)の過酸化水素水を3回に分けて加えた。最初の滴下から180分になるまで反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが49.5%、p−メトキシフェノールが29.9%で、合計収率は79.4%であった。反応液は薄い赤色に着色したのみであり、タール分の蓄積は殆ど観察されなかった。
比較例1
酢酸を加えない以外は実施例1と同様に反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが28.0%、p−メトキシフェノールが12.4%で、合計収率は40.4%であった。
Figure 2005075772
H/β :プロトン型βゼオライト
H/βHNO :硝酸水溶液で処理したプロトン型βゼオライト
Ca/H/β :カルシウム担持プロトン型βゼオライト
Ca/H/βHNO:カルシウム担持した硝酸水溶液処理プロトン型βゼオライト
o/p比 :オルト位置換体/パラ位置換体の生成比
参考例1で調製した硝酸処理したプロトン型βゼオライト0.20g、アニソール11.5g(0.106mol)、酢酸0.20g(0.00333mol)、85重量%燐酸水溶液0.02gを300mlのフラスコに入れ、窒素雰囲気に置換した後、オイルバスで攪拌しながら120℃まで昇温した。次いで、この温度において、0.10gの60%重量過酸化水素水を滴下し、3分後、6分後に更に0.10g滴下して、計0.30g(0.00529mol)の過酸化水素水を3回に分けて加えた。10分経過後オイルバスの温度を140℃に上げ、最初の滴下から60分になるまで反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが39.9%、p−メトキシフェノールが28.5%で、合計収率は68.4%であった。
カルボン酸をプロパン酸(プロピオン酸)0.24g(0.00324mol)とした以外は実施例4と同様に反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが34.2%、p−メトキシフェノールが23.7%で、合計収率は57.9%であった。
カルボン酸を2−メチル−プロパン酸(イソ酪酸)0.28g(0.00318mol)とした以外は実施例4と同様に反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが28.8%、p−メトキシフェノールが21.3%で、合計収率は50.1%であった。
カルボン酸を2,2−ジメチル−プロパン酸(ピバル酸)0.33g(0.00323mol)とした以外は実施例4と同様に反応させた。
その結果、メトキシフェノールの収率は、o−メトキシフェノールが27.7%p−メトキシフェノールが22.1%で、合計収率は49.8%であった。
Figure 2005075772
H/βHNO:硝酸水溶液で処理したプロトン型βゼオライト
アニソールの代わりにフェネトール(エトキシベンゼン)52.0g(0.425mol)を反応基質として用い、反応温度を120℃、反応時間を60分とした以外は実施例1と同様に反応させた。
その結果、エトキシフェノールの収率は、o−エトキシフェノールが44.3%、p−エトキシフェノールが29.9%で、合計収率は74.2%であった。反応液は赤色に着色しただけであり、タール分の蓄積は殆ど観察されなかった。
Figure 2005075772
H/βHNO:硝酸水溶液で処理したプロトン型βゼオライト
プロトン型βゼオライトのアンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトル(模式図) H/β(38)及びH/βHNO(38)のアンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトル H/β(38)及びH/βHNO(38)のFT−IRスペクトル

Claims (5)

  1. 酸性ゼオライト、カルボン酸及び燐酸の存在下、下式(1)で表わされるフェニルエーテルを過酸化物で酸化することを特徴とする下式(2)で表わされるヒドロキシフェニルエーテルの製造法。
    Figure 2005075772
    (式中、Rは、炭素原子数1〜5のアルキル基を表わす。)
    Figure 2005075772
    (式中、Rは前記と同義である。)
  2. 過酸化物が過酸化水素またはカルボン酸パーオキサイドである、請求項1に記載のヒドロキシフェニルエーテルの製造法。
  3. 酸性ゼオライトが、プロトン型ゼオライトである、請求項1又は2記載のヒドロキシフェニルエーテルの製造法。
  4. 酸性ゼオライトが、アンモニア昇温脱離法(NH−TPD)のスペクトルにおいて、330℃を中心としてプラスマイナス100℃の範囲の脱離ピークを示す酸点が存在し、且つ500℃以上の脱離ピークを示す強い酸点の量が2.5μmol/g以下であるプロトン型βゼオライトである請求項1又は2記載のヒドロキシフェニルエーテルの製造法。
  5. 酸性ゼオライトが、アルカリ土類金属、遷移金属、2B族金属、第3周期から第6周期の3B族金属、第5周期から第6周期の4B族金属、又はランタノイド金属担持プロトン型βゼオライトである、請求項1又は2記載のヒドロキシフェニルエーテルの製造法。
JP2003308366A 2003-05-30 2003-09-01 ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法 Expired - Fee Related JP4292392B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003308366A JP4292392B2 (ja) 2003-09-01 2003-09-01 ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法
NO20042200A NO20042200L (no) 2003-05-30 2004-05-26 Novel proton type B zeolite, preparation method thereof and process for preparing phenol compound using the same
US10/856,886 US7285688B2 (en) 2003-05-30 2004-05-27 Proton type β zeolite, preparation method thereof and process for preparing phenol compound using the same
CNA2004100476156A CN1572368A (zh) 2003-05-30 2004-05-27 质子型β沸石,其制备方法及使用其制备酚化合物的方法
EP04291358A EP1481730B1 (fr) 2003-05-30 2004-05-28 Procédé de préparation de composés phénoliques en mettant en oeuvre Zéolite Beta de type protonique

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003308366A JP4292392B2 (ja) 2003-09-01 2003-09-01 ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005075772A true JP2005075772A (ja) 2005-03-24
JP4292392B2 JP4292392B2 (ja) 2009-07-08

Family

ID=34410857

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003308366A Expired - Fee Related JP4292392B2 (ja) 2003-05-30 2003-09-01 ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4292392B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018177715A (ja) * 2017-04-17 2018-11-15 三井化学株式会社 アルコキシフェノール類の製造方法
JP2020110761A (ja) * 2019-01-11 2020-07-27 株式会社豊田中央研究所 NOx浄化装置及びそれを用いたNOx浄化方法
CN115504868A (zh) * 2021-06-23 2022-12-23 中国石油化工股份有限公司 苯酚生产愈创木酚的方法和装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018177715A (ja) * 2017-04-17 2018-11-15 三井化学株式会社 アルコキシフェノール類の製造方法
JP7046498B2 (ja) 2017-04-17 2022-04-04 三井化学株式会社 アルコキシフェノール類の製造方法
JP2020110761A (ja) * 2019-01-11 2020-07-27 株式会社豊田中央研究所 NOx浄化装置及びそれを用いたNOx浄化方法
JP7165061B2 (ja) 2019-01-11 2022-11-02 株式会社豊田中央研究所 NOx浄化装置及びそれを用いたNOx浄化方法
CN115504868A (zh) * 2021-06-23 2022-12-23 中国石油化工股份有限公司 苯酚生产愈创木酚的方法和装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4292392B2 (ja) 2009-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6278561B2 (ja) 結晶性アルミノシリケート及びその製造方法
US20140336411A1 (en) Catalyst for the oxidation of hydrocarbons consisting of molybdenum, vanadium, niobium, tellurium, manganese and cobalt
KR101919030B1 (ko) 메탈로-실리케이트 물질 및 금속 이온을 포함하는, 락트산 및 2-하이드록시-3-부텐산 또는 그것의 에스테르로의 당의 전환 방법
US11123719B2 (en) Metal-loaded zeolite catalysts for the halogen-free conversion of dimethyl ether to methyl acetate
JP2007185656A (ja) シクロアルカノンの製造方法
JP6494034B2 (ja) リンを含有するlev型結晶性アルミノシリケート、およびその製造方法、ならびにリンを含有するlev型結晶性アルミノシリケートを含む触媒
JP2007268363A (ja) グリセリン脱水用触媒、グリセリン脱水用触媒の製造方法、アクロレインの製造方法、およびアクロレイン誘導体の製造方法
JP2016050142A (ja) Aei型ゼオライトの製造方法
JP4292392B2 (ja) ヒドロキシフェニルエーテルの製造方法
JP4169070B2 (ja) フェノールの製造方法
JP2542401B2 (ja) アルケンカルボン酸エステルの製造法
US7285688B2 (en) Proton type β zeolite, preparation method thereof and process for preparing phenol compound using the same
JP2010090025A (ja) Mtw構造型のゼオライトの調製方法
EP1447131B1 (en) Method for isomerizing halogenated aromatics
JP6563019B2 (ja) オリゴシランの製造方法
JP2005060384A (ja) フェノール化合物の製造方法
JP4059022B2 (ja) 二価フェノールの製造法
JP4419440B2 (ja) 新規プロトン型βゼオライト
JP4885469B2 (ja) キヌクリジン類の製造方法
JP2009073736A (ja) 新規プロトン型βゼオライト
JP2008207156A (ja) ケトン化合物の製造方法
JP2008207156A5 (ja)
JP2007301505A (ja) グリセリン脱水用触媒、およびアクロレインの製造方法
TW200902149A (en) Y-85 and modified LZ-210 zeolites
JP2002255541A (ja) モルデナイト構造を有するゼオライト、モルデナイト構造を有するゼオライトの製造方法、芳香族化合物転化用触媒組成物および転化方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090311

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090324

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130417

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130417

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140417

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees